掩模装置的制造装置、记录介质、掩模装置的制造方法以及掩模装置与流程

1.本公开的实施方式涉及掩模装置的制造装置、记录介质、掩模装置的制造方法以及掩模装置。


背景技术：

2.有机el显示装置等有机器件受到关注。作为形成有机器件的元件的方法，已知有通过蒸镀使构成元件的材料附着于基板的方法。例如，首先，准备以与元件对应的图案形成有第1电极的基板。接着，使用掩模装置实施蒸镀工序。掩模装置具备包含贯通孔的掩模和支承掩模的框架。通过了掩模的贯通孔的有机材料附着在第1电极上，由此在第1电极上形成有机层。
3.框架包含固定有掩模的端部的第1边和第2边。第1边和第2边夹着开口在第1方向上对置。框架以在第1方向上对掩模施加了张力的状态支承掩模。由此，能够抑制掩模产生挠曲。
4.专利文献1：国际公开2019/049600号
5.在朝向开口的方向上使框架的第1边及第2边变形的状态下将掩模固定于第1边及第2边的情况下，基于第1边及第2边弹性地复原的力对掩模施加张力。为了精密地调整对掩模的张力，要求精密地调整第1边和第2边的变形量。
6.作为降低有机器件的制造成本的手段之一，可以考虑基板的大型化。若基板大型化，则掩模也会大型化，框架也会大型化。若框架大型化，则第1边和第2边的变形量的调整的难度变高。


技术实现要素：

7.在本公开的一个实施方式的掩模装置的制造装置中，也可以是，所述掩模装置可以具备：框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和掩模，其包含固定于第1边和第2边的端部。所述制造装置可以具备：按压机构，其在朝向所述开口的方向上按压所述第1边和所述第2边；位移测量机构，其对所述第1边和所述第2边在所述第1方向上的变形量进行测量；以及固定装置，其将所述掩模固定于所述第1边和所述第2边。所述按压机构可以包含：按压所述第1边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压所述第2边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列。
8.根据本公开的实施方式，能够恰当地调整框架的第1边和第2边的变形量。
附图说明
9.图1是示出有机器件的一例的剖视图。
10.图2是示出有机器件组的一例的俯视图。
11.图3是示出蒸镀装置的一例的剖视图。
12.图4是示出掩模装置的一例的俯视图。
13.图5是放大示出框架的第1边的俯视图。
14.图6是示出掩模装置的一例的俯视图。
15.图7是示出掩模的一例的俯视图。
16.图8是示出掩模的一例的剖视图。
17.图9是示出掩模装置的制造装置的一例的框图。
18.图10是示出制造装置的一例的俯视图。
19.图11是示出按压装置及位移计的一例的俯视图。
20.图12是示出掩模装置的制造方法的一例的流程图。
21.图13是示出调整工序和配置工序的一例的流程图。
22.图14是示出第1调整工序的一例的俯视图。
23.图15是示出第1配置工序的一例的俯视图。
24.图16是示出第1配置工序的一例的俯视图。
25.图17是示出第2掩模安装工序的一例的俯视图。
26.图18是示出第3掩模安装工序～第8掩模安装工序的一例的俯视图。
27.图19是示出第9掩模安装工序及第10掩模安装工序的一例的俯视图。
28.图20是示出释放工序的一例的俯视图。
29.图21是示出第11按压装置的按压力的一例的曲线图。
30.图22是示出第12按压装置的按压力的一例的曲线图。
31.图23是示出第1中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
32.图24是示出掩模装置的分解方法的一例的流程图。
33.图25是示出去除工序和反向调整工序的一例的流程图。
34.图26是示出第1去除工序的一例的俯视图。
35.图27是示出第2去除工序的一例的俯视图。
36.图28是示出第3去除工序～第8去除工序的一例的俯视图。
37.图29是示出第9去除工序和第10去除工序的一例的俯视图。
38.图30是示出第11按压装置的按压力的一例的曲线图。
39.图31是示出第12按压装置的按压力的一例的曲线图。
40.图32是示出第1中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
41.图33是示出掩模装置的一例的俯视图。
42.图34是示出制造装置的一例的俯视图。
43.图35是示出制造装置的一例的俯视图。
44.图36是示出制造装置的一例的俯视图。
45.图37是示出例1中的第11按压力、第12按压力、第21按压力、第22按压力以及第1中央按压力的曲线图。
46.图38是示出例2中的第11按压力、第21按压力以及第1中央按压力的曲线图。
47.图39是示出例1～例3中的框架的变形量与目标变形量之差的曲线图。
48.图40是示出第5实施方式的第1掩模安装工序的一例的俯视图。
49.图41是示出第5实施方式的第1掩模安装工序的一例的俯视图。
50.图42是示出第5实施方式的第2掩模安装工序的一例的俯视图。
51.图43是示出第5实施方式的第3掩模安装工序～第8掩模安装工序的一例的俯视图。
52.图44是示出第5实施方式的第9掩模安装工序及第10掩模安装工序的一例的俯视图。
53.图45是示出第5实施方式的第21按压装置的按压力的一例的曲线图。
54.图46是示出第5实施方式的第22按压装置的按压力的一例的曲线图。
55.图47是示出第5实施方式的第2中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
56.图48是示出第5实施方式的第1去除工序的一例的俯视图。
57.图49是示出第5实施方式的第2去除工序的一例的俯视图。
58.图50是示出第5实施方式的第21按压装置的按压力的一例的曲线图。
59.图51是示出第5实施方式的第22按压装置的按压力的一例的曲线图。
60.图52是示出第5实施方式的第2中央按压装置的按压力的一例的曲线图。
61.图53是示出例4中的第11按压力、第12按压力、第21按压力、第22按压力以及第1中央按压力的曲线图。
62.图54是示出例5中的第11按压力、第12按压力、第21按压力、第22按压力以及第1中央按压力的曲线图。
63.图55是示出例4～例5中的框架的变形量与目标变形量之差的曲线图。
具体实施方式
64.在本说明书和本附图中，只要没有特别的说明，则“基板”、“基材”、“板”、“片”、“膜”等表示成为某结构的基础的物质的用语并不是仅基于称呼上的不同来相互区别的用语。
65.在本说明书和本附图中，只要没有特别的说明，则对于确定形状、几何学上的条件以及它们的程度的例如“平行”、“正交”等用语、或者长度、角度的值等，不限于严格的意思，包含可以期待同样的功能的程度的范围来进行解释。
66.在本说明书和本附图中，只要没有特别的说明，则包含如下情况：某个部件或者某个区域等某个结构为其他部件或者其他区域等其他结构的“上”、“下”、“上侧”、“下侧”、或者“上方”、“下方”的情况；以及，某个结构与其他结构直接相接的情况。进而，也包含在某个结构与其他结构之间包含另外的结构的情况、即间接地相接的情况。另外，只要没有特别的说明，则对于“上”、“上侧”、“上方”、或者“下”、“下侧”、“下方”这样的语句，也可以将上下方向反转。
67.在本说明书和本附图中，只要没有特别的说明，则存在这样的情况：对相同部分或者具有相同功能的部分标注相同的标号或类似的标号，并省略其重复的说明。另外，为了便于说明，附图的尺寸比率有时与实际的比率不同，有时将结构的一部分从附图中省略。
68.在本说明书和本附图中，只要没有特别的说明，则本说明书的一个实施方式也可以在不产生矛盾的范围内与其他实施方式组合。另外，其他实施方式彼此也可以在不产生
矛盾的范围内进行组合。
69.在本说明书和本附图中，只要没有特别的说明，则在关于制造方法等方法公开多个工序的情况下，也可以在所公开的工序之间实施未公开的其他工序。另外，所公开的工序的顺序在不产生矛盾的范围内是任意的。
70.在本说明书和本附图中，只要没有特别的说明，则由“～”这样的记号表述的数值范围包含置于“～”这样的符号的前后的数值。例如，由“34～38质量％”这样的表述限定的数值范围与由“34质量％以上且38质量％以下”这样的表述限定的数值范围相同。
71.在本说明书的一个实施方式中，列举了关于如下的掩模或其制造方法的例子进行说明，其中，所述掩模用于在制造有机el显示装置时将有机材料或电极以所期望的图案在基板上进行图案化。但是，并不限定于这样的应用，对于用于各种用途的掩模，能够应用本实施方式。例如，为了形成如下装置的电极，也可以使用本实施方式的掩模，其中所述装置用于显示或投影用于表现虚拟现实(所谓的vr)或增强现实(所谓的ar)的图像或影像。另外，为了形成液晶显示装置的电极等、有机el显示装置以外的显示装置的电极，也可以使用本实施方式的掩模。另外，为了形成压力传感器的电极等、显示装置以外的有机器件的电极，也可以使用本实施方式的掩模。
72.本公开的第1方式是掩模装置的制造装置，
73.所述掩模装置具备：框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和掩模，其包含固定于第1边和第2边的端部，
74.所述制造装置具备：
75.按压机构，其在朝向所述开口的方向上按压所述第1边和所述第2边；
76.位移测量机构，其对所述第1边和所述第2边在所述第1方向上的变形量进行测量；以及
77.固定装置，其将所述掩模固定于所述第1边和所述第2边，
78.所述按压机构包含：按压所述第1边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压所述第2边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列。
79.关于本公开的第2方式，在上述的第1方式的制造装置中，所述位移测量机构可以包含测量所述第1边的所述变形量的至少1个位移计，所述位移计可以包含与所述第1边接触的传感器头。
