技术特征：
技术总结
本发明公开了一种利用激光在硅钢表面制备高硅涂层的方法，其特征在于包括如下步骤：低硅钢预处理；表面机械研磨处理SMAT；沉积涂层制备：将SMAT处理后的材料表面涂覆激光吸光涂料，其骨料组成为80‑85%SiO2，20‑22%炭黑；然后置于真空度为1.33‑2.1Pa的真空系统中，向该真空系统中通入氩气和硅烷，氩气的流量为0.03‑0.05ml/s，硅烷的流量为0.01‑0.08 ml/s，气体气氛压力为80‑100Pa，用激光器对材料表面进行激光扫描；热处理制备出厚度为0.10‑0.25mm的高硅涂层。本发明工艺可以实现快速扩散，提高渗硅层厚度；变形层可以为扩散提供足够的驱动力，促进渗硅的进行，后续激光熔覆及扩散退火热处理，提高了渗硅效率，实现快速渗硅，并且避免了常规方法中的卤族元素的污染，从而获得的高硅涂层具有更加优异的含硅量，扩大了其使用领域。
技术研发人员：钟庆东
受保护的技术使用者：湖南上临新材料科技有限公司
技术研发日：2018.11.30
技术公布日：2019.02.22