一种溅射镀膜一体机用滚筒的制作方法

本实用新型涉及溅射镀膜设备技术领域，特别涉及一种溅射镀膜一体机用滚筒。

背景技术：

目前市场上生产lcd、oled、tp等元器件中材料很多例如：sio2、sin、tio2、ito、izo、金属等常用膜层材料都会用到真空磁控溅射镀膜机(pvd)；真空溅镀设备一般由阴极系统，真空系统、传送系统等部分组成；真空镀膜的核心在于连续稳定的真空腔体中制备均匀的所需膜层，目前的设备和基板都往大尺寸方向发展，就需要更少的真空腔体开腔频率，更均匀的膜层均匀行来保证设备高效稳定的运行。

现有技术中，在对小颗粒物件例如米粒大小的物件的镀膜过程中，首先需要对大量的物件进行承载，目前无论是承载托盘、承载板、承载箱等等在对大量颗粒物件进行承载后完成镀膜作业，大量的物件的溅射镀膜的程度都不均匀，且溅射镀膜的效率低下，则使的产品的合格率较低。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种溅射镀膜一体机用滚筒。

为解决上述问题，本实用新型提供以下技术方案：一种溅射镀膜一体机用滚筒，包括滚筒本体、两个滚轮、两个圆环形齿轮、若干支撑导柱和挡板组件，所述滚筒本体内部设有供待镀膜物品承放的容纳腔，所述滚筒本体的侧壁上设有与容纳腔连通的圆形贯穿槽，两个所述滚轮分别安装在滚筒本体的两端，两个所述圆环形齿轮分别安装在滚筒本体的两侧，若干所述支撑导柱围绕着所述滚筒本体的轴线方向均匀设置，所述挡板组件设置在滚筒本体的内圆周壁上。

所述圆环形齿轮的直径大于滚筒本体的直径，所述滚轮的直径大于圆环形齿轮的直径，每个所述滚轮的外圆周壁呈半圆形结构。

所述挡板组件包括第一支撑部件、第一挡板组件和第二挡板组件，所述第一支撑部件围绕着滚筒本体的轴线均匀设置在滚筒本体的内侧壁上，所述第一挡板组件和第二挡板组件均设置在滚筒本体的内圆周壁上且呈交叉状态设置。

所述第一支撑部件包括若干导向柱，每个所述导向柱均呈水平状态设置，所述导向柱的两端分别通过两个平口螺钉与滚筒本体的两端固定连接。

所述第一挡板组件包括若干围绕着滚筒本体的轴线均匀设置的第一定位挡板，每个所述第一定位挡板均呈固定角度倾斜设置在滚筒本体的内圆周壁上。

所述第二挡板组件包括若干围绕着滚筒本体的轴线均匀设置的第二定位挡板，每个所述第二定位挡板均呈固定角度倾斜设置在滚筒本体的内圆周壁上，其中所述一个第二定位挡板均设置在相邻的两个第一定位挡板之间。

所述第一定位挡板与第二定位挡板倾斜设置的固定角度均为70度。

有益效果：第一，本申请通过圆筒形结构设置，首先能够保证大量的颗粒物件在镀膜过程中稳定的承载，本申请通过滚筒本体、两个滚轮、两个圆环形齿轮、若干支撑导柱和挡板组件组成，滚筒本体内拥有供待镀膜物件承放的容纳腔，两个滚轮设置在滚筒本体的外圆周壁上，则能搭配驱动装置作业，让本申请在镀膜的过程中滚动，则能让容纳腔内的大量物件跟随着滚筒本体转动，提高所有的待镀膜的物件与成膜物质的接触面积，提高镀膜的效率。

第二，因为挡板组件设置在滚筒本体内，挡板组件分别第一挡板组件和第二挡板组件，第一挡板组件和第二挡板组件间隔交叉的设置在滚筒本体的内圆周壁上，则在所有的待镀膜的物件转动过程中，通过第一挡板组件和第二挡板组件的作用，起到不断搅动分隔待镀膜物件的作用，进一步的提高待镀膜物件与成膜物质之间的接触面积，进一步的提高镀膜的效率，提高产品的成品合格率。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图；

图2为本实用新型的正视图；

图3为本实用新型的剖视图。

附图标记说明：滚筒本体1，滚轮2，圆环形齿轮3，支撑导柱4，挡板组件5，容纳腔6，圆形贯穿槽7，导向柱8，第一定位挡板9，第二定位挡板10。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