80.关于本公开的第3方式，在上述的第2方式的制造装置中，所述位移计在所述第2方向上在距所述按压装置100mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量。
81.关于本公开的第4方式，在上述的第2方式或第3方式的制造装置中，所述位移测量机构可以包含：在所述第2方向上在距所述按压装置100mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量的5个以上的所述位移计；第1辅助位移计，其在所述第2方向上在距所述第3边的外侧面200mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量；以及第2辅助位移计，其在所述第2方向上在距所述第4边的外侧面200mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量。
82.关于本公开的第5方式，在上述的第4方式的制造装置中，也可以是，所述第1辅助位移计与所述第2辅助位移计之间在所述第2方向上的距离为1300mm以上。
83.关于本公开的第6方式，在上述的第1方式～第5方式中的任意1个方式的制造装置中，可以是，按压所述第1边的所述按压装置与按压所述第2边的所述按压装置之间在所述第1方向上的距离为1300mm以上。
84.关于本公开的第7方式，在上述的第1方式～第5方式中的任意1个方式的制造装置中，所述掩模装置可以具备沿着第2方向排列的n张所述掩模，其中，n为2以上的整数，所述制造装置可以具备控制所述按压机构的控制装置，所述按压机构可以以各掩模被固定于所述第1边时的所述变形量与目标变形量之差处于第1阈值以下的方式按压所述第1边和所述第2边。
85.关于本公开的第8方式，在上述的第7方式的制造装置中，所述固定装置可以将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从远到近的顺序固定于所述第1边和所述第2边，按压所述第1边的所述按压机构可以具备：中央组，其包含1个或2个所述按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，所述中央组的所述按压装置可以在将第1张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(1)，所述中央组的所述按压装置可以在将第u张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(u)，其中，u为大于1且小于n的整数，所述第1按压力(u)与所述第1按压力(1)的比率可以为1.05以上。
86.关于本公开的第9方式，在上述的第7方式的制造装置中，所述固定装置可以将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从近到远的顺序固定于所述第1边和所述第2边，按压所述第1边的所述按压机构可以具备：中央组，其包含1个或2个所述按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置可以在将第1张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(1)，属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置可以在将第u张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(u)，其中，u为大于1且小于n的整数，所述第1按压力(u)与所述第1按压力(1)的比率可以为1.05以上。
87.关于本公开的第10方式，在上述的第8方式或第9方式的制造装置中，可以是，所述控制装置控制所述按压机构以使下述的式子成立，
88.u≧n/2。
89.本公开的第11-1方式是用于使计算机作为上述的第7方式～第10方式中的任意1个方式的所述制造装置的所述控制装置发挥功能的程序。
90.本公开的第11-2方式是记录有上述的第11-1方式的程序的、计算机可读取的非暂时性的记录介质。
91.本公开的第12方式是一种掩模装置的制造方法，其中，所述掩模装置的制造方法具备：
92.准备框架的工序，该框架包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；
93.调整工序，调整按压机构在朝向所述开口的方向上对所述第1边和所述第2边施加
的第1按压力；以及
94.固定工序，将掩模的端部固定于第1边和第2边，
95.所述按压机构包含：按压所述第1边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列；和按压所述第2边的5个以上的按压装置，它们沿着所述第2方向隔开500mm以下的间隔排列。
96.关于本公开的第13方式，在上述的第12方式的制造方法中，在所述调整工序中，可以基于来自位移测量机构的信息来调整所述第1按压力，其中，所述位移测量机构测量所述第1边和所述第2边在所述第1方向上的变形量，所述位移测量机构可以包含测量所述第1边的所述变形量的至少1个位移计，所述位移计可以包含与所述第1边接触的传感器头。
97.关于本公开的第14方式，在上述第13方式的制造方法中，所述位移计可以在所述第2方向上在距所述按压装置100mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量。
98.关于本公开的第15方式，在上述的第13方式或第14方式的制造方法中，所述位移测量机构可以包含：在所述第2方向上在距所述按压装置100mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量的5个以上的所述位移计；第1辅助位移计，其在所述第2方向上在距所述第3边的外侧面200mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量；以及第2辅助位移计，其在所述第2方向上在距所述第4边的外侧面200mm以下的位置处测量所述第1边的所述变形量。
99.在上述的第15方式中，也可以是，所述第1辅助位移计与所述第2辅助位移计之间在所述第2方向上的距离为1300mm以上。
100.在上述的第12方式至第15方式中，也可以是，按压所述第1边的所述按压装置与按压所述第2边的所述按压装置之间在所述第1方向上的距离为1300mm以上。
101.关于本公开的第16方式，在上述的第11方式～第15方式中的任意1个方式的制造方法中，所述掩模装置可以具备沿着第2方向排列的n张所述掩模，其中，n为2以上的整数，在所述调整工序中，可以调整所述第1按压力，以使各掩模被固定于所述第1边时的所述第1边的变形量与目标变形量之差处于第1阈值以下。
102.关于本公开的第17方式，在上述的第16方式的制造方法中，在所述固定工序中，可以将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从远到近的顺序固定于所述第1边和所述第2边，按压所述第1边的所述按压机构可以具备：中央组，其包含1个或2个所述按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，所述中央组的所述按压装置可以在将第1张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(1)，所述中央组的所述按压装置可以在将第u张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(u)，其中，u为大于1且小于n的整数，所述第1按压力(u)与所述第1按压力(1)的比率可以为1.05以上。
103.关于本公开的第18方式，在上述的第16方式的制造方法中，在所述固定工序中，可以将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从近到远的顺序固定于所述第1边和所述第2边，按压所述第1边的所述按压机构可以具备：中央组，其包含1个或2个所述按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置可以在将第1张所
述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(1)，属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置可以在将第u张所述掩模固定于所述框架时对所述第1边施加第1按压力(u)，其中，u为大于1且小于n的整数，所述第1按压力(u)与所述第1按压力(1)的比率可以为1.05以上。
104.关于本公开的第19方式，在上述的第17方式或第18方式的制造方法中，所述调整工序以下述式子成立的方式调整所述第1按压力，
105.u≧n/2。
106.本公开的第20方式是一种掩模装置，其中，
107.所述掩模装置具备：
108.框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和
109.沿着第2方向排列的n张掩模，它们包含固定于第1边和第2边的端部，其中，n为2以上的整数，
110.所述第1边和所述第2边以朝向所述开口挠曲的方式在所述第2方向上以最终变形量变形，
111.在交替地实施了去除工序和反向调整工序的情况下，第2按压力(q)与第2按压力(n)的比率为1.05以上，其中，所述去除工序是将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从近到远的顺序从所述框架卸下的工序，所述反向调整工序是在所述去除工序之后以使所述第1边和所述第2边在所述第2方向上以最终变形量变形的方式，调整按压机构在朝向所述开口的方向上对所述第1边和所述第2边施加的第2按压力的工序，
112.按压所述第1边的所述按压机构具备：中央组，其包含按压所述第1边的1个或2个按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，
