技术总结
本发明的目的在于以低成本提供具有优异阻隔性的薄膜层压膜。本发明的另一个目的在于提供一种制造薄膜层压膜的方法，其中借助于具有低设备成本和运行成本的大气压等离子体CVD将多个薄膜涂覆在塑料膜上，并且还在于提供一种能够长时间连续操作并能够产生高速涂布的薄膜层压膜生产设备。根据本发明的薄膜包括塑料膜、包含氧化硅作为主要成分的第一氧化硅基薄膜和第一无定形碳基薄膜。第一无定形碳基薄膜形成在第一氧化硅基薄膜上。第一氧化硅基薄膜具有直径在10‑200nm范围内的针孔。
技术研发人员：铃木哲也;二神油谷;白仓眀良;小野一哉
受保护的技术使用者：利乐拉瓦尔集团及财务有限公司;学校法人庆应义塾
技术研发日：2016.11.04
技术公布日：2018.08.03