一种用于防止孔塞的化学镀铜设备的制作方法

本实用新型涉及化学镀铜设备领域，具体为一种用于防止孔塞的化学镀铜设备。

背景技术：

化学镀铜是电路板制造中的一种工艺，通常也叫沉铜或孔化，是一种自身催化性氧化还原反应，首先用活化剂处理，使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒子通常用的是金属钯粒子，铜离子首先在这些活性的金属钯粒子上被还原，而这些被还原的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层，使铜的还原反应继续在这些新的铜晶核表面上进行，而在化学镀铜的工作过程中，需要用到化铜设备对反应液进行处理。

但是，现有的化铜设备存在以下缺点：

1、由于现有化铜设备大多采用全实心滚轮的方式来辅助反应液进行流通，避免反应液由于流通性较差而自身反应析出铜颗粒，而全实心滚轮工作时对反应液的带动性较差，导致流通性较差，继而还是会造成反应液析出较多的铜颗粒，影响加工效果。

2、在出液时，出液孔和出液管道处易出现堵塞的情况，继而影响到正常的工作，降低工作效率。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种用于防止孔塞的化学镀铜设备，以解决传统的化铜设备由于现有化铜设备大多采用全实心滚轮的方式来辅助反应液进行流通，避免反应液由于流通性较差而自身反应析出铜颗粒，而全实心滚轮工作时对反应液的带动性较差，导致流通性较差，继而还是会造成反应液析出较多的铜颗粒，影响加工效果，且在出液时，出液孔和出液管道处易出现堵塞的情况，继而影响到正常的工作，降低工作效率的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于防止孔塞的化学镀铜设备，包括化铜设备的主体、用于进行排液处理的出液管、用于对反应液进行辅助流通处理的第一辅助流通结构、用于对反应液进行辅助流通处理的第二辅助流通结构、用于防止出液管堵塞的第一防孔塞结构以及用于防止出液管堵塞的第二防孔塞结构，所述主体的底部设置有支撑腿，所述主体为槽体，所述主体的顶部为开口式设计，所述出液管带有阀门，所述出液管安装于主体的一侧靠近于其底端处，且所述出液管与主体的内部连通连接，所述第一辅助流通结构和第二辅助流通结构均安装于主体的内部，所述第一防孔塞结构安装于主体的内部靠近于出液管处，所述第二防孔塞结构安装于主体的一侧以及主体的内部靠近于出液管处。

优选的，所述第一辅助流通结构包括第一滚轮，所述第一滚轮设置有两组，两组所述第一滚轮均为实心滚轮，两组所述第一滚轮呈一上一下形式活动安装于主体的内部，使得可以通过第一辅助流通结构对反应液进行初步的带动流通。

优选的，所述第二辅助流通结构包括第二滚轮，所述第二轮设置有两组，两组所述第二滚轮均为片状滚轮，两组所述第二滚轮呈一上一下形式活动安装于主体的内部，且所述第二滚轮位于同一水平高度相邻的两个第一滚轮之间，使得可以通过第二辅助流通结构提高对反应液带动流通的效果。

优选的，所述第一防孔塞结构包括过滤板，所述过滤板固定安装于主体的内部靠近于出液管处，且所述过滤板的前后两侧与主体的内部前后两侧抵接，所述过滤板的内部开设有多个贯穿的过滤孔，使得在进行出液时，可以通过过滤板对铜颗粒进行拦截。

优选的，所述过滤板采用与主体相同的材料制成，避免了过滤板与反应液反应。

优选的，所述第二防孔塞的结构包括安装板、气缸、连接板以及顶杆，所述安装板为l型，所述安装板固定安装于主体安装有出液管的一侧顶端处，所述气缸安装于安装板靠近于主体的一侧，所述连接板的一侧与气缸的伸缩端固定连接，且所述连接板的底部延伸至主体的内部，所述顶杆的一端与连接板固定连接，且所述顶杆的位置尺寸与出液管的内部通道相匹配，所述连接板和顶杆均此采用和过滤板相同的材料制成，使得可以通过第二防孔塞结构进一步的避免出液管出现堵塞情况。