113.所述第2按压力(q)是所述中央组的所述按压装置在第q张所述掩模被从所述框架卸下后对所述第1边施加的按压力，其中，q是大于1且小于n的整数，
114.所述第2按压力(n)是所述中央组的所述按压装置在第n张所述掩模被从所述框架卸下后对所述第1边施加的按压力。
115.本公开的第21方式是一种掩模装置，其中，
116.所述掩模装置具备：
117.框架，其包含隔着开口在第1方向上对置的第1边和第2边、以及隔着所述开口在与所述第1方向交叉的第2方向上对置的第3边和第4边；和
118.沿着第2方向排列的n张掩模，它们包含固定于第1边和第2边的端部，其中，n为2以上的整数，
119.所述第1边和所述第2边以朝向所述开口挠曲的方式在所述第2方向上以最终变形量变形，
120.在交替地实施了去除工序和反向调整工序的情况下，第2按压力(q)与第2按压力(n)的比率为1.05以上，其中，所述去除工序是将所述掩模按照在所述第2方向上距所述框架的中心从远到近的顺序从所述框架卸下的工序，所述反向调整工序是在所述去除工序之
后以使所述第1边和所述第2边在所述第2方向上以最终变形量变形的方式，调整按压机构在朝向所述开口的方向上对所述第1边和所述第2边施加的第2按压力的工序，
121.按压所述第1边的所述按压机构具备：中央组，其包含按压所述第1边的1个或2个按压装置；第1组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第3边之间，且包含2个以上的所述按压装置；以及第2组，其在所述第2方向上位于所述中央组与所述第4边之间，且包含2个以上的所述按压装置，
122.所述第2按压力(q)是属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置在第q张所述掩模被从所述框架卸下后对所述第1边施加的按压力，其中，q是大于1且小于n的整数，
123.所述第2按压力(n)是属于所述第2组且最接近所述第4边的所述按压装置在第n张所述掩模被从所述框架卸下后对所述第1边施加的按压力。
124.关于本公开的第22方式，在上述的第21方式或第22方式的掩模装置中，也可以是，下述的式子成立，
125.q≦n/2。
126.参照附图，详细说明本公开的第1实施方式。此外，以下所示的实施方式是本公开的实施方式的一例，本公开并不限定于这些实施方式来解释。
127.对具备通过使用掩模而形成的要素的有机器件100进行说明。图1是示出有机器件100的一例的剖视图。
128.有机器件100包含：包含第1面111和第2面112的基板110；和位于基板110的第1面111的多个元件115。元件115例如是像素。元件115也可以沿着第1面111的面内方向排列。基板110也可以包含2种以上的元件115。例如，基板110可以包含第1元件115a和第2元件115b。虽然未图示，但基板110也可以包含第3元件。第1元件115a、第2元件115b以及第3元件例如是红色像素、蓝色像素以及绿色像素。
129.元件115可以包含第1电极120、位于第1电极120上的有机层130和位于有机层130上的第2电极140。通过使用掩模而形成的要素可以是有机层130，也可以是第2电极140。将通过使用掩模而形成的要素也称为蒸镀层。
130.有机器件100可以具备在俯视时位于相邻的2个第1电极120之间的绝缘层160。绝缘层160例如包含聚酰亚胺。绝缘层160也可以在俯视时与第1电极120的端部重叠。
131.有机器件100可以是有源矩阵型。例如，虽然未图示，但有机器件100也可以具备与多个元件115分别电连接的开关。开关例如是晶体管。开关能够控制向对应的元件115提供的电压或电流的接通/断开。
132.基板110也可以是具有绝缘性的板状的部件。基板110优选具有使光透过的透明性。作为基板110的材料，例如能够使用石英玻璃、pyrex(注册商标)玻璃、合成石英板等没有挠性的刚性材料、或者树脂膜、光学用树脂板、薄玻璃等具有挠性的柔性材料等。另外，基材也可以是在树脂膜的单面或两面具有阻隔层的层叠体。
133.元件115构成为，通过在第1电极120与第2电极140之间施加电压，或者通过在第1电极120与第2电极140之间流过电流，由此实现某些功能。例如，在元件115是有机el显示装置的像素的情况下，元件115能够放出构成影像的光。
134.第1电极120包含具有导电性的材料。例如，第1电极120包含金属、具有导电性的金属氧化物、或者其他具有导电性的无机材料等。第1电极120也可以包含铟锡氧化物(ito)、
铟锌氧化物(izo)等具有透明性和导电性的金属氧化物。
135.有机层130包含有机材料。当电流流过有机层130时，有机层130能够发挥某些功能。作为有机层130，能够使用通过电流放出光的发光层等。有机层130可以包含有机半导体材料。有机层130的透射率、折射率等特性可以适当调整。
136.如图1所示，有机层130可以包含第1有机层130a和第2有机层130b。第1有机层130a包含于第1元件115a。第2有机层130b包含于第2元件115b。虽然未图示，但有机层130也可以包含第3有机层，该第3有机层包含于第3元件。第1有机层130a、第2有机层130b和第3有机层例如是红色发光层、蓝色发光层和绿色发光层。
137.当在第1电极120和第2电极140之间施加电压时，电流在有机层130中流动。在有机层130为发光层的情况下，从有机层130放出光，并且光被从第2电极140侧或第1电极120侧向外部取出。
138.有机层130可以进一步包含空穴注入层、空穴输送层、电子输送层、电子注入层、电荷产生层等。
139.第2电极140包含金属等具有导电性的材料。第2电极140通过使用掩模的蒸镀法形成在有机层130上。作为构成第2电极140的材料，能够使用铂、金、银、铜、铁、锡、铬、铝、铟、锂、钠、钾、钙、镁、铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)、碳等。这些材料可以单独使用，也可以组合使用2种以上。在使用2种以上的情况下，也可以层叠由各材料构成的层。另外，也可以使用包含2种以上的材料的合金。例如，可以使用mgag等镁合金、alli、alca、almg等铝合金。mgag也称为镁银。镁银优选用作第2电极140的材料。也可以使用碱金属类和碱土金属类的合金等。例如，可以使用氟化锂、氟化钠、氟化钾等。
140.第2电极140也可以是共用电极。例如，1个元件115的第2电极140也可以与其他元件115的第2电极140电连接。
141.第2电极140也可以由1个层构成。例如，第2电极140也可以是通过使用1个掩模的蒸镀工序而形成的层。
142.或者，如图1所示，第2电极140也可以包含第1层140a和第2层140b。第1层140a也可以是通过使用第1掩模的蒸镀工序而形成的层。第2层140b也可以是通过使用第2掩模的蒸镀工序而形成的层。这样，可以使用2个以上的掩模来形成第2电极140。由此，俯视时的第2电极140的图案的自由度变高。例如，有机器件100可以包含在平面图中不存在第2电极140的区域。不存在第2电极140的区域能够具有比存在第2电极140的区域高的透射率。
143.如图1所示，第1层140a的端部与第2层140b的端部也可以局部重叠。由此，能够将第1层140a与第2层140b电连接。
144.虽然未图示，但第2电极140也可以包含第3层等其他层。第3层等其他层也可以与第1层140a和第2层140b电连接。
145.在以下的说明中，在说明第2电极140的结构中的、第1层140a、第2层140b、第3层等共有的结构的情况下，使用“第2电极140”这样的用语和标号。
146.在有机器件100的制造方法中，可以制作图2所示那样的有机器件组102。有机器件组102包含2个以上的有机器件100。例如，有机器件组102可以包含在第1方向d1和第2方向d2上排列的有机器件100。第2方向d2是与第1方向d1交叉的方向。第2方向d2也可以与第1方向d1正交。在2个以上的有机器件100中，也可以使用共用的1张基板110。例如，有机器件组
102可以位于1张基板110上，且包含构成2个以上的有机器件100的第1电极120、有机层130、第2电极140等的层。通过分割有机器件组102，由此获得有机器件100。
147.如后所述，第1方向d1也可以是用于制造有机器件100的掩模50所延伸的方向。
148.有机器件100在第1方向d1上的尺寸a1例如可以为10mm以上，也可以为30mm以上，还可以为100mm以上。尺寸a1例如可以为200mm以下，可以为500mm以下，也可以为1000mm以下。尺寸a1的范围也可以通过由10mm、30mm及100mm构成的第1组和/或由200mm、500mm及1000mm构成的第2组来确定。尺寸a1的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。尺寸a1的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸a1的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸a1可以为10mm以上且1000mm以下，可以为10mm以上且500mm以下，可以为10mm以上且200mm以下，可以为10mm以上且100mm以下，可以为10mm以上且30mm以下，可以为30mm以上且1000mm以下，可以为30mm以上且500mm以下，可以为30mm以上且200mm以下，可以为30mm以上且100mm以下，可以为100mm以上且1000mm以下，可以为100mm以上且500mm以下，可以为100mm以上且200mm以下，可以为200mm以上且1000mm以下，可以为200mm以上且500mm以下，可以为500mm以上且1000mm以下。
