1.一种陶瓷抛光装置，其特征在于，包括：
抛光盆，用于盛装抛光溶液；
抛光模，用于放置待加工陶瓷，所述抛光模设置于所述抛光盆中；
搅拌棒，用于搅拌所述抛光盆中的所述抛光溶液；
转动轴，设置于所述抛光盆的底部，用于驱动所述抛光盆和所述抛光模转动而使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理并且使得所述抛光溶液流动。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述搅拌棒设置于所述抛光盆中。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述抛光模包括不锈钢基底和防腐蚀层，所述防腐蚀层包围于所述不锈钢基底的外部。
4.根据权利要求3所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述防腐蚀层由聚氨酯制成。
5.根据权利要求4所述的一种陶瓷抛光装置，其特征在于：所述聚氨酯的表面设置有网格状凹槽。
6.一种陶瓷抛光方法，其特征在于，基于权利要求1至5任一所述的陶瓷抛光装置，所述方法包括：
将待加工陶瓷放置于所述抛光模上；
在所述抛光盆中加入所述抛光溶液并且使得所述抛光溶液沉没待加工陶瓷；利用所述转动轴带动所述抛光盆和所述抛光模转动，使得所述抛光模对待加工陶瓷进行抛光处理，并且使得所述抛光溶液流动；
利用所述搅拌棒搅拌所述抛光溶液。
7.根据权利要求6所述的一种陶瓷抛光方法，其特征在于：所述抛光溶液包括高纯水、三氧化二铝、碳酸钠、碳酸钙和悬浮剂。
8.根据权利要求6所述的一种陶瓷抛光方法，其特征在于：所述抛光模包括不锈钢基底和防腐蚀层，所述防腐蚀层包围于所述不锈钢基底的外部。
9.根据权利要求8所述的一种陶瓷抛光方法，其特征在于：所述防腐蚀层由聚氨酯制成。
10.根据权利要求9所述的一种陶瓷抛光方法，其特征在于：所述聚氨酯的表面设置有网格状凹槽。