一种蚀刻液送液组件及蚀刻机的制作方法

1.本实用新型属于线路板制造领域，更具体地说，是涉及一种蚀刻液送液组件及蚀刻机。


背景技术：

2.酸性蚀刻是印刷电路板制作过程中必不可少的关键工序，酸性蚀刻电路板后会产生大量的酸性蚀刻废液，对于酸性蚀刻废液中金属铜的回收，目前一般采用电解法，在采用电解法进行铜回收时阳极会产生大量的强氧化性气体氯气，其中大部分氯气会回用至蚀刻工序中。同时蚀刻废液进行电解提铜后，会进行调配再生系统调配成再生液，进行循环利用，在此过程中，会将电解中产生的氯气与再生液溶合，一方面实现蚀刻废液的循环利用，一方面对电解产生的氯气回用，这样的工艺有利于降低成本。由于氯气的溶解度不大，因此氯气回溶产生的再生蚀刻液会保持一种气液混合的不稳定状态，在线路板蚀刻过程中，蚀刻液中的氯气的溶解度往往会对蚀刻液的蚀刻效果产生较大的影响。现有的蚀刻机的蚀刻液进液方式往往是将再生液调配完成后直接注入蚀刻液储存缸中，由于此时蚀刻液处于不稳定的气液混合状态，因此导致氯气溶解度无法得到相对稳定的保证，从而导致蚀刻液在使用过程中的蚀刻效果与预期有偏差。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种蚀刻液送液组件，以解决现有技术中存在的蚀刻液储存缸中的蚀刻液无法保证相对稳定的氯气溶解度的技术问题。
4.为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种蚀刻液送液组件，用于将蚀刻液输入蚀刻机中，包括安装在所述蚀刻机中的蚀刻液储存缸和用于将蚀刻液输入所述蚀刻液储存缸的输入装置，还包括进液结构，所述输入装置具有射出口，所述射出口与所述进液结构连通，并通过所述进液结构将蚀刻液输入所述蚀刻液储存缸中；所述进液结构包括主管和用于将蚀刻液形成多股细分流体喷出的喷头，所述主管的一端与所述射出口连通，所述主管的另一端与所述喷头连通，所述喷头位于所述蚀刻液储存缸中。
5.进一步地，所述喷头具有一喷射面，所述喷射面呈圆盘状，所述喷射面上形成有多个供蚀刻液流出的通孔。
6.进一步地，还包括多个分管，所述喷头的数量为多个，多个所述喷头与多个所述分管一一对应连通，多个所述分管均与所述主管连通。
7.进一步地，所述喷头位于所述蚀刻液储存缸底部。
8.进一步地，所述输入装置为射流器，所述射出口为所述射流器的射出口。
9.进一步地，所述喷头呈球形，所述喷头的球面上形成有多个通孔，多个所述通孔等间距设置。
10.进一步地，还包括循环组件，所述循环组件包括循环泵和循环管路，所述循环管路连通所述蚀刻液储存缸的顶底两端，所述循环泵安装在所述循环管路中。
11.进一步地，蚀刻液送液组件还包括用于控制流量大小的控制阀，所述控制阀安装在所述主管上。
12.一种蚀刻机，包括蚀刻机本体，还包括一个或多个如前述的蚀刻液送液组件，所述蚀刻液送液组件安装在所述蚀刻机本体上。
13.本实用新型提供的蚀刻液送液组件及蚀刻机的有益效果在于：与现有技术相比，本实用新型蚀刻液送液组件通过进液结构将蚀刻液输入蚀刻液储存缸中，主管能够有效延长蚀刻液的流动路径，喷头将蚀刻液分成多股细分流体，起到缓冲和稳流的作用，避免了蚀刻液在蚀刻液储存缸中的产生较大的振荡与不均匀分布，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
15.图1为本实用新型实施例提供的蚀刻液送液组件的整体装配示意图；
16.图2为图1的爆炸图；
17.图3为本实用新型实施例提供的进液结构的示意图。
18.其中，图中各附图标记：
19.1-输入装置；2-进液结构；21-主管；22-喷头；221-喷射面；222-通孔；3-蚀刻液储存缸。
具体实施方式
20.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
21.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
22.需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