149.有机器件100在第2方向d2上的尺寸a2例如可以为10mm以上，也可以为20mm以上，还可以为50mm以上。尺寸a2例如可以为100mm以下，可以为200mm以下，也可以为500mm以下。尺寸a2的范围可以通过由10mm、20mm及50mm构成的第1组和/或由100mm、200mm及500mm构成的第2组来确定。尺寸a2的范围也可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。尺寸a2的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸a2的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸a2可以为10mm以上且500mm以下，可以为10mm以上且200mm以下，可以为10mm以上且100mm以下，可以为10mm以上且50mm以下，可以为10mm以上且20mm以下，可以为20mm以上且500mm以下，可以为20mm以上且200mm以下，可以为20mm以上且100mm以下，可以为20mm以上且50mm以下，可以为50mm以上且500mm以下，可以为50mm以上且200mm以下，可以为50mm以上且100mm以下，可以为100mm以上且500mm以下，可以为100mm以上且200mm以下，可以为200mm以上且500mm以下。
150.有机器件组102包含多个有机器件100所在的器件区域103。器件区域103在第1方向d1上具有尺寸g12，在第2方向d2上具有尺寸g22。
151.通过使基板110大型化，能够增大器件区域103的尺寸g12和g22。由此，在1张基板110上形成的有机器件100的数量增加。由此，能够降低有机器件100的制造成本。
152.基板110在第1方向d1上的尺寸g11例如可以为1000mm以上，可以为1200mm以上，可以为1300mm以上，也可以为2100mm以上。尺寸g11例如可以为1200mm以下，可以为1300mm以下，可以为1900mm以下，可以为2100mm以下，也可以为2300mm以下。尺寸g11的范围可以通过由1000mm、1200mm、1300mm和2100mm构成的第1组和/或由1200mm、1300mm、1900mm、2100mm和2300mm构成的第2组来确定。尺寸g11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。尺寸g11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸g11的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸g11可以为1000mm以上且2300mm
以下、可以为1000mm以上且2100mm以下、可以为1000mm以上且1900mm以下、可以为1000mm以上且1300mm以下、可以为1000mm以上且1200mm以下、可以为1200mm以上且2300mm以下、可以为1200mm以上且2100mm以下、可以为1200mm以上且1900mm以下、可以为1200mm以上且1300mm以下、可以为1300mm以上且2300mm以下、可以为1300mm以上且2100mm以下、可以为1300mm以上且1900mm以下、可以为1900mm以上且2300mm以下、可以为1900mm以上且2100mm以下、也可以为2100mm以上且2300mm以下。
153.基板110在第2方向d2上的尺寸g21例如可以为1200mm以上，可以为1300mm以上，可以为1500mm以上，可以为2000mm以上，也可以为2400mm以上。尺寸g21例如可以为1300mm以下，可以为2300mm以下，可以为2400mm以下，也可以为2600mm以下。尺寸g21的范围可以通过由1200mm、1300mm、1500mm、2000mm和2400mm构成的第1组和/或由1300mm、2300mm、2400mm和2600mm构成的第2组来确定。尺寸g21的范围也可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。尺寸g21的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸g21的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸g21可以为1200mm以上且2600mm以下，可以为1200mm以上且2400mm以下，可以为1200mm以上且2300mm以下，可以为1200mm以上且1500mm以下，可以为1200mm以上且1300mm以下，可以为1300mm以上且2600mm以下，可以为1300mm以上且2400mm以下，可以为1300mm以上且2300mm以下，可以为1300mm以上且1500mm以下，可以为1500mm以上且2600mm以下，可以为1500mm以上且2400mm以下，可以为1500mm以上且2300mm以下，可以为2000mm以上且2300mm以下，可以为2300mm以上且2600mm以下，可以为2300mm以上且2400mm以下，可以为2400mm以上且2600mm以下。
154.也可以将尺寸g11的特定的数值范围和尺寸g21的特定的数值范围组合。例如，也可以是：尺寸g11为1000mm以上且1200mm以下，尺寸g21为1200mm以上且1300mm以下。例如，也可以是：尺寸g11为1200mm以上且1300mm以下，尺寸g21为2000mm以上且2300mm以下。例如，也可以是：尺寸g11为2100mm以上且2300mm以下，尺寸g21为2400mm以上且2600mm以下。
155.接着，对通过蒸镀法形成有机层130、第2电极140等要素的方法进行说明。图3是示出蒸镀装置10的图。蒸镀装置10实施在基板110上蒸镀蒸镀材料的蒸镀处理。
156.如图3所示，蒸镀装置10可以在其内部具备蒸镀源6、加热器8以及掩模装置15。蒸镀装置10也可以具备用于使蒸镀装置10的内部成为真空气氛的排气单元。蒸镀源6例如是坩埚。蒸镀源6收容有机材料、金属材料等蒸镀材料7。加热器8通过加热蒸镀源6而在真空气氛下使蒸镀材料7蒸发。
157.如图3所示，掩模装置15具备至少1个掩模50。掩模装置15也可以具备支承掩模50的框架40。框架40包含开口45。掩模50也可以以在俯视时横穿开口45的方式固定于框架40。框架40也可以包含固定有掩模50的第1框架面401和位于第1框架面401的相反侧的第2框架面402。框架40也可以将掩模50以在其面方向上拉伸的状态进行支承，以抑制掩模50挠曲。
158.如图3所示，掩模装置15以掩模50与基板110的第1面111面对的方式配置在蒸镀装置10内。掩模50包含使从蒸镀源6飞来的蒸镀材料7通过的多个贯通孔56。在以下的说明中，将掩模50的面向基板110的面称为第1面551。将掩模50的位于第1面551的相反侧的面称为第2面552。
159.如图3所示，蒸镀装置10也可以具备保持基板110的基板保持架2。基板保持架2可
以是能够在基板110的厚度方向上移动。基板保持架2也可以是能够在基板110的面方向上移动。基板保持架2也可以构成为控制基板110的倾斜。例如，基板保持架2也可以包含安装于基板110的外缘的多个卡盘。各卡盘也可以是能够在基板110的厚度方向、面方向上独立地移动。
160.如图3所示，蒸镀装置10也可以具备保持掩模装置15的掩模保持架3。掩模保持架3也可以是能够移动。
161.通过使基板保持架2或掩模保持架3中的至少任一方移动，能够调整掩模50相对于基板110的位置。
162.蒸镀装置10也可以具备冷却板4。如图3所示，冷却板4也可以配置于基板110的第2面112侧。冷却板4也可以具有用于使制冷剂在冷却板4的内部循环的流路。冷却板4能够抑制基板110的温度在蒸镀工序时上升。
163.蒸镀装置10也可以具备磁铁5。如图3所示，磁铁5也可以配置于基板110的第2面112侧。磁铁5也可以配置在冷却板4的远离基板110的面上。磁铁5能够通过磁力将掩模50向基板110侧吸引。由此，能够减少掩模50与基板110之间的间隙、或者消除间隙。由此，能够抑制在蒸镀工序中产生阴影。阴影是指蒸镀材料7进入掩模50与基板110之间的间隙、由此使得蒸镀层的形状变得不均匀的现象。蒸镀层的形状为蒸镀层的厚度、俯视时的蒸镀层的尺寸等。也可以使用利用静电力的静电卡盘将掩模50向基板110侧吸引。
164.图4是示出从第1面551侧观察掩模装置15的情况的俯视图。掩模装置15也可以具备框架40和固定于框架40的掩模50。框架40也可以具有在第1方向d1以及第2方向d2上延伸的矩形的轮廓。框架40也可以以在第1方向d1上对掩模50施加了张力的状态支承掩模50。
165.框架40包含第1边41、第2边42、第3边43、第4边44以及开口45。第1边41和第2边42隔着开口45在第1方向d1上对置。第1边41和第2边42也可以在第2方向d2上延伸。第3边43和第4边44隔着开口45在第2方向d2上对置。第3边43和第4边44也可以在第1方向d1上延伸。第1边41和第4边44也可以比第3边43和第4边44长。开口45位于第1边41与第2边42之间、以及第3边43与第4边44之间。
166.第1边41包含外侧面41a和内侧面41b。第2边42包含外侧面42a和内侧面42b。第3边43包含外侧面43a和内侧面43b。第4边44包含外侧面44a和内侧面44b。内侧面41b、42b、43b、44b面向开口45。外侧面41a、42a在第1方向d1上位于内侧面41b、42b的相反侧。外侧面43a、44a在第2方向d2上位于内侧面43b、44b的相反侧。框架40包含2个边的外侧面相交的角46。
167.框架40在第1方向d1上具有尺寸e11。尺寸e11例如可以为1000mm以上，可以为1200mm以上，可以为1300mm以上，也可以为2100mm以上。尺寸e11例如可以为1200mm以下，可以为1300mm以下，可以为1900mm以下，可以为2100mm以下，也可以为2300mm以下。尺寸e11的范围可以通过由1000mm、1200mm、1300mm及2100mm构成的第1组和/或由1200mm、1300mm、1900mm、2100mm及2300mm构成的第2组来确定。尺寸e11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。尺寸e11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸e11的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸e11可以为1000mm以上且2300mm以下、可以为1000mm以上且2100mm以下、可以为1000mm以上且1900mm以下、可以为1000mm以上且1300mm以下、可以为1000mm以上且1200mm以下、可以为1200mm以
