在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ito层的工艺方法
【专利摘要】本发明提供一种在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，涉及电子显示平板生产【技术领域】，采用切割磨边好的触控基板玻璃，进行化学强化处理；在处理后的基板玻璃上印制油墨边框；采用大气低温等离子体射流(Air Plasma)清洗处理工艺去除基板玻璃表面油墨中有机物残留；采用纯水进行清洗；采用真空磁控溅射方法依次镀制H膜层、L膜层、ITO膜层，基板玻璃镀膜温度为210-250℃。本发明提供的在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，通过大气低温等离子体射流(Air Plasma)前清洗处理，解决了直接在油墨上镀制消影层附着力不足、造成消影层掉膜的缺陷；解决了直接在油墨上镀制ITO膜层对温度要求较高的缺陷，同时优化消影效果。
【专利说明】在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及电子显示平板生产【技术领域】，具体涉及一种在已印制油墨玻璃上镀制 消影层及ITO层的工艺方法。
【背景技术】
[0002] 随着平板显示行业发展，触控类应用近年在消费电子领域得到了飞速的发展，各 厂家对显示效果均提出了更高的要求，同时为提升品质、节约成本，近年来TOL等工艺流程 越来越流行，通过先对玻璃进行切割磨边，化学强化、印制油墨、镀制ITO层后再进行丝印、 显影等工序完成触控模组，此种工序流程由于没有后续切割破坏，可以保证较高强度，目前 市场上发展前景良好。同时为了改善显示效果，目前许多厂家提出了在油墨上再增加消影 层改善显示效果的方案。
[0003] 目前现有技术镀制消影层时均为高温镀制（300°C以上），在油墨上增加一道消影 层时，由于油墨表面有机物残留、油墨不耐高温等原因，镀膜时需降低温度，会造成电阻率 过高造成ITO膜偏厚，影响最终的消影效果；同时油墨表面有机物残留会造成消影层与油 墨表面附着力不牢，出现掉膜，膜层可靠性不足。
【发明内容】
[0004] 本发明的目的是针对现有技术存在的缺陷，提出一种在已印制油墨玻璃上镀制消 影层及ITO层的工艺方法。
[0005] 本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现：
[0006] -种在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，其特征在于，包括如 下步骤：
[0007] (1)采用切割磨边好的触控基板玻璃，进行化学强化处理；
[0008] (2)在处理后的基板玻璃上印制油墨边框；
[0009] (3)采用大气低温等离子体射流（Air Plasma)清洗处理工艺去除基板玻璃表面 油墨中有机物残留，改变表面的性能并能保持较长时间，可以显著提升IM附着力；
[0010] (4)采用纯水进行清洗；
[0011] (5)采用真空磁控溅射方法依次镀制H膜层、L膜层、ITO膜层，基板玻璃镀膜温度 为 210-250 °C。
[0012] 所述H膜层为二氧化钛65 A (厚度）或五氧化二铌60 A (厚度），均为一种高 折射率膜。
[0013] 所述L膜层为二氧化硅500 A (厚度），为一种低折射率膜。
[0014] 所述ITO膜层的膜厚为300-350 A。
[0015] 所述触控基板玻璃厚度为0. 4-2. 0mm。
[0016] 所述大气低温等离子体射流(Air Plasma)为在大气中产生等离子体射流，去除基 板玻璃表面油墨中有机物残留。
[0017] 本发明的有益效果为：
[0018] 本发明提供的在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，通过大气低 温等离子体射流（Air Plasma)前清洗处理，解决了直接在油墨上镀制消影层附着力不足、 造成消影层掉膜的缺陷；
[0019] 解决了直接在油墨上镀制ITO膜层对温度要求较高的缺陷，同时优化消影效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0020] 图1为本发明的结构示意图。
[0021] 其中：1.基板玻璃；2.油墨；3. H膜层；4. L膜层；5. ITO图案间隙；6. ITO膜层。
【具体实施方式】
[0022] 为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结 合具体实施例和附图，进一步阐述本发明，但下述实施例仅仅为本发明的优选实施例，并非 全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得 其它实施例，都属于本专利的保护范围。
[0023] 实施例1
[0024] 如图1所示，本发明的结构为：
[0025] 包括基板玻璃1，基板玻璃1表面印制油墨2,经过大气低温等离子体射流（Air Plasma)清洗处理后，再依次镀制H膜层3、L膜层4、ITO膜层6,图中5所示的为ITO图案 间隙。
[0026] -种在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，具体步骤为：
[0027] (1)采用切割磨边好的触控基板玻璃，厚度为0.4-2. 0mm，进行化学强化处理；
[0028] (2)在处理后的基板玻璃上印制油墨边框；
[0029] (3)采用大气低温等离子体射流（Air Plasma)清洗处理工艺去除基板玻璃表面 油墨中有机物残留；
[0030] (4)采用纯水进行清洗；
[0031] (5)采用真空磁控溅射方法依次镀制二氧化钛65 A、二氧化硅500 A、ITO膜 300-350 A，基板玻璃镀膜温度为210-250 °C。
[0032] 以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术 人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本发明 的优选例，并不用来限制本发明，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种 变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所 附的权利要求书及其等效物界定。
【权利要求】
1. 一种在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，其特征在于，包括如下 步骤： (1) 采用切割磨边好的触控基板玻璃，进行化学强化处理； (2) 在处理后的基板玻璃上印制油墨边框； (3) 采用大气低温等离子体射流清洗处理工艺去除基板玻璃表面油墨中有机物残留； (4) 采用纯水进行清洗； (5) 采用真空磁控溅射方法依次镀制H膜层、L膜层、ITO膜层，基板玻璃镀膜温度为 210-250。。。
2. 根据权利要求1所述的在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，其特 征在于：所述H膜层为二氧化钛65 A或五氧化二铌60 A。
3. 根据权利要求1所述的在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，其特 征在于：所述L膜层为二氧化硅500入。
4. 据权利要求1所述的在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，其特征 在于：所述ITO膜层的膜厚为300-350 A。
5. 根据权利要求1所述的在已印制油墨玻璃上镀制消影层及ITO层的工艺方法，其特 征在于：所述触控基板玻璃厚度为0. 4-2. 0mm。
【文档编号】C23C14/08GK104498882SQ201410691285
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年11月26日 优先权日:2014年11月26日
【发明者】胡超川, 李加海, 朱磊, 江雪峰 申请人:安徽立光电子材料股份有限公司