技术总结
本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种针对超薄基板的颜色膜，其特征在于：所述颜色膜自所述超薄基板以上依次叠加设置有打底层，在所述打底层的上方依次交替设置有高折射率层以及低折射率层；其中打底层为硅的氧化物层，高折射率层为氧化铌层，低折射率层为氧化硅层。本实用新型的优点是：能实现彩色膜的颜色变换，提高膜层对基底的附着力，使得基板厚度可低至0.1mm‑0.3mm不等；ICP低至0.5kW时膜层的附着力依然很好，同时基材无褶皱变形，得到的膜层具有优异的可靠性（信赖性），环测表现优异。
技术研发人员：马国水
受保护的技术使用者：光驰科技（上海）有限公司
技术研发日：2019.02.04
技术公布日：2019.11.12