上且2300mm以下、可以为1200mm以上且2100mm以下、可以为1200mm以上且1900mm以下、可以为1200mm以上且1300mm以下、可以为1300mm以上且2300mm以下、可以为1300mm以上且2100mm以下、可以为1300mm以上且1900mm以下、可以为1900mm以上且2300mm以下、可以为1900mm以上且2100mm以下、也可以为2100mm以上且2300mm以下。
168.框架40在第2方向d2上具有尺寸e21。尺寸e21也可以比尺寸e11大。尺寸e21例如可以为1200mm以上，可以为1300mm以上，可以为1500mm以上，可以为2000mm以上，也可以为2400mm以上。尺寸e21例如可以为1300mm以下，可以为2300mm以下，可以为2400mm以下，也可以为2600mm以下。尺寸e21的范围可以通过由1200mm、1300mm、1500mm、2000mm和2400mm构成的第1组和/或由1300mm、2300mm、2400mm和2600mm构成的第2组来确定。尺寸e21的范围也可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。尺寸e21的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸e21的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸e21可以为1200mm以上且2600mm以下、可以为1200mm以上且2400mm以下、可以为1200mm以上且2300mm以下、可以为1200mm以上且1500mm以下、可以为1200mm以上且1300mm以下、可以为1300mm以上且2600mm以下、可以为1300mm以上且2400mm以下、可以为1300mm以上且2300mm以下、可以为1300mm以上且1500mm以下、可以为1500mm以上且2600mm以下、可以为1500mm以上且2400mm以下、可以为1500mm以上且2300mm以下、可以为2000mm以上且2300mm以下、可以为2300mm以上且2600mm以下、可以为2300mm以上且2400mm以下、也可以为2400mm以上且2600mm以下。
169.尺寸e21与尺寸e11之比例如可以为1.1以上，也可以为1.2以上，还可以为1.3以上。尺寸e21与尺寸e11之比例如可以为1.5以下，也可以为1.7以下，还可以为2.0以下。尺寸e21与尺寸e11之比的范围可以通过由1.1、1.2和1.3构成的第1组和/或由1.5、1.7和2.0构成的第2组来确定。尺寸e21与尺寸e11之比的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。尺寸e21与尺寸e11之比的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。尺寸e21与尺寸e11之比的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。例如，尺寸e21与尺寸e11之比可以为1.1以上且2.0以下，可以为1.1以上且1.7以下，可以为1.1以上且1.5以下，可以为1.1以上且1.3以下，可以为1.1以上且1.2以下，可以为1.2以上且2.0以下，可以为1.2以上且1.7以下，可以为1.2以上且1.5以下，可以为1.2以上且1.3以下，可以为1.3以上且2.0以下，可以为1.3以上且1.7以下，可以为1.3以上且1.5以下，可以为1.5以上且2.0以下，可以为1.5以上且1.7以下，也可以为1.7以上且2.0以下。
170.也可以组合尺寸e11的特定的数值范围和尺寸e21的特定的数值范围。例如，也可以是：尺寸e11为1000mm以上且1200mm以下，尺寸e21为1200mm以上且1300mm以下。例如，也可以是：尺寸e11为1200mm以上且1300mm以下，尺寸e21为2000mm以上且2300mm以下。例如，也可以是：尺寸e11为2100mm以上且2300mm以下，尺寸e21为2400mm以上且2600mm以下。
171.开口45在第1方向d1上具有尺寸e12，在第2方向d2上具有尺寸e22。通过增大框架40的尺寸，能够增大开口45的尺寸。通过增大开口45的尺寸，能够增大俯视时与开口45重叠的掩模50的面积。由此，在1张基板110上形成的有机器件100的数量增加。由此，能够降低有机器件100的制造成本。“俯视”是指沿着掩模50的厚度方向观察对象物。
172.掩模50固定于第1边41和第2边42。在俯视时，掩模50包含：固定于第1边41和第2边42的一对端部51；和位于一对端部51之间的中间部52。一对端部51在第1方向d1上对置。中间部52在俯视时与开口45重叠。中间部52包含贯通孔组53。
173.掩模装置15也可以具备沿着第2方向排列的n个掩模50。n为2以上的整数。n也可以是偶数。图4所示的掩模装置15具备10个掩模50。如后所述，n也可以是奇数。
174.掩模50也可以包含中央掩模组50c、第1掩模组50a以及第2掩模组50b。中央掩模组50c、第1掩模组50a以及第2掩模组50b分别包含掩模50。如图4所示，第1掩模组50a在第2方向d2上位于中央掩模组50c与第3边43之间。如图4所示，第2掩模组50b在第2方向d2上位于中央掩模组50c与第4边44之间。
175.中央掩模组50c包含1张或2片掩模50。在n为偶数的情况下，中央掩模组50c也可以包含2张掩模50。在n为奇数的情况下，中央掩模组50c也可以包含1张掩模50。图4所示的中央掩模组50c包含第11掩模50a1和第12掩模50a2。第11掩模50a1也可以位于第2中心线lc2与第3边43之间。第12掩模50a2也可以位于第2中心线lc2与第4边44之间。第2中心线lc2是通过开口45在第2方向d2上的中心并沿第1方向d1延伸的假想的直线。虽未图示，但第11掩模50a1或第12掩模50a2也可以与第2中心线lc2重叠。
176.第1掩模组50a包含1张以上的掩模50。第1掩模组50a也可以包含2张以上的掩模50。图4所示的第1掩模组50a包含在从第3边43朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第11掩模50a1、第12掩模50a2、第13掩模50a3以及第14掩模50a4。
177.第2掩模组50b包含1张以上的掩模50。第2掩模组50b也可以包含2张以上的掩模50。第2掩模组50b所包含的掩模50的数量也可以与第1掩模组50a所包含的掩模50的数量相同。图4所示的第2掩模组50b包含在从第4边44朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第21掩模50b1、第22掩模50b2、第23掩模50b3以及第24掩模50b4。
178.虽未图示，但掩模装置15也可以具备在俯视时与掩模50局部重叠的部件。部件也可以以横穿开口45的方式固定于框架40的边上。部件也可以与掩模50的第2面552相接。部件的一个例子也可以包含固定于第3边43和第4边44的一对端部。部件的一例也可以是：包含固定于第1边41和第2边42的一对端部，且位于在第2方向d2上相邻的2片掩模50之间的间隙。
179.对框架40进行详细说明。第1边41和第2边42也可以在第1方向d1上对掩模50施加张力。例如，第1边41和第2边42也可以在朝向开口45的方向上弹性地变形。
180.例如，第1边41也可以位于线l11的内侧。线l11表示变形前的第1边41的外侧面41a的位置。标号d11表示第1边41在第1方向d1上的变形量。变形量d11可以是越靠近第2中心线lc2越大。线l11也可以设定为连结位于第1边41的两端的角46的直线。
181.例如，第2边42也可以位于线l12的内侧。线l12表示变形前的第2边42的外侧面42a的位置。标号d12表示第2边42在第1方向d1上的变形量。变形量d12也可以是越靠近第2中心线lc2越大。线l12也可以设定为将位于第2边42的两端的角46连结起来的直线。
[0182]“内侧”是指朝向开口45的一侧。“外侧”是指远离开口45的一侧。
[0183]
图5是放大示出第1边41的一部分的俯视图。在第1边41向内侧弹性变形的情况下，在第1边41产生朝向外侧的复原力f。同样地，在第2边42也产生朝向外侧的复原力。因此，掩模50被第1边41和第2边42在第1方向d1上向外侧拉拽。由此，能够抑制在掩模50上产生变形
和松弛。
[0184]
在以下的说明中，有时也用标号txx表示施加于掩模50的张力。“xx”是任意的文字或数字。例如，施加于第14掩模50a4的张力由ta4表示。例如，施加于中央第1掩模50c1的张力由tc1表示。
[0185]
在以下的说明中，有时也用标号fxx表示在掩模50xx的位置处在第1边41上产生的复原力。例如，在第14掩模50a4的位置处在第1边41上产生的复原力用fa4表示。例如，在中央第1掩模50c1的位置处在第1边41上产生的复原力用fc1表示。
[0186]
在以下的说明中，有时也用标号dxx表示第1边41在掩模50xx的位置处的变形量。例如，第1边41在第14掩模50a4的位置处的变形量由标号da4表示。例如，第1边41在中央第1掩模50c1的位置处的变形量由标号dc1表示。
[0187]
第1边41和第2边42从掩模50受到反作用力。在以下的说明中，有时也用标号rxx表示第1边41从掩模50xx受到的反作用力。例如，第1边41从第14掩模50a4受到的反作用力由标号ra4表示。例如，第1边41从中央第1掩模50c1受到的反作用力由标号rc1表示。