本实用新型提供了一种用于防止孔塞的化学镀铜设备，具备以下有益效果：

(1)本实用新型通过设置有第一辅助流通结构和第二辅助流通结构，使得在对主体内部的反应液进行辅助流通处理时，可以通过第一滚轮和第二滚轮之间的配合，提高对反应液的带动流通性，有效的避免了反应液析出较多的通颗粒，继而避免了影响到加工效果。

(2)本实用新型通过设置有第一防孔塞结构和第二防孔塞结构，使得在进行出液工作时，可以通过第一防孔塞结构对反应液中可能出现的铜颗粒进行拦截，同时，可以通过启动气缸，带动顶杆移动对出液管进行疏通处理，从而有效的避免了出液管出现堵塞的情况而影响到正常的工作。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的过滤板侧视结构图；

图3为本实用新型的气缸安装俯视图；

图4为本实用新型的第二滚轮俯视结构图。

图中：1、主体；2、出液管；3、第一滚轮；4、第二滚轮；5、过滤板；6、过滤孔；7、安装板；8、气缸；9、连接板；10、顶杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

如图1-4所示，本实用新型提供一种技术方案：一种用于防止孔塞的化学镀铜设备，包括化铜设备的主体1、用于进行排液处理的出液管2、用于对反应液进行辅助流通处理的第一辅助流通结构、用于对反应液进行辅助流通处理的第二辅助流通结构、用于防止出液管2堵塞的第一防孔塞结构以及用于防止出液管2堵塞的第二防孔塞结构，所述主体1的底部设置有支撑腿，所述主体1为槽体，所述主体1的顶部为开口式设计，所述出液管2带有阀门，所述出液管2安装于主体1的一侧靠近于其底端处，且所述出液管2与主体1的内部连通连接，所述第一辅助流通结构和第二辅助流通结构均安装于主体1的内部，所述第一防孔塞结构安装于主体1的内部靠近于出液管2处，所述第二防孔塞结构安装于主体1的一侧以及主体1的内部靠近于出液管2处。

所述第一辅助流通结构包括第一滚轮3，所述第一滚轮3设置有两组，两组所述第一滚轮3均为实心滚轮，两组所述第一滚轮3呈一上一下形式活动安装于主体1的内部，在进行反应液的反应工作时，可以通过第一滚轮3的转动工作，带动反应液进行流动，初步避免了反应液不流动而自行反应析出铜颗粒；

所述第二辅助流通结构包括第二滚轮4，所述第二轮设置有两组，两组所述第二滚轮4均为片状滚轮，两组所述第二滚轮4呈一上一下形式活动安装于主体1的内部，且所述第二滚轮4位于同一水平高度相邻的两个第一滚轮3之间，使得在进行反应液的反应工作时，可以通过第二滚轮4的转动工作，配合其表面处的片状物，进一步的带动反应液进行流通，提高带动反应液流通的效果，继而进一步有效的避免了反应液析出铜颗粒；

可以理解的是，第一滚轮3和第二滚轮4分别通过外接的驱动机构进行转动；

所述第一防孔塞结构包括过滤板5，所述过滤板5固定安装于主体1的内部靠近于出液管2处，且所述过滤板5的前后两侧与主体1的内部前后两侧抵接，所述过滤板5的内部开设有多个贯穿的过滤孔6，使得在进行出液工作时，可以通过过滤板5配合多个过滤孔6，对流经过滤板5处的反应液中可能出现的铜颗粒进行拦截，从而有效的避免了铜颗粒进入至出液管2中；

所述过滤板5采用与主体1相同的材料制成，使得避免了过滤板5与反应液出现反应；

所述第二防孔塞的结构包括安装板7、气缸8、连接板9以及顶杆10，所述安装板7为l型，所述安装板7固定安装于主体1安装有出液管2的一侧顶端处，所述气缸8安装于安装板7靠近于主体1的一侧，所述连接板9的一侧与气缸8的伸缩端固定连接，且所述连接板9的底部延伸至主体1的内部，所述顶杆10的一端与连接板9固定连接，且所述顶杆10的位置尺寸与出液管2的内部通道相匹配，所述连接板9和顶杆10均此采用和过滤板5相同的材料制成，使得在进行出液工作时，可以通过启动气缸8，使其伸缩，配合连接板9，带动顶杆10往返运动，对出液管2处进行输出处理，进一步的避免出液管2处出现堵塞的情况而影响到正常的工作；

可以理解的是，气缸8外接有控制开关和驱动源。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。