一种MOCVD使用的喷淋头的制作方法

本实用新型属于半导体技术领域，具体涉及MOCVD外延生产技术，特别是MOCVD外延生产设备——喷淋头的优化设计。

背景技术：

MOCVD作为LED外延生产的主流设备，其生产稼动率的提高一直是各个厂家所追求的目标。

随着MOCVD生产Run数的增加，其主要部件喷淋头表面会沉积越来越多的反应残留物，需要对喷淋头表面进行彻底清洁，但彻底清洁后需要1～2天的时间才能恢复正常的生产，严重影响了生产稼动率，所以降低喷淋头表面的反应残留物就成了提高MOCVD稼动率的首要问题。

技术实现要素：

为解决MOCVD喷淋头表面反应残留物的沉积问题，本实用新型提出一种可降低喷淋头表面反应残留物的MOCVD使用的喷淋头。

本实用新型型包括喷淋头，还包括设置在喷淋头外表面的匀气网，所述匀气网为由相互交织的钼丝组成的具有网孔的网体，所述匀气网的网孔与喷淋头的孔洞相对设置，使经过喷淋头流出的气体正好经过匀气网网孔。

本实用新型提出了一种MOCVD使用的带有匀气网的喷淋头，匀气网由钼丝交织组成，匀气网的网孔正好与喷淋头孔洞相匹配，使经过喷淋头流出的气体正好经过匀气网网孔。这样III族和V族反应气体经过喷淋头流出后并不会马上混合在一起，而是被匀气网隔开，向下经过匀气网孔洞后再被混合，能很好地降低III族和V族气体在喷淋头表面的预反应，并且喷淋头表面有匀气网的包覆，即便产生反应残留物，也会首先在匀气网上沉积，喷淋头表面始终保持洁净。当匀气网沉积一定的反应残留物后只需更换另一个新的匀气网，不需对喷淋头表面进行清洁，可以大大缩短停机时间，大幅增加MOCVD机台的稼动率。

喷淋头匀气网材质采用金属钼，钼的熔点很高，可达2620℃，在自然界单质中排名第六，钼的质量也较轻，密度（10.23g/cm³）约为钨的一半（19.36g/cm³），且钼的热膨胀系数很低，热传导率高，所以本实用新型中使用钼作为喷淋头匀气网的材质。

本实用新型中钼丝直径为0.5～2mm，匀气网的网孔直径为0.5～4mm²，匀气网与喷淋头表面之间的距离小于5mm。该钼丝直径大小和网孔大小更适应与喷淋头孔洞大小，匀气网的网孔直径与喷淋头孔洞直径相当或略大，这样能更好的保护喷淋头表面，使反应残留物优先在匀气网上沉积，使喷淋头表面始终保持洁净状态。

附图说明

图1为本实用新型中匀气网的结构示意图。

图2为本实用新型中匀气网固定在喷淋头上的示意图。

具体实施方式

如图1显示了匀气网2的结构：匀气网2为由若干横向和竖向相互交织的钼丝1组成的具有网孔6的网体，其中，钼丝直径为0.5～2mm，匀气网的网孔直径为0.5～4mm²。

如图2所示，匀气网2设置在喷淋头5的外表面，并通过设置在匀气网2边缘的若干只螺丝4固定在喷淋头5边缘预留的螺孔上，并且，各个匀气网2的网孔6与喷淋头5的孔洞3一一对应。