[0188]
在以下的说明中，在说明各掩模的共有结构的情况下，有时使用“掩模50”这样的用语和标号。另外，关于张力、复原力、反作用力，在说明各掩模50共同的特征的情况下，有时使用“张力t”、“复原力f”、“反作用力r”等用语和标号。
[0189]
掩模50通过固定部47固定于第1边41和第2边42。例如如图5所示，固定部47包含焊接部47a。焊接部47a是通过掩模50的一部分与框架40的一部分相互熔融而形成的部分。焊接部47a例如通过对与框架40的第1框架面401重叠的掩模50的端部51照射激光而形成。固定部47也可以包含多个焊接部47a。焊接部47a也可以沿着俯视时的第1边41的内缘排列。
[0190]
对第3边43和第4边44进行说明。如图4所示，第3边43和第4边44也可以不弹性变形。或者，第3边43和第4边44也可以弹性地变形。图6是示出掩模装置15的一例的俯视图。
[0191]
如图6所示，第3边43和第4边44也可以向外侧弹性地变形。直线l21表示变形前的第3边43的外侧面43a的位置。直线l22表示变形前的第4边44的外侧面44a的位置。
[0192]
对框架40的尺寸进行说明。框架40的尺寸被设定为适当地产生复原力f。第1边41具有宽度w1。宽度w1是第1边41在第1方向d1上的尺寸。宽度w1例如可以为20mm以上，也可以为60mm以上，还可以为100mm以上。宽度w1例如可以为150mm以下，可以为200mm以下，也可以为250mm以下。宽度w1的范围可以通过由20mm、60mm及100mm构成的第1组和/或由150mm、200mm及250mm构成的第2组来确定。宽度w1的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。宽度w1的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。宽度w1的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，宽度w1可以为20mm以上且250mm以下，可以为20mm以上且200mm以下，可以为20mm以上且150mm以下，可以为20mm以上且100mm以下，可以为20mm以上且60mm以下，可以为60mm以上且250mm以下，可以为60mm以上且200mm以下，可以为60mm以上且150mm以下，可以为60mm以上且100mm以下，可以为100mm以上且250mm以下，可以为100mm以上且200mm以下，可以为100mm以上且150mm以下，可以为150mm以上且250mm以下，可以为150mm以上且200mm以下，可以为200mm以上且250mm以下。
[0193]
第1边41具有截面积b1。截面积b1是在用与第2方向d2正交的平面切断第1边41的情况下算出的截面积。截面积b1例如可以为600mm2以上，可以为1800mm2以上，也可以为
3000mm2以上。截面积b1例如可以为4500mm2以下，可以为6000mm2以下，也可以为7500mm2以下。截面积b1的范围可以通过由600mm2、1800mm2和3000mm2构成的第1组和/或由4500mm2、6000mm2和7500mm2构成的第2组来确定。截面积b1的范围可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。截面积b1的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。截面积b1的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，截面积b1可以为600mm2以上且7500mm2以下，可以为600mm2以上且6000mm2以下，可以为600mm2以上且4500mm2以下，可以为600mm2以上且3000mm2以下，可以为600mm2以上且1800mm2以下，可以为1800mm2以上且7500mm2以下，可以为1800mm2以上且6000mm2以下，可以为1800mm2以上且4500mm2以下，可以为1800mm2以上且3000mm2以下，可以为3000mm2以上且7500mm2以下，可以为3000mm2以上且6000mm2以下，可以为3000mm2以上且4500mm2以下，可以为4500mm2以上且7500mm2以下，可以为4500mm2以上且6000mm2以下，也可以为6000mm2以上且7500mm2以下。
[0194]
作为第2边42的宽度、第3边43的宽度以及第4边44的宽度的数值范围，能够采用上述的宽度w1的数值范围。作为第2边42的截面积、第3边43的截面积以及第4边44的截面积的数值范围，能够采用上述的截面积b1的数值范围。
[0195]
对掩模50进行详细说明。图7是示出掩模50的一例的俯视图。在俯视时，掩模50也可以包含沿第1方向d1延伸的第1侧缘501及第2侧缘502、以及第1端503及第2端504。第1端503及第2端504是掩模50在第1方向d1上的端部。
[0196]
中间部52的贯通孔组53包含在俯视时规则地排列的多个贯通孔56。贯通孔56也可以在2个方向上周期性地排列。例如，贯通孔56也可以在第1方向d1和第2方向d2上周期性地排列。
[0197]
1个贯通孔组53与1个有机器件100对应。例如，1个有机器件100所包含的多个第1有机层130a由通过了1个贯通孔组53的多个贯通孔56的蒸镀材料构成。掩模50包含至少1个贯通孔组53。掩模50也可以包含在第1方向d1上排列的2个以上的贯通孔组53。
[0198]
掩模50在第1方向d1上具有尺寸m11。尺寸m11例如可以为600mm以上，也可以为800mm以上，还可以为1000mm以上。尺寸m11例如可以为1200mm以下，也可以为1500mm以下，还可以为2000mm以下。尺寸m11的范围可以通过由600mm、800mm和1000mm构成的第1组和/或由1200mm、1500mm和2000mm构成的第2组来确定。尺寸m11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。尺寸m11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸m11的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸m11可以为600mm以上且2000mm以下，可以为600mm以上且1500mm以下，可以为600mm以上且1200mm以下，可以为600mm以上且1000mm以下，可以为600mm以上且800mm以下，可以为800mm以上且2000mm以下，可以为800mm以上且1500mm以下，可以为800mm以上且1200mm以下，可以为800mm以上且1000mm以下，可以为1000mm以上且2000mm以下，可以为1000mm以上且1500mm以下，可以为1000mm以上且1200mm以下，可以为1200mm以上且2000mm以下，可以为1200mm以上且1500mm以下，可以为1500mm以上且2000mm以下。
[0199]
掩模50在第2方向d2上具有尺寸m21。尺寸m21例如可以为50mm以上，可以为100mm以上，也可以为150mm以上。尺寸m21例如可以为200mm以下，可以为300mm以下，也可以为
410mm以下。尺寸m21的范围也可以通过由50mm、100mm以及150mm构成的第1组和/或由200mm、300mm以及410mm构成的第2组来确定。尺寸m21的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。尺寸m21的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。尺寸m21的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，尺寸m21可以为50mm以上410mm以下，可以为50mm以上300mm以下，可以为50mm以上200mm以下，可以为50mm以上150mm以下，可以为50mm以上100mm以下，可以为100mm以上410mm以下，可以为100mm以上300mm以下，可以为100mm以上200mm以下，可以为100mm以上150mm以下，可以为150mm以上410mm以下，可以为150mm以上300mm以下，可以为150mm以上200mm以下，可以为200mm以上410mm以下，可以为200mm以上300mm以下，可以为300mm以上410mm以下。
[0200]
接着，对掩模50的截面构造进行说明。图8是示出掩模50的一例的剖视图。
[0201]
掩模50具备基材55和贯通基材55的贯通孔56。基材55包含第1面551及第2面552。贯通孔56从第1面551向第2面552贯通基材55。
[0202]
贯通孔56也可以包含第1凹部561、第2凹部562、以及连接第1凹部561和第2凹部562的连接部563。第1凹部561是位于第1面551且朝向第2面552凹陷的凹部。第2凹部562是位于第2面552且朝向第1面551凹陷的凹部。通过连接第1凹部561和第2凹部562，由此构成贯通孔56。第1凹部561是通过从第1面551侧利用蚀刻或激光等对基材55进行加工而形成的。第2凹部562是通过从第2面552侧利用蚀刻或激光等对基材55进行加工而形成的。
[0203]
第1凹部561在俯视观察时具有尺寸r1。第2凹部562在俯视时具有尺寸r2。尺寸r2也可以大于尺寸r1。例如，在俯视观察时，第2凹部562的轮廓也可以包围第1凹部561的轮廓。
[0204]
连接部563也可以具有遍及一周连续的轮廓。连接部563也可以位于第1面551与第2面552之间。连接部563也可以划分出在俯视观察掩模50时贯通孔56的开口面积成为最小的贯通部564。
[0205]