参照图1至图3所示的一种溅射镀膜一体机用滚筒，包括滚筒本体1、两个滚轮2、两个圆环形齿轮3、若干支撑导柱4和挡板组件5，所述滚筒本体1内部设有供待镀膜物品承放的容纳腔6，所述滚筒本体1的侧壁上设有与容纳腔6连通的圆形贯穿槽7，两个所述滚轮2分别安装在滚筒本体1的两端，两个所述圆环形齿轮3分别安装在滚筒本体1的两侧，若干所述支撑导柱4围绕着所述滚筒本体1的轴线方向均匀设置，所述挡板组件5设置在滚筒本体1的内圆周壁上，本实用新型的工作原理：本申请通过圆筒形结构设置，首先能够保证大量的颗粒物件在镀膜过程中稳定的承载，本申请通过滚筒本体1、两个滚轮2、两个圆环形齿轮3、若干支撑导柱4和挡板组件5组成，滚筒本体1内拥有供待镀膜物件承放的容纳腔6，两个滚轮2设置在滚筒本体1的外圆周壁上，则能搭配驱动装置作业，让本申请在镀膜的过程中滚动，则能让容纳腔6内的大量物件跟随着滚筒本体1转动，又因为挡板组件5设置在滚筒本体1内，挡板组件5分别第一挡板组件和第二挡板组件，第一挡板组件和第二挡板组件间隔交叉的设置在滚筒本体1的内圆周壁上，则在所有的待镀膜的物件转动过程中，通过第一挡板组件和第二挡板组件的作用，起到不断搅动分隔待镀膜物件的作用，进一步的提高待镀膜物件与成膜物质之间的接触面积，进一步的提高镀膜的效率，提高产品的成品合格率。

所述圆环形齿轮3的直径大于滚筒本体1的直径，所述滚轮2的直径大于圆环形齿轮3的直径，每个所述滚轮2的外圆周壁呈半圆形结构，两个圆环形齿轮3的设置是为了对整个滚筒本体1的限位，二者是为了在滚筒本体1转动过程中能够进行稳定的控制。

所述挡板组件5包括第一支撑部件、第一挡板组件和第二挡板组件，所述第一支撑部件围绕着滚筒本体1的轴线均匀设置在滚筒本体1的内侧壁上，所述第一挡板组件和第二挡板组件均设置在滚筒本体1的内圆周壁上且呈交叉状态设置，第一支撑部件的设置能够进一步提高滚筒本体1的稳定性，第一挡板组件和第二挡板组件间隔交叉的设置在滚筒本体1的内圆周壁上，则在所有的待镀膜的物件转动过程中，通过第一挡板组件和第二挡板组件的作用，起到不断搅动分隔待镀膜物件的作用，进一步的提高待镀膜物件与成膜物质之间的接触面积，进一步的提高镀膜的效率，提高产品的成品合格率。

所述第一支撑部件包括若干导向柱8，每个所述导向柱8均呈水平状态设置，所述导向柱8的两端分别通过两个平口螺钉与滚筒本体1的两端固定连接，所有导向柱8的设置起到加强筋的作用，提高整个滚筒本体1的稳定性。

所述第一挡板组件包括若干围绕着滚筒本体1的轴线均匀设置的第一定位挡板9，每个所述第一定位挡板9均呈固定角度倾斜设置在滚筒本体1的内圆周壁上，每个第一定位挡板9呈固定角度且倾斜状态一方面是为了最大程度上的搅动容纳腔6内的待镀膜的物件，提高镀膜的效率，另一方面，能够让在转动过程中堆堵在第一定位挡板9底部的待镀膜的物件顺利的滑落且进行不断的翻动作业。

所述第二挡板组件包括若干围绕着滚筒本体1的轴线均匀设置的第二定位挡板10，每个所述第二定位挡板10均呈固定角度倾斜设置在滚筒本体1的内圆周壁上，其中所述一个第二定位挡板10均设置在相邻的两个第一定位挡板9之间，每个第二定位挡板10呈固定角度且倾斜状态一方面是为了最大程度上的搅动容纳腔6内的待镀膜的物件，提高镀膜的效率，另一方面，能够让在转动过程中堆堵在第二定位挡板10底部的待镀膜的物件顺利的滑落且进行不断的翻动作业，每个第二定位挡板10和第一定位挡板9均呈交错状态设置，使的大量的物件能够在第一定位挡板9和第二定位挡板10之间来回翻动，则能进一步提高对待镀膜物件的搅动作业。

所述第一定位挡板9与第二定位挡板10倾斜设置的固定角度均为70度，固定夹角为70度时，其翻动的程度以及不堵料的状况为最佳。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型的技术范围作出任何限制，故凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型的技术方案的范围内。