一种铜抛光剂及其制备方法

文档序号:3315641阅读:368来源:国知局
一种铜抛光剂及其制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种铜抛光剂及其制备方法,旨在提供一种抛光效果稳定,使用方便的铜抛光剂及其制备方法,其技术要点是:该铜抛光剂每升含下述组分:双氧水200-500g,氨基三乙酸二钠10-30g,二甘醇丁醚30-60g,酸80~120g,缓蚀剂3-8g,苯甲醇40-80g,余量为水;该铜抛光剂的制备方法:1)称取各个组分;2)将步骤1)称取的组分放入反应器,加水至1L,然后在40-50℃搅拌20-60分钟即得铜抛光剂;属于金属清洁【技术领域】。
【专利说明】一种铜抛光剂及其制备方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种抛光剂,具体地说,是涉及一种铜抛光剂,属于金属清洁技术领 域。

【背景技术】
[0002] 金属器具加工成形后表面通常会附着一层油污或其它化学制剂,器具使用一段时 间后由使用环境的腐蚀,在表面会产生锈迹,为了美观和延长使用寿命,许多金属零部件都 需要一定的光亮度,抛光处理是零部件加工重要的环节,在抛光处理过程中常添加抛光剂, 以提高金属零部件的光亮度,并清洁金属表面。但现有抛光剂存在返锈快,可适用金属种类 窄、清洗不彻底等问题,许多抛光剂中含有氟化合物或含磷化合物,对环境污染。而且市场 上常用的抛光剂以固体为主,即抛光膏,这种产品在使用时往往是间歇式手段操作,劳动强 度大,单位产量低,对精细结构表面处理不够完全。


【发明内容】

[0003] 针对上述问题,本发明的目的在于提供一种抛光效果稳定,使用方便的铜抛光剂, 本发明还提供了该铜抛光剂的制备方法。
[0004] 为此,本发明提供的前一技术方案是这样的:该铜抛光剂,每升铜抛光剂含下述组 分:双氧水200-500g,氨基三乙酸二钠10-30g,二甘醇丁醚30-60g,酸80?120g,缓蚀剂 3_8g,苯甲醇40-80g,余量为水。
[0005] 上述的铜抛光剂,每升铜抛光剂含下述组分:双氧水300?400g,氨基三乙酸二钠 15-25g,二甘醇丁醚40-50g,无机酸90?110g,缓蚀剂4-7g,苯甲醇50-70g,余量为水。
[0006] 进一步的,上述的铜抛光剂,所述的酸为柠檬酸。
[0007] 进一步的,上述的铜抛光剂,所述的缓蚀剂为乙酰单乙醇胺。
[0008] 为了制备该铜抛光剂,本发明的后一技术方案是提供该铜抛光剂的制备方法,该 方法依次包括下述步骤:
[0009] 1)按下述的质量称取各个组分:双氧水200_500g,氨基三乙酸二钠10_30g,二甘 醇丁醚30-60g,酸80?120g,缓蚀剂3-8g,苯甲醇40-80g ;
[0010] 2)将步骤1)称取的组分放入反应器,加水至1L,然后在40-50°C搅拌20-60分钟 即得铜抛光剂。
[0011] 与现有技术相比,本发明提供的技术方案具有如下优点:
[0012] 1.本发明铜抛光剂抛光效果好,能迅速除去铜表面的锈蚀物质,提高金属表面的 光亮度,操作简单,金属制品无残留。
[0013] 2.本发明的金属抛光剂抛光效果稳定,具有可除锈、除油、去除氧化物、防锈、清洗 和抛光等多种功能。 【具体实施方式】
【权利要求】
1. 一种铜抛光剂,其特征在于,每升铜抛光剂含下述组分:双氧水200-500g,氨基三乙 酸二钠10-30g,二甘醇丁醚30-60g,酸80?120g,缓蚀剂3-8g,苯甲醇40-80g,余量为水。
2. 根据权利要求1所述的铜抛光剂,其特征在于,每升铜抛光剂含下述组分:双氧水 300?400g,氨基三乙酸二钠15-25g,二甘醇丁醚40-50g,无机酸90?110g,缓蚀剂4-7g, 苯甲醇50-70g,余量为水。
3. 根据权利要求1或者2所述的铜抛光剂,其特征在于,所述的酸为柠檬酸。
4. 根据权利要求1或者2所述的铜抛光剂,其特征在于,所述的缓蚀剂为乙酰单乙醇 胺。
5. 权利要求1所述的铜抛光剂的制备方法,其特征在于,依次包括下述步骤: 1) 按照权利要求1所述的质量称取各个组分; 2) 将步骤1)称取的组分放入反应器,加水至1L,然后在40-50°C搅拌20-60分钟即得 铜抛光剂。
【文档编号】C23F3/06GK104046991SQ201410283543
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年6月23日 优先权日:2014年6月23日
【发明者】宋云 申请人:梧州恒声电子科技有限公司
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