一种新型真空镀铝机的制作方法

本实用新型涉及一种数控真空镀膜领域，具体为一种新型真空镀铝机。

背景技术：

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

常用的镀膜机效率较低，且不能对产生的污染气体进行净化。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种新型真空镀铝机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案一种新型真空镀铝机，包括真空镀铝机箱体、观察窗、进气口、真空泵、排气口、显示屏、滚轮、环形蒸发室、电源连接线、坩埚、加热丝、加热管、激光射线口、惰性气体、靶材、基片、高能激光器、尾气净化器、二级净化滤板、后板、除尘滤网、加湿滤网和气体反应盒，所述真空镀铝机箱体上设置有观察窗，所述真空镀铝机箱体右侧设置有真空泵，所述真空泵一侧设置有进气口，所述真空泵上设置有显示屏，所述真空镀铝机箱体底端设置有滚轮，所述真空镀铝机箱体内设置有环形蒸发室，所述环形蒸发室一侧设置有电源连接线，所述环形蒸发室上设置有加热管，所述加热管上缠绕有加热丝，所述环形蒸发室上端设置有高能激光器，所述高能激光器前端设置有激光射线口，所述环形蒸发室中设置有坩埚。

进一步的，所述坩埚中设置有靶材，所述靶材下端设置有基片，且坩埚中填充有惰性气体。

进一步的，所述真空镀铝机箱体一侧设置有尾气净化器，所述尾气净化器中设置有二级净化滤板、后板、除尘滤网、加湿滤网和气体反应盒。

进一步的，所述环形蒸发室、真空泵、高能激光器以及尾气净化器均与外部电源电性连接。

进一步的，所述尾气净化器中设置有尾气排口。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种新型真空镀铝机将高能激光器与环形蒸发室合二为一，提高了镀膜的效率与质量。

1. 通过将高能激光器与环形蒸发室合二为一，提高了镀膜的效率与质量；

2. 通过设置尾气净化器能够有效祛除镀铝过程中产生的有害气体，提高

环保性能。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为坩埚内部结构示意图；

图3为真空镀铝机结构示意图；

图4为尾气净化器结构示意图。

图中：1-真空镀铝机箱体、2-观察窗、3-进气口、4-真空泵、5-排气口、6-显示屏、7-滚轮、8-环形蒸发室、9-电源连接线、10-坩埚、11-加热丝、12-加热管、13-激光射线口、14-惰性气体、15-靶材、16-基片、17-高能激光器、18-尾气净化器、19-二级净化滤板、20-后板、21-除尘滤网、22-加湿滤网、23-气体反应盒。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种新型真空镀铝机，包括一种新型真空镀铝机，包括真空镀铝机箱体1、观察窗2、进气口3、真空泵4、排气口5、显示屏6、滚轮7、环形蒸发室8、电源连接线9、坩埚10、加热丝11、加热管12、激光射线口13、惰性气体14、靶材15、基片16、高能激光器17、尾气净化器18、二级净化滤板19、后板20、除尘滤网21、加湿滤网22和气体反应盒23，所述真空镀铝机箱体1上设置有观察窗2，所述真空镀铝机箱体1右侧设置有真空泵4，所述真空泵4一侧设置有进气口3，所述真空泵4上设置有显示屏6，所述真空镀铝机箱体1底端设置有滚轮7，所述真空镀铝机箱体1内设置有环形蒸发室8，所述环形蒸发室8一侧设置有电源连接线9，所述环形蒸发室8上设置有加热管12，所述加热管12上缠绕有加热丝11，所述环形蒸发室8上端设置有高能激光器17，所述高能激光器17前端设置有激光射线口13，所述环形蒸发室8中设置有坩埚10，所述坩埚10中设置有靶材15，所述靶材15下端设置有基片16，且坩埚10中填充有惰性气体14，能够将蒸发的气态的靶材15，经过惰性气体14落在基片表面，所述真空镀铝机箱体1一侧设置有尾气净化器18，所述尾气净化器18中设置有二级净化滤板19、后板20、除尘滤网21、加湿滤网22和气体反应盒23，所述环形蒸发室8、真空泵4、高能激光器17以及尾气净化器18均与外部电源电性连接，所述尾气净化器18中设置有尾气排口。

工作原理：将真空镀铝机箱体1与外部电源连接，真空泵4工作，将环形蒸发室8内部的空气抽成真空，加热管12上的加热丝11以及高能激光器17工作，将坩埚10内的能够将蒸发的气态的靶材15，经过惰性气体14落在基片16表面。完成镀膜，最后经尾气净化器18将产生的有害气体吸收并净化然后排出。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内，不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。