本实用新型涉及旋转靶材端面结构领域，具体来说，是一种LOWE镀膜行业所用旋转靶的改进型LOW-E玻璃旋转靶。
背景技术：
旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。
传动的旋转靶材端面为平面结构，该结构在使用中会产生积瘤，严重者会与靶材固定座的端头护罩导通引起放电，导致无法正常生产产品，甚至损坏靶材或者其固定端头。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种不会产生积瘤或放电的结构，以确保镀膜生产过程的稳定性以及有效的保护设备不被累计电荷击穿损坏的改进型LOW-E玻璃旋转靶。
为了克服上述现有技术中的缺陷本实用新型采用如下技术方案：
一种改进型LOW-E玻璃旋转靶，包括靶材和靶材背管，所述靶材紧贴在所述靶材背管的外表上，所述靶材上设有倒角，所述倒角位于所述靶材的端部上，所述倒角底部与靶材背管相距1-5mm。
进一步地，所述靶材的端部设有凸块，所述倒角位于所述凸块的最外端。
进一步地，所述凸块高于所述靶材工作部位1-4mm。
进一步地，所述倒角为45°-80°。
进一步地，所述靶材背管比所述靶材长，所述靶材背管上设有连接槽位，所述连接槽位位于靶材背管超出靶材的部位上。
本实用新型提供的改进型LOW-E玻璃旋转靶设计科学合理，与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：
1)设计简单，无需增加采购成本；
2)加工工艺简单，无需额外购置加工设备；
3)使用效果良好，有效降低放电产生的废品。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图：
图1是本实用新型一种改进型LOW-E玻璃旋转靶实施例示意图；
附图中：1-靶材；2-靶材背管；3-倒角；4-凸块；5-连接槽位。
具体实施方式
下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型，在此以本实用新型的示意性实施例及说明用来解释本实用新型，但并不作为对本实用新型的限定。
如图1所示，一种改进型LOW-E玻璃旋转靶，包括靶材1和靶材背管2，所述靶材1紧贴在所述靶材背管2的外表上，所述靶材1上设有倒角3，所述倒角3位于所述靶材1的端部上，所述倒角3底部与靶材背管2相距1-5mm。
进一步地，所述靶材1的端部设有凸块4，所述倒角3位于所述凸块4的最外端。
进一步地，所述凸块4高于所述靶材1的工作部位1-4mm。
进一步地，所述倒角3为45°-80°，本实施例中优选69°使得靶材1在机器工作时不产生积瘤。
进一步地，所述靶材背管2比所述靶材1长，所述靶材背管2上设有连接槽位5，所述连接槽位5位于靶材背管2超出靶材1的部位上，两个所述连接槽位5倾斜并与机器连接。
综上所述，本实用新型完美解决现在传动的旋转靶材端面为平面结构，在使用中会产生积瘤，严重者会与靶材固定座的端头护罩导通引起放电，导致无法正常生产产品，甚至损坏靶材或者其固定端头的缺陷。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。