技术特征：
技术总结
本发明涉及具有气体密封的化学沉积室。具有在化学隔离室内形成的化学沉积室的化学沉积装置包括气体密封。化学沉积室包括喷头模块，该喷头模块具有带气体入口的面板，气体入口用于将反应器化学物质输送到晶片腔以处理半导体衬底。喷头模块包括主排放气体出口，以从晶片腔去除反应气体化学物质和惰性气体。惰性气体供给装置输送密封气体，所述密封气体至少部分地通过喷头模块的台阶与基座模块之间的间隙径向向内流动以形成气体密封。次排放气体出口抽出流过间隙的惰性气体中的至少一些，以提供高的佩克莱特数。
技术研发人员：拉梅什·钱德拉赛卡兰;杰里米·塔克;桑格伦特·桑普伦格
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2017.12.19
技术公布日：2018.07.20