一种新型高效真空镀膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜装置技术领域，特别是一种新型高效真空镀膜装置。


背景技术：

2.真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发、磁控溅射、mbe分子束外延、pld激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜，在现有的技术中真空镀膜腔的底部设置一个坩埚，对其加热后产生离子或原子蒸汽流，由于靠近坩埚的位置蒸汽流中的离子密度较大，远离坩埚的位置蒸汽流中离子的密度较小，因此在整个镀膜腔中造成离子分布不均匀，极大的影响了对应基片的镀膜均匀度，进而降低成品的质量。
3.鉴于以上问题，本实用新型设计了一种新型高效真空镀膜装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种新型高效真空镀膜装置。
5.本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：一种新型高效真空镀膜装置，包括镀膜箱，所述镀膜箱的两侧均开设有一个第一插接孔，所述镀膜箱的底部开设有第二插接孔，所述镀膜箱的一侧通过合页转动连接有镀膜箱门，所述镀膜箱门的一侧开设有两个第一固定孔，所述镀膜箱门的一侧设置有门把手，所述门把手的两侧分别插接于对应的第一固定孔的内部，所述镀膜箱的上方设置有真空泵，所述真空泵的底部与镀膜箱的顶部固定连接，所述镀膜箱的一侧设置有蒸发器，所述镀膜箱的一侧设置有两个导管，所述镀膜箱的内部设置有转动装置，所述镀膜箱的内部设置有两个喷管，所述镀膜箱的内部设置有若干个喷头。
6.可选的，所述蒸发器的一侧与镀膜箱的一侧固定连接，所述蒸发器位于镀膜箱的一侧的中间位置，所述蒸发器的两侧均开设有一个第二固定孔。
7.可选的，两个所述导管的一侧的外表面分别插接于对应的第一插接孔的内部，两个所述导管的另一侧的外表面分别插接于对应的第二固定孔的内部。
8.可选的，所述转动装置包括电机，所述电机的一侧固定连接于镀膜箱的底部，所述电机的输出轴的外表面插接于第二插接孔的内部，所述转动装置包括转轴，所述转轴的底部与电机的输出轴的一侧固定连接。
9.可选的，所述转动装置包括三个转动盘，三个所述转动盘的顶部均开设有一个第三固定孔，三个所述第三固定孔的内部均插接于转轴的外表面，三个所述转动盘呈线性分布于转轴的外表面。
10.可选的，所述转动装置包括挡块，所述挡块的尺寸小于三个所述转动盘的尺寸，所述挡块的顶部开设有第四固定孔，所述第四固定孔的内部插接有转轴的顶部。
11.可选的，两个所述喷管的一侧均固定连接有一个连接管，两个所述连接管的形状与大小与两个导管的形状的与大小相适配，两个所述连接管的内部分别插接于对应的导管的内部，两个所述喷管的一侧均开设有若干个喷孔。
12.可选的，若干个所述喷头的一侧的外表面分别插接于对应的喷孔的内部。
13.可选的，所述镀膜箱的底部固定连接有支撑台，所述支撑台的底部四个角处均固定连接有四个支撑腿。
14.本实用新型具有以下优点：
15.1、该新型高效真空镀膜装置，需要进行镀膜时，将镀膜箱门打开，将工件放到转动盘上，开启真空泵，使其镀膜箱内部的空气抽出，通过设置的电机，启动电机，电机会带动转轴在镀膜箱的内部进行转动，进而会带动三个转动盘进行转动，进而会带动转动盘上的工件进行转动，使工件能够进行旋转，使其镀膜效率更高，镀膜更加的均匀，解决了现有的真空镀膜装置离子分布不均匀，极大的影响了对应基片的镀膜均匀度，进而降低成品的质量的问题。
16.2、该新型高效真空镀膜装置通过设置的两个喷管，开启蒸发器，蒸发器的开启会通过两个喷管对转动盘上的工件进行镀膜，通过设置的多个喷头，使得在转动盘上的工件镀膜的更加均匀，本实用新型，结构简单，操作方便，镀膜速度快，效率高，同时有效的提高了镀膜的均匀度。
附图说明
17.图1为本实用新型的镀膜箱门打开结构示意图；
18.图2为本实用新型的镀膜箱门关闭结构示意图；
19.图3为本实用新型的正视结构示意图；
20.图4为本实用新型的侧视剖面结构示意图；
21.图5为本实用新型的右后视结构示意图。
22.图中：1-镀膜箱，2-镀膜箱门，3-门把手，4-真空泵，5-蒸发器，6-导管，7-转动装置，701-电机，702-转轴，703-转动盘，704-挡块，8-喷管，9-喷头，10
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支撑台，11-支撑腿。
