一种石膏型浇注装置

本实用新型涉及工艺品铸造技术领域，特别是涉及一种石膏型浇注装置。

背景技术：

石膏型精密铸造工艺具有尺寸精度高、表面质量好、铸件易清理等优点，比较适合中小型精密金属工艺饰品的铸造，在工艺饰品生产中得到广泛采用。该铸造工艺的基本过程是，将石膏铸粉与水调配成一定稠度的浆料，灌注到种植了蜡模的石膏型桶中，石膏浆料静置凝结后得到具有一定强度的石膏型，将石膏型进行脱蜡及高温焙烧后，熔炼金属液并浇注成型。由于石膏型的透气性非常差，在大气下直接浇注时，常常会因为型腔内产生的背压而阻碍充填，特别是对于薄壁部位或纹饰精细的部位，由于背压的作用很容易出现残缺、轮廓不清晰等缺陷。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型旨在提出一种石膏型浇注装置，以解决由于石膏型的透气性非常差，在大气下直接浇注时，常常会因为型腔内产生的背压而阻碍充填，特别是对于薄壁部位或纹饰精细的部位，由于背压的作用很容易出现残缺、轮廓不清晰等缺陷的技术问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种石膏型浇注装置，包括真空箱，所述真空箱的上端设置有浇注口，所述真空箱内活动设置有承载架，所述承载架上设置有干砂斗，所述干砂斗内放置有筒体，所述筒体的上端为开口结构，所述筒体的开口和所述浇注口对应，所述筒体的侧壁设置有透气孔，所述筒体内用于放置石膏型，所述石膏型的开口朝上且和所述浇注口对应，还包括升降装置，所述升降装置用于顶起所述承载架以使所述筒体的开口贴合于所述浇注口，所述真空箱的一侧通过真空管连通有真空泵。

可选地，还包括隔离垫，所述隔离垫设置于所述浇注口和所述筒体的开口之间，所述隔离垫包括环形隔垫盘、设置于所述环形隔垫盘的下端的隔垫刃和设置于所述环形隔垫盘的上端的密封层。

可选地，所述隔垫刃为刀刃状。

可选地，所述升降装置包括升降气缸和连接于所述升降气缸的驱动端的顶杆，所述顶杆穿过所述真空箱的底板固定连接有托盘，所述托盘和所述承载架抵接。

可选地，所述真空箱的底部设置有固定导轨，所述承载架的下端设置有行走轮，所述行走轮上设置有与所述固定导轨配合的行走槽。

可选地，还包括支撑架，所述支撑架的上端设置有移动导轨，所述移动导轨用于和所述固定导轨对齐设置。

可选地，所述真空箱包括箱体和转动设置于所述箱体一侧的箱门，所述箱门上设置有观察窗。

可选地，所述箱体与所述箱门相对的一侧设置有照明窗，所述照明窗的外侧罩设有照明灯。

可选地，所述真空管上设置有真空阀。

可选地，所述干砂斗内填充有宝珠砂。

本实用新型实施例一种石膏型浇注装置与现有技术相比，其有益效果在于：

本实用新型实施例的石膏型浇注装置，通过将石膏型放置在筒体内，整个筒体可以进入抽真空箱内，并安放在承载架上，升降装置将承载架升起，使所述筒体的开口贴合于所述浇注口进行密闭，真空泵的抽气使真空箱内保持真空状态，进而在石膏型内形成了浇注所需的负压梯度，解决了现有石膏型浇注中因背压而阻碍充填的问题，获得了很好的浇注效果，且可以适合各种异形石膏型。

附图说明

图1是本实用新型实施例所述的石膏型浇注装置的结构示意图；

图2是本实用新型实施例所述的石膏型浇注装置的俯视图；

图3是本实用新型实施例所述的石膏型浇注装置的隔离垫的结构示意图。

图中，1、真空箱，101、箱体，102、箱门，103、观察窗，104、照明窗，105、照明灯，2、浇注口，3、承载架，4、干砂斗，5、筒体，6、石膏型，7、升降装置，71、升降气缸，72、顶杆，73、托盘，8、真空管，9、隔离垫，91、隔垫盘，92、隔垫刃，93、密封层，10、固定导轨，11、行走轮，12、支撑架，13、移动导轨。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

另外，对该具体实施方式中涉及到方位作简要说明：下述在提到每个结构件的“前”、“后”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方向或位置关系，是指附图中所示的方位或位置关系；这些位置关系仅是为了便于描述和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细的说明。