贯通部564的尺寸r例如可以为10μm以上，也可以为15μm以上，也可以为20μm以上，也可以为25μm以上。另外，贯通部564的尺寸r例如可以为40μm以下，可以为45μm以下，可以为50μm以下，也可以为55μm以下。贯通部564的尺寸r的范围可以通过由10μm、15μm、20μm和25μm构成的第1组和/或由40μm、45μm、50μm和55μm构成的第2组来确定。贯通部564的尺寸r的范围可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。贯通部564的尺寸r的范围也可以通过上述第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。贯通部564的尺寸r的范围也可以通过上述第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，贯通部564的尺寸r可以为10μm以上且55μm以下，可以为10μm以上且50μm以下，可以为10μm以上且45μm以下，可以为10μm以上且40μm以下，可以为10μm以上且25μm以下，可以为10μm以上且20μm以下，可以为10μm以上且15μm以下，可以为15μm以上且55μm以下，可以为15μm以上且50μm以下，可以为15μm以上且45μm以下，可以为15μm以上且40μm以下，可以为15μm以上且25μm以下，可以为15μm以上且20μm以下，可以为20μm以上且55μm以下，可以为20μm以上且50μm以下，可以为20μm以上且45μm以下，可以为20μm以上且40μm以下，可以为20μm以上且25μm以下，可以为25μm以上且55μm以下，可以为25μm以上且50μm以下，可以为25μm以上且45μm以下，可以为25μm以上且40μm以下，可以为40μm以上且55μm以
下，可以为40μm以上且50μm以下，可以为40μm以上且45μm以下，可以为45μm以上且55μm以下，可以为45μm以上且50μm以下，可以为50μm以上且55μm以下。
[0206]
贯通部564的尺寸r由透过贯通孔56的光划定。具体而言，使平行光沿着掩模50的法线方向入射到掩模50的第1面551和第2面552的一方，使其透过贯通孔56而从第1面551和第2面552的另一方射出。采用射出的光在掩模50的面方向上所占的区域的尺寸作为贯通部564的尺寸r。
[0207]
在图8中，示出了在相邻的两个第2凹部562之间残留有基材55的第2面552的例子，但不限于此。虽未图示，但也可以以连接相邻的2个第2凹部562的方式实施蚀刻。即，也可以存在这样的部位：在相邻的2个第2凹部562之间未残留基材55的第2面552。
[0208]
对掩模50及框架40的材料进行说明。作为掩模50和框架40的主要材料，能够使用含有镍的铁合金。铁合金除了镍以外还可以含有钴。例如，作为掩模50的基材55的材料，能够使用镍及钴的含量合计为28质量％以上且54质量％以下、且钴的含量为0质量％以上且6质量％以下的铁合金。由此，能够减小掩模50和框架40的热膨胀系数与包含玻璃的基板110的热膨胀系数之差。因此，能够抑制如下情况：通过蒸镀处理而在基板110上形成的层的尺寸精度和位置精度因掩模50、框架40、基板110等的热膨胀而降低。
[0209]
基材55中的镍的含量和钴的含量的合计可以为28质量％以上且38质量％以下。在这种情况下，作为含镍或含镍和钴的铁合金的具体例，可以举出因瓦合金材料、超级因瓦合金材料、超因瓦合金材料(
ウルトラインバー
材)等。因瓦合金材料是含有34质量％以上且38质量％以下的镍、和余量的铁及不可避免的杂质的铁合金。超级因瓦合金材料是含有30质量％以上且34质量％以下的镍、钴、以及余量的铁和不可避免的杂质的铁合金。超因瓦合金材料是含有28质量％以上且34质量％以下的镍、2质量％以上且7质量％以下的钴、0.1质量％以上且1.0质量％以下的锰、0.10质量％以下的硅、0.01质量％以下的碳、余量的铁以及不可避免的杂质的铁合金。
[0210]
掩模50中的镍的含量和钴的含量的合计可以为38质量％以上且54质量％以下。例如，掩模50也可以由包含38质量％以上且54质量％以下的镍和余量的铁及不可避免的杂质的铁合金构成。这样的掩模50也可以通过镀覆法制造。
[0211]
在蒸镀处理时，在掩模50、框架40以及基板110的温度未达到高温的情况下，不需要将掩模50和框架40的热膨胀系数设为与基板110的热膨胀系数同等的值。在该情况下，作为构成掩模50的材料，也可以使用上述的铁合金以外的材料。例如，也可以使用含铬的铁合金等上述的含镍的铁合金以外的铁合金。作为含铬的铁合金，例如可以使用被称为所谓的不锈钢的铁合金。另外，也可以使用镍、镍-钴合金等铁合金以外的合金。
[0212]
掩模50的厚度t0例如可以为8μm以上，可以为10μm以上，可以为13μm以上，也可以为15μm以上。另外，厚度t0例如可以为20μm以下，可以为30μm以下，可以为40μm以下，也可以为50μm以下。厚度t0的范围可以通过由8μm、10μm、13μm和15μm构成的第1组和/或由20μm、30μm、40μm和50μm构成的第2组来确定。厚度t0的范围可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。厚度t0的范围可以通过上述第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。厚度t0的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，厚度t0可以为8μm以上且50μm以下，可以为8μm以上且40μm以下，可以为8μm以上且30μm以下，可以为8μm以上且20μm以下，可以为8μm以
上且15μm以下，可以为8μm以上且13μm以下，可以为8μm以上且10μm以下，可以为10μm以上且50μm以下，可以为10μm以上且40μm以下，可以为10μm以上且30μm以下，可以为10μm以上且20μm以下，可以为10μm以上且15μm以下，可以为10μm以上且13μm以下，可以为13μm以上且50μm以下，可以为13μm以上且40μm以下，可以为13μm以上且30μm以下，可以为13μm以上且20μm以下，可以为13μm以上且15μm以下，可以为15μm以上且50μm以下，可以为15μm以上且40μm以下，可以为15μm以上且30μm以下，可以为15μm以上且20μm以下，可以为20μm以上且50μm以下，可以为20μm以上且40μm以下，可以为20μm以上且30μm以下，可以为30μm以上且50μm以下，可以为30μm以上且40μm以下，可以为40μm以上且50μm以下。
[0213]
通过将厚度t0设为50μm以下，能够抑制蒸镀材料7在通过贯通孔56之前附着于贯通孔56的壁面。由此，能够提高蒸镀材料7的利用效率。另外，通过将厚度t0设为8μm以上，能够确保掩模50的强度，从而能够抑制掩模50产生损伤、变形。
[0214]
作为测量厚度t0的方法，采用接触式的测量方法。作为接触式的测量方法，使用具备滚珠衬套引导式的柱塞的、hidenhain公司制的长尺heidenhaim-metro的“mt1271”。
[0215]
接着，对制造上述掩模装置15的制造装置进行说明。图9是示出制造装置60的一例的框图。图10是示出制造装置60的一例的俯视图。制造装置60也可以具备按压机构62、位移测量机构61以及控制装置63。制造装置60也可以具备观察装置73、固定装置74、拉伸装置76等。
[0216]
按压机构62在朝向开口45的方向上按压框架40的第1边41和第2边42。例如，按压机构62在第1方向d1上向内侧按压第1边41和第2边42。位移测量机构61测量第1方向d1上的第1边41的变形量和第2边42的变形量。
[0217]
控制装置63基于与第1边41和第2边42的变形量相关的信息来控制按压机构62。若使第1边41和第2边42向内侧弹性变形，则在第1边41和第2边42上产生朝向外侧的复原力。因此，掩模50被第1边41和第2边42在第1方向d1上向外侧拉拽。通过调整第1边41和第2边42的变形量，能够调整施加于掩模50的张力。通过以使第1边41和第2边42的变形量成为目标变形量的方式控制按压机构62，能够适当地调整施加于掩模50的张力。
[0218]
控制装置63的功能例如也可以通过在个人电脑等计算机中工作的软件来实现。例如，也可以是，通过将程序安装于计算机，由此，计算机作为控制装置63发挥功能。
[0219]
程序可以在计算机出厂时预先安装于计算机，或者也可以在计算机出厂后通过利用记录有程序的计算机可读取的非暂时性的记录介质来安装于计算机。记录介质的类型没有特别限定，可以考虑磁盘、光盘等便携式记录介质、或者硬盘装置、存储器等固定型的记录介质等各种记录介质。另外，程序也可以经由因特网等通信线路发布。此外，在经由通信线路分发程序的情况下，在用于分发的服务器中，至少暂时存在保存有本实施方式的程序的记录介质。
[0220]
观察装置73观察掩模50。观察装置73例如包含照相机。观察装置73检测掩模50的贯通孔56、轮廓等。观察装置73也可以检测形成于掩模50的标记。
[0221]
观察装置73也可以由移动机构71支承。移动机构71使观察装置73沿着第1方向d1、第2方向d2等移动。例如，移动机构71也可以包含使观察装置73沿着第1方向d1移动的第1移动装置72。移动机构71也可以包含使第1移动装置72沿着第2方向d2移动的第2移动装置。观察装置73在多个位置观察掩模50，由此能够得到与掩模50相对于框架40的位置相关的信
息。
[0222]
拉伸装置76在第1方向d1上对未固定于框架40的状态的掩模50施加张力。如后所述，拉伸装置76例如包含夹具。拉伸装置76也能够在框架40的第1框架面401的面内方向上搬运掩模50。
[0223]
固定装置74将掩模50固定于第1边41和第2边42。固定装置74例如朝向掩模50照射激光。上述的焊接部47a形成于掩模50与框架40之间，由此掩模50被固定于框架40。固定装置74也可以在拉伸装置76对掩模50施加了张力的状态下将掩模50固定于框架40。
[0224]
固定装置74也可以由移动机构71支承。使固定装置74移动的移动机构71可以与使观察装置73移动的移动机构71相同，也可以不同。