具体实施方式
23.下面结合附图对本实用新型做进一步的描述，但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。
24.如图1至图5所示，一种新型高效真空镀膜装置，它包括镀膜箱1，镀膜箱 1的两侧均开设有一个第一插接孔，镀膜箱1的底部开设有第二插接孔，镀膜箱1的一侧通过合页转动连接有镀膜箱门2，镀膜箱门2的一侧开设有两个第一固定孔，镀膜箱门2的一侧设置有门把手3，门把手3的两侧分别插接于对应的第一固定孔的内部，镀膜箱1的上方设置有真空泵4，通过设置的真空泵4，开启真空泵4，可将镀膜箱1内部的空气抽出，保证了镀膜是在真空的状态下进行，真空泵4的底部与镀膜箱1的顶部固定连接，镀膜箱1的一侧设置有蒸发器5，镀膜箱1的一侧设置有两个导管6，镀膜箱1的内部设置有转动装置7，镀膜箱 1的内部设置
有两个喷管8，镀膜箱1的内部设置有若干个喷头9。
25.作为本实用新型的一种优选技术方案：蒸发器5的一侧与镀膜箱1的一侧固定连接，蒸发器5位于镀膜箱1的一侧的中间位置，蒸发器5的两侧均开设有一个第二固定孔。
26.作为本实用新型的一种优选技术方案：两个导管6的一侧的外表面分别插接于对应的第一插接孔的内部，两个导管6的另一侧的外表面分别插接于对应的第二固定孔的内部。
27.作为本实用新型的一种优选技术方案：转动装置7包括电机701，电机701 的一侧固定连接于镀膜箱1的底部，电机701的输出轴的外表面插接于第二插接孔的内部，转动装置7包括转轴702，所述转轴702的底部与电机701的输出轴的一侧固定连接，需要进行镀膜时，将镀膜箱门2打开，将工件放到转动盘 703上，通过设置的电机701，启动电机701，电机701会带动转轴702在镀膜箱1的内部进行转动，进而会带动三个转动盘703进行转动，进而会带动转动盘703上的工件进行转动，使工件能够进行旋转，使其镀膜效率更高，镀膜更加的均匀，解决了现有的真空镀膜装置离子分布不均匀，极大的影响了对应基片的镀膜均匀度，进而降低成品的质量的问题。
28.作为本实用新型的一种优选技术方案：转动装置7包括三个转动盘703，三个转动盘703的顶部均开设有一个第三固定孔，三个第三固定孔的内部均插接于转轴702的外表面，三个转动盘703呈线性分布于转轴702的外表面。
29.作为本实用新型的一种优选技术方案：转动装置7包括挡块704，挡块704 的尺寸小于三个转动盘703的尺寸，挡块704的顶部开设有第四固定孔，第四固定孔的内部插接有转轴702的顶部。
30.作为本实用新型的一种优选技术方案：两个喷管8的一侧均固定连接有一个连接管，两个连接管的形状与大小与两个导管6的形状的与大小相适配，两个连接管的内部分别插接于对应的导管6的内部，两个喷管8的一侧均开设有若干个喷孔，通过设置的两个喷管8，开启蒸发器5，蒸发器5的开启会通过两个喷管8对转动盘703上的工件进行镀膜，通过设置的多个喷头9，使得在转动盘703上的工件镀膜的更加均匀，本实用新型，结构简单，操作方便，镀膜速度快，效率高，同时有效的提高了镀膜的均匀度。
31.作为本实用新型的一种优选技术方案：若干个喷头9的一侧的外表面分别插接于对应的喷孔的内部，通过设置的若干个喷头9，使得镀膜更加的均匀，提高了镀膜的均匀度。
32.作为本实用新型的一种优选技术方案：镀膜箱1的底部固定连接有支撑台10，支撑台10的底部四个角处均固定连接有四个支撑腿11，通过设置的支撑台 10，使得镀膜机1能够固定在支撑台10上，进而使得整个真空镀膜装置更加的稳定，支撑台10的一侧设置有方槽，电机701位于这个方槽的内部。
33.综上所述：该新型高效真空镀膜装置，需要进行镀膜时，将镀膜箱门2打开，将工件放到转动盘703上，开启真空泵4，使其镀膜箱1内部的空气抽出，通过设置的电机701，启动电机701，电机701会带动转轴702在镀膜箱1的内部进行转动，进而会带动三个转动盘703进行转动，进而会带动转动盘703上的工件进行转动，使工件能够进行旋转，使其镀膜效率更高，镀膜更加的均匀，解决了现有的真空镀膜装置离子分布不均匀，极大的影响了对应基片的镀膜均匀度，进而降低成品的质量的问题；该新型高效真空镀膜装置通过设置的两个喷管8，开启蒸发器5，蒸发器5的开启会通过两个喷管8对转动盘703上的工件进行镀膜，通过
设置的多个喷头9，使得在转动盘703上的工件镀膜的更加均匀，本实用新型，结构简单，操作方便，镀膜速度快，效率高，同时有效的提高了镀膜的均匀度。
34.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。