一种煤砖的抛光方法与流程

文档序号:16215648发布日期:2018-12-08 08:19阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及煤质检测技术领域,具体公开一种煤砖的抛光方法。将煤砖经过粗磨、细磨、精磨、抛光、清洗得到粉煤光片,其中,抛光依次采用粒径为3微米的抛光液、粒径为0.3微米的抛光液和粒径为0.04微米的抛光液进行抛光。本发明提供的抛光方法中,粗磨可磨掉煤砖表层的胶,露出粉煤颗粒,使煤砖平整;细磨使煤砖表面划痕进一步缩小,划痕小于23微米;精磨使煤砖表面划痕更细小,划痕小于11微米;抛光使煤砖平整光滑,光学显微镜下几乎看不到划痕,煤砖经过分级研磨和抛光得到的粉煤光片平整光滑,且划痕少,粉煤光片质量优异。

技术研发人员:石志祥;孙玉壮;赵存良;许云;秦身钧;李彦恒;王金喜
受保护的技术使用者:河北工程大学
技术研发日:2018.08.21
技术公布日:2018.12.07
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