23.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
24.请参阅图1至图3，现对本实用新型提供的蚀刻液送液组件进行说明。
25.蚀刻液送液组件，用于将蚀刻液输入蚀刻机中，包括安装在蚀刻机中的蚀刻液储
存缸3和用于将蚀刻液输入蚀刻液储存缸3的输入装置1，还包括进液结构2，输入装置1具有射出口，射出口与进液结构2连通，并通过进液结构2将蚀刻液输入蚀刻液储存缸3中；进液结构2包括主管21和用于将蚀刻液形成多股细分流体喷出的喷头22，主管21的一端与射出口连通，主管21的另一端与喷头22连通，喷头22位于蚀刻液储存缸3中。
26.本实用新型蚀刻液送液组件通过进液结构2将蚀刻液输入蚀刻液储存缸3中，主管21能够有效延长蚀刻液的流动路径，喷头22将蚀刻液分成多股细分流体，起到缓冲和稳流的作用，避免了蚀刻液在蚀刻液储存缸3中的产生较大的振荡与不均匀分布，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
27.进一步地，请参阅图2及图3，作为本实用新型提供的喷头的一种具体实施方式，喷头22具有一喷射面221，喷射面221呈圆盘状，喷射面221上形成有多个供蚀刻液流出的通孔222。多个通孔222能够将蚀刻液分成多股细分的流体，从而使得蚀刻液在蚀刻液储存缸3中的流动更加均匀。
28.进一步地，作为本实用新型提供的进液结构的一种具体实施方式，进液结构2还包括多个分管(图未示)，喷头22的数量为多个，多个喷头22与多个分管一一对应连通，多个分管均与主管21连通。主管21通过多个分管来连通喷头22，有利于进一步细分和延长蚀刻液流动的路径，起到稳定液体流动和降低流体震荡的作用。
29.进一步地，请参阅图2及图3，作为本实用新型提供的蚀刻液送液组件的一种具体实施方式，喷头22位于蚀刻液储存缸3底部。喷头22位于蚀刻液储存缸3底部，从下至上进液，能够更好地保证缸体内液体流动的稳定性，同时由于喷头22位于蚀刻液储存缸3底部，浸没在蚀刻液中，还能够减少蚀刻液离开喷头22时氯气的溢出量，从而保证蚀刻液的蚀刻性能。
30.进一步地，请参阅图1至图3，作为本实用新型提供的蚀刻液送液组件的一种具体实施方式，输入装置1为射流器，射出口为射流器的射出口。
31.进一步地，作为本实用新型提供的喷头的一种具体实施方式，喷头22呈球形，喷头22的球面上形成有多个通孔222，多个通孔222等间距设置。
32.进一步地，请参阅图1至图3，作为本实用新型提供的蚀刻液送液组件的一种具体实施方式，还包括循环组件，循环组件(图未示)包括循环泵和循环管路，循环管路连通蚀刻液储存缸3的顶底两端，循环泵安装在循环管路中。通过循环组件实现蚀刻液在蚀刻液储存缸3中的循环流动，形成类似于搅拌的效果，能够进一步保证蚀刻液的氯气溶解度的均匀性。
33.进一步地，蚀刻液送液组件还包括用于控制流量大小的控制阀，所述控制阀安装在所述主管上。具体地，控制阀可以是球阀，球阀的作用是针对实际蚀刻段应用的情况下进行调节管路中的流量大小，例如orp的监控，若该段蚀刻段orp过高可以调小，若orp偏低就调大些。因为一般蚀刻机有两至三个蚀刻段或者更多，就根据每个蚀刻段内部的orp值来调节进入水量即相当于调节气液混合输入量，从而让蚀刻段内部均匀蚀刻，一般情况下将前蚀刻度偏高些orp这样有利于蚀刻进行，后段会偏小点。其次蚀刻段保养时，可以关闭球阀，便于内部液体的清洗，避免溢流管道的药水进入蚀刻机。
34.一种蚀刻机，包括蚀刻机本体，还包括一个或多个如前述的任意一个蚀刻液送液组件，蚀刻液送液组件安装在蚀刻机本体上。通过进液结构2将蚀刻液输入蚀刻液储存缸3
中，主管21能够有效延长蚀刻液的流动路径，喷头22将蚀刻液分成多股细分流体，起到缓冲和稳流的作用，避免了蚀刻液在蚀刻液储存缸3中的产生较大的振荡与不均匀分布，保证了蚀刻液的氯气溶解度相对稳定，从而保证蚀刻液的蚀刻效果的稳定性。
35.以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。