如图1－图3所示，本实用新型实施例优选实施例的一种石膏型浇注装置，包括真空箱1，真空箱根据生产需要确定尺寸，所述真空箱1的上端设置有浇注口2，具体地，为便于浇注，将浇口杯嵌入浇注口内，浇口杯的直径为150～300mm，可以满足浇注需要。所述真空箱1内活动设置有承载架3，承载架用来承载石膏型及干砂斗，整体是框架结构，承载架的上表面的外形轮廓可根据干砂斗的形状相应地进行设置。所述承载架3上设置有干砂斗4，干砂斗为顶面开口的容器，用来放置石膏型，干砂斗底部预铺一层厚度为10～20cm、粒度40～70目的干砂，优先采用热稳定好的宝珠砂，起到预防浇注时金属液跑火的安全防护作用。干砂斗可采用方形、圆形或不规则形，高度低于石膏型3cm以上。为了避免升降装置上升石膏型和箱体的上顶面抵接对石膏型造成挤压，本实施例中，将石膏型放置在筒体内进行防护，可以理解地，筒体的高度大于石膏型的高度，这样在升降装置升起时，筒体的上端面和箱体的上顶面相互作用实现密封，而筒体内的石膏型则不受影响。具体地，筒体为不锈钢制成，具有较高的结构强度。所述干砂斗4内放置有筒体5，所述筒体5的上端为开口结构，所述筒体5的开口和所述浇注口2对应，所述筒体5的侧壁设置有透气孔，这样在真空泵工作时，石膏型内的空气可以从透气孔处被带出。所述筒体5内用于放置石膏型6，所述石膏型6的开口朝上且和所述浇注口2对应，在浇注时，可以将金属液从浇注口直接浇注到石膏型内以进行塑形。还包括升降装置7，所述升降装置7用于顶起所述承载架3以使所述筒体5的开口贴合于所述浇注口2，实现筒体的开口和浇注口之间的密封，所述真空箱1的一侧通过真空管8连通有真空泵，真空泵用于维持真空箱内的负压状态，优选地，所述真空管8上设置有真空阀，方便控制真空管的通断。

一种石膏型浇注装置还包括隔离垫9，所述隔离垫9设置于所述浇注口2和所述筒体5的开口之间，所述隔离垫9包括环形隔垫盘91、设置于所述环形隔垫盘91的下端的隔垫刃92和设置于所述环形隔垫盘91的上端的密封层93，隔离垫采用上宽下窄的圆桶形结构，所述隔垫刃92呈尖锐的刀刃状，隔垫盘呈圆环形，隔垫盘的中心孔的直径比真空箱的浇注入口大50mm以上，隔垫盘的环带的宽度为20～30mm，隔垫盘的上表面粘贴一层厚度为15～20mm的耐热密封胶即为密封层，以进一步增强隔垫盘和浇注口之间的密封效果。

所述升降装置7包括升降气缸71和连接于所述升降气缸71的驱动端的顶杆72，所述顶杆72穿过所述真空箱1的底板固定连接有托盘73，所述托盘73和所述承载架3抵接，升降气缸以压缩空气为动力源，将干砂斗连同石膏型升起和降落，升降气缸上设置节流阀和电磁阀，控制升降气缸的运行速度和行程位置。

所述真空箱1的底部设置有固定导轨10，具体地，固定导轨设置在真空箱的底面中心线上，宽度20～40cm，长度与真空箱内腔长度一致。所述承载架3的下端设置有行走轮11，所述行走轮11上设置有与所述固定导轨10配合的行走槽，方便推动承载架移动进入真空箱内。

一种石膏型浇注装置还包括支撑架12，所述支撑架12的上端设置有移动导轨13，所述移动导轨13用于和所述固定导轨10对齐设置，支撑架为框架式，当需要浇注较重的石膏型时，可以将此支撑架放置在真空箱外，并将移动导轨与箱内的固定导轨对齐，以便将石膏型顺利推入箱内，对于中小型石膏型，不必使用支撑架，直接将石膏型放入箱内即可，优选地，在固定导轨末端设限位器，以避免石膏型被过度推入。

所述真空箱1包括箱体101和转动设置于所述箱体101一侧的箱门102，箱门内侧靠近四边的位置开槽埋设密封胶条，以提高箱门和箱体的密封效果。箱体的其余面的交界均封闭焊接。所述箱门102上设置有观察窗103，本实施例中，观察窗为圆形观察窗，采用厚度18～22mm的钢化玻璃。

所述箱体101与所述箱门102相对的一侧设置有照明窗104，照明窗采用厚度18～22mm的钢化玻璃制成，具有较高的结构强度。所述照明窗104的外侧罩设有照明灯105，方便观察真空箱内的浇注情况。

以重量较重的异形石膏型为例，本实用新型负压浇注装置的作用原理是：将移动导轨与固定导轨对齐连接，将承载架移到真空箱外。将干砂斗放置在承载架上，根据石膏型高度在干砂斗内预铺一定厚度的砂床，将石膏型放置在筒体内，将筒体放置在砂床上，将筒体扶正，使上表面基本保持水平，再填入干砂使筒体立稳。将隔离垫放置在筒体的上表面，隔离垫的隔垫刃与筒体的上表面接触。将载有筒体和干砂斗的承载架沿固定导轨推入真空箱内，使石膏型的开口正对真空箱的浇注口。启动升降气缸，将干砂斗升起，筒体表面的隔离垫与真空室的顶面紧密接触，而隔离刃则轻微压入筒体的表面。关闭真空箱的箱门，形成了密闭的真空室。启动真空泵，真空室内形成负压，并在石膏型内部形成负压梯度，为浇注充型提供了所需的动力条件。通过照明窗和观察窗，可以观察浇注过程中有无异常情况。

综上，本实用新型实施例提供一种石膏型浇注装置与现有技术相比，其有益效果在于：本实用新型实施例的石膏型浇注装置，通过将石膏型放置在筒体内，整个筒体可以进入抽真空箱内，并安放在承载架上，升降装置将承载架升起，使所述筒体的开口贴合于所述浇注口进行密闭，真空泵的抽气使真空箱内保持真空状态，进而在石膏型内形成了浇注所需的负压梯度，解决了现有石膏型浇注中因背压而阻碍充填的问题，获得了很好的浇注效果，且可以适合各种异形石膏型。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。