本实用新型涉及板式ALD设备,具体涉及一种可延长清理周期的喷淋板。
背景技术:
喷淋板(或者称喷淋头、喷淋组件、喷淋结构)是应用在原子层沉积设备中向腔体内进气并布气的装置。但是现有的喷淋板表面很容易沉积工艺粉末,需要定期清理,周期一般为4天,每台设备清理一次的时间约3~4小时,降低了设备产能。
技术实现要素:
为了解决现有技术中原子层沉积设备的喷淋板易沉积工艺粉末,清洗周期短的技术问题,本实用新型提出了一种在喷淋板上喷涂涂层的技术方案。
一种可延长清理周期的喷淋板,喷淋板设内部气体分布管,内部气体分布管交叉布置;所述的内部气体分布管均设有喷淋孔组,所述每一个喷淋孔组由若干个与反应腔连通的喷淋孔组成,反应气体从喷淋孔喷出进入反应腔;其特征在于:所述喷淋板表面、内部气体分布管的管壁、喷淋孔的孔壁均喷涂特氟龙。
所述的喷淋孔的孔径大小及孔间距离可以调节。
本实用新型通过在传统喷淋板表面喷涂特氟龙,在中低温(200°以下)的真空环境下使用,达到喷淋板上无成核点的效果,从而使工艺粉末不易在喷淋板上沉积。
本实用新型把传统的喷淋板按以下流程进行处理:
(1)清洗去油;
(2)表面喷砂,增加表面粗糙度;
(3)在中温下镀特氟龙,温度一般在50°~150°;
有益效果:
(1)延长维护周期,根据镀膜工艺不同,维护周期能够延50%~100%;
(2)减少定期清理喷淋板的成本;
(3)有效提高设备产能。
附图说明
图1是本实用新型的喷淋板的示意图。
图2是图1的局部放大图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步的说明。
如图1所述,喷淋板1设内部气体分布管2;所述的内部气体分布管2均设有喷淋孔组(图中未示出),所述每一个喷淋孔组由若干个与反应腔连通的喷淋孔(图中未示出)组成,反应气体从喷淋孔喷出进入反应腔。
如图2所示,喷淋板表面、内部气体分布管的管壁、喷淋孔的孔壁(图中未示出)均喷覆特氟龙涂层3。
在中低温(200°以下)的真空环境下使用,达到喷淋板上无成核点的效果,从而使工艺粉末不易在喷淋板上沉积。