本发明涉及一种防着板切换溅镀机构。
背景技术：
真空溅镀是在真空环境下，使用物理的方式将材料源气化为气态分子、原子或离子，通过低压气体或离子体过程在基体表面沉积，使其具有某种特殊功能薄膜的技术；因溅镀过程中，溅镀源会随机方向溅射，除了在目标基体表面附着外，还有一部分会附着在周围其他部位的表面，为保护其他结构件避免附着、沉积膜层，需要使用防着板进行覆盖防护；现有的防着板大多通过斜向设置，或加工成弧面来增加覆盖范围，但由于飞溅出的靶材大多沉积在防着板的中下部，并不能在防着板的整体均匀分布，使得防着板需要更换清理的频率较高，周期较短，增加了成本，浪费了人力。
技术实现要素：
针对上述存在的技术问题，本发明的目的是：提出了一种防着板切换溅镀机构。
本发明的技术解决方案是这样实现的：一种防着板切换溅镀机构，包含机架，机架内设有溅镀源、输送台和工作台，工作台设置在输送台上，溅镀源设置在工作台的上方，输送台的两侧均设置有防着板组件；所述防着板组件包含防着板、旋转支架和托架；所述防着板沿竖向设置，防着板的上下两侧均设置有弯折部，两侧的弯折部相互对称；所述旋转支架水平设置，旋转支架与防着板的后侧配合；所述托架设置在防着板的下侧，托架与下侧的弯折部配合。
优选的，所述托架上还设置有与弯折部配合的锁定部件。
优选的，所述防着板连同弯折部的工作表面具有均匀分布的颗粒凸起结构。
优选的，所述颗粒凸起结构的截面形状呈梯形。
由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
本发明的防着板切换溅镀机构，其防着板组件由防着板、旋转支架和托架组成，防着板的上下两侧具有相互对称的弯折结构，由于飞溅出的靶材大多沉积在防着板的中下部，因此，长时间使用后，可沿旋转支架将防着板上下换位，使防着板上下都可以较为均匀的接受靶材，减少防着板拆换清理的频率，从而降低了成本，节省了人力。
附图说明
下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明：
附图1为本发明的一种防着板切换溅镀机构的示意图；
附图2为本发明的颗粒凸起结构的示意图。
具体实施方式
下面结合附图来说明本发明。
如附图1-2所示，本发明所述的一种防着板切换溅镀机构，包含机架，机架内设有溅镀源1、输送台2和工作台3，工作台3设置在输送台2上，输送台2带动工作台3移动切换工位，溅镀源1设置在当前工作台3的上方，输送台2的两侧均设置有防着板组件。
所述防着板组件包含防着板11、旋转支架12和托架13；所述防着板11沿竖向设置，防着板11的上下两侧均设置有弯折部14，弯折部14使防着板11的上下的内侧工作面形成折面或弧形面来接收靶材，上下两侧的弯折部14相互对称；所述旋转支架12水平设置，旋转支架12与防着板11的后侧配合；所述托架13设置在防着板11的下侧，托架13与下侧的弯折部14配合，托架13上还设置有与弯折部14配合的锁定部件。
所述防着板11的竖直部分连同弯折部14的工作表面具有均匀分布的颗粒凸起结构21，颗粒凸起结构21的截面形状可以设置为梯形。
当防着板11的中下部位覆盖一定的靶材之后，可解锁托架13上的锁定部件，并沿旋转支架12转动防着板11，使其上下两侧换位，再通过托架13上的锁定部件将防着板11定位，使防着板11可额外增加一次工作周期。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。