1.一种研磨垫清洗方法，其特征在于，在晶圆研磨之前，通过高压液体或高压气体对研磨垫进行冲洗，通过清洁刷对研磨垫进行刷洗；在晶圆研磨之后，通过清洁刷对研磨垫进行刷洗。
2.如权利要求1所述的研磨垫清洗方法，其特征在于，所述高压液体为水。
3.如权利要求2所述的研磨垫清洗方法，其特征在于，所述水为纯水。
4.如权利要求1所述的研磨垫清洗方法，其特征在于，所述高压液体或高压气体对研磨垫的冲洗时间为10秒至20秒。
5.如权利要求1所述的研磨垫清洗方法，其特征在于，在晶圆研磨之前，先通过高压液体或高压气体对研磨垫进行冲洗，然后再通过清洁刷对研磨垫进行刷洗。
6.如权利要求1所述的研磨垫清洗方法，其特征在于，在晶圆研磨之前，先通过清洁刷对研磨垫进行刷洗，然后再通过高压液体或高压气体对研磨垫进行冲洗。
7.如权利要求1所述的研磨垫清洗方法，其特征在于，在晶圆研磨之前，通过清洁刷对研磨垫进行刷洗，通过高压液体或高压气体对研磨垫进行冲洗，所述刷洗和冲洗同时进行。
8.如权利要求1所述的研磨垫清洗方法，其特征在于，所述采用高压液体或高压气体对研磨垫进行冲洗的步骤包括：
采用较小压力的第一压力的液体或气体对研磨垫进行低压冲洗，使残留在研磨垫上的颗粒物与第一压力的液体或气体混合形成液态残留物；
采用较大压力的第二压力的液体或气体对研磨垫及所述液态残留物进行高压冲洗，以避免颗粒物在冲洗过程中对研磨垫造成的刮伤。
9.一种研磨垫清洗装置，其特征在于，包括供研磨垫清洗的冲洗装置以及供研磨垫清洗的刷洗装置。
10.如权利要求9所述的研磨垫清洗装置，所述冲洗装置包括液体冲洗装置或气体冲洗装置。