[0225]
控制装置63也可以根据来自观察装置73的信息来控制拉伸装置76和固定装置74。例如，控制装置63控制拉伸装置76，以使掩模50的贯通孔56、轮廓、标记等的位置朝向目标位置。例如，控制装置63控制拉伸装置76的位置、拉伸装置76对掩模50施加的张力等。控制装置63也可以在掩模50的实际位置与目标位置之差为阈值以下的情况下通过控制固定装置74而将掩模50固定于框架40。
[0226]
控制拉伸装置76及固定装置74的控制装置63可以与控制按压机构62的控制装置63相同，也可以不同。
[0227]
对按压机构62进行详细说明。按压第1边41的按压机构62也可以包含多个按压装置。优选地，按压机构62包含按压第1边41的5个以上的按压装置。例如，按压机构62也可以包含按压第1边41的6个按压装置。各按压装置也可以将第1边41的外侧面41a向内侧按压。
[0228]
按压第1边41的按压装置也可以分类为中央组62c、第1组62a以及第2组62b。如图10所示，第1组62a在第2方向d2上位于中央组62c与第3边43之间。第2组62b在第2方向d2上位于中央组62c与第4边44之间。
[0229]
中央组62c包含1个或2个按压装置。在表示掩模50的数量的上述n为偶数的情况下，中央组62c也可以包含2个按压装置。在n为奇数的情况下，中央组62c也可以包含1个按压装置。在本实施方式中，中央组62c包含第1中央按压装置62c1和第2中央按压装置62c2。如图10所示，第1中央按压装置62c1也可以位于第2中心线lc2与第3边43之间。第2中央按压装置62c2也可以位于第2中心线lc2与第4边44之间。虽未图示，但第1中央按压装置62c1或第2中央按压装置62c2也可以与第2中心线lc2重叠。
[0230]
第1组62a包含2个以上的按压装置。在本实施方式中，第1组62a包含在从第3边43朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第11按压装置62a1和第12按压装置62a2。
[0231]
第2组62b包含2个以上的按压装置。第2组62b所包含的按压装置的数量也可以与第1组62a所包含的按压装置的数量相同。在本实施方式中，第2组62b包含在从第4边44朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第21按压装置62b1和第22按压装置62b2。
[0232]
按压装置也可以沿着第2方向d2隔开间隔地排列。在图10所示的例子中，在从第3边43朝向第4边44的方向上依次排列有第11按压装置62a1、第12按压装置62a2、第1中央按压装置62c1、第2中央按压装置62c2、第22按压装置62b2以及第21按压装置62b1。
[0233]
优选的是，在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔为500mm以下。通过减小间隔，能够精密地调整第1边41的各位置处的第1边41的变形量。由此，能够抑制第1边41施加于各掩模50的张力偏离目标张力。基于按压装置的与第1边41接触的部分的中心的位置
来计算间隔。标号65a1、65a2、65c1、65c2、65b2以及65b1表示与第1边41接触的第11按压装置62a1、第12按压装置62a2、第1中央按压装置62c1、第2中央按压装置62c2、第22按压装置62b2以及第21按压装置62b1的部分。
[0234]
相邻的2个按压装置之间的间隔例如可以为50mm以上，可以为100mm以上，也可以为200mm以上。相邻的2个按压装置之间的间隔例如可以为300mm以下，也可以为400mm以下，还可以为500mm以下。相邻的2个按压装置之间的间隔的范围可以通过由50mm、100mm及200mm构成的第1组和/或由300mm、400mm及500mm构成的第2组来确定。相邻的2个按压装置之间的间隔的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。相邻的2个按压装置之间的间隔的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。相邻的2个按压装置之间的间隔的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，相邻的2个按压装置之间的间隔可以为50mm以上且500mm以下，可以为50mm以上且400mm以下，可以为50mm以上且300mm以下，可以为50mm以上且200mm以下，可以为50mm以上且100mm以下，可以为100mm以上且500mm以下，可以为100mm以上且400mm以下，可以为100mm以上且300mm以下，可以为100mm以上且200mm以下，可以为200mm以上且500mm以下，可以为200mm以上且400mm以下，可以为200mm以上且300mm以下，可以为300mm以上且500mm以下，可以为300mm以上且400mm以下，可以为400mm以上且500mm以下。
[0235]
标号s2_aa表示属于第1组62a的2个按压装置之间的间隔。标号s2_ac表示属于第1组62a的按压装置与属于中央组62c的按压装置之间的间隔。标号s2_cc表示属于中央组62c的2个按压装置之间的间隔。标号s2_bc表示属于第2组62b的按压装置与属于中央组62c的按压装置之间的间隔。标号s2_bb表示属于第2组62b的2个按压装置之间的间隔。间隔s2_aa、间隔s2_ac、间隔s2_cc、间隔s2_bc以及间隔s2_bb可以相同，也可以不同。
[0236]
按压第2边42的按压机构62也可以包含多个按压装置。优选的是，按压机构62包含按压第2边42的5个以上的按压装置。在图10所示的例子中，按压机构62包含按压第2边42的6个按压装置。各按压装置也可以将第2边42的外侧面42a向内侧按压。
[0237]
按压第2边42的按压装置的结构也可以与按压第1边41的按压装置的结构相同。例如，如图10所示，按压机构62也可以包含在从第3边43朝向第4边44的方向上依次排列并按压第2边42的第11按压装置62a1、第12按压装置62a2、第1中央按压装置62c1、第2中央按压装置62c2、第22按压装置62b2以及第21按压装置62b1。
[0238]
优选的是，位于第2边42且在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔也为500mm以下。作为位于第2边42且在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔的数值的范围，能够采用位于第1边41且在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔的数值的范围。位于第1边41的按压装置和位于第2边42的按压装置也可以在第1方向d1上排列。例如，位于第1边41的第1中央按压装置62c1和位于第2边42的第1中央按压装置62c1也可以在第2方向d2上位于同一坐标。
[0239]
图10所示的标号s_11表示按压第1边41的按压装置与按压第2边42的按压装置之间的、在第1方向d1上的距离。距离s_11例如可以为1300mm以上，可以为1500mm以上，也可以为1700mm以上。距离s_11例如可以为1900mm以下，可以为2100mm以下，也可以为2400mm以下。距离s_11的范围可以通过由1300mm、1500mm及1700mm构成的第1组和/或由1900mm、
2100mm及2400mm构成的第2组来确定。距离s_11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。距离s_11的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。距离s_11的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，距离s_11可以为1300mm以上且2400mm以下，可以为1300mm以上且2100mm以下，可以为1300mm以上且1900mm以下，可以为1300mm以上且1700mm以下，可以为1300mm以上且1500mm以下，可以为1500mm以上且2400mm以下，可以为1500mm以上且2100mm以下，可以为1500mm以上且1900mm以下，可以为1500mm以上且1700mm以下，可以为1700mm以上且2400mm以下，可以为1700mm以上且2100mm以下，可以为1700mm以上且1900mm以下，可以为1900mm以上且2400mm以下，可以为1900mm以上且2100mm以下，可以为2100mm以上且2400mm以下。
[0240]
在对各按压装置共同的结构进行说明的情况下，有时使用“按压装置62x”这样的用语和标号。
[0241]
对位移测量机构61进行详细说明。测量第1边41的变形量的位移测量机构61也可以包含多个位移计。优选地，位移测量机构61包含在各按压装置的附近测量第1边41的变形量的位移计。优选的是，测量第1边41的变形量的位移计的数量为按压第1边41的按压装置的数量以上。例如，在按压第1边41的按压装置的数量为5个的情况下，优选的是，位移测量机构61包含5个以上的位移计。由此，能够在所有的按压装置的附近配置位移计。
[0242]
如图9所示，在按压装置的附近测量第1边41的变形量的位移计也可以分类为中央测量组61c、第1测量组61a以及第2测量组61b。第1测量组61a在第2方向d2上位于中央测量组61c与第3边43之间。第2测量组61b在第2方向d2上位于中央测量组61c与第4边44之间。
[0243]
中央测量组61c包含1个或2个位移计。在上述的按压机构62的中央组62c包含1个按压装置的情况下，中央测量组61c也可以包含1个位移计。在中央组62c包含2个按压装置的情况下，中央测量组61c也可以包含2个位移计。在本实施方式中，中央测量组61c包含第1中央位移计61c1和第2中央位移计61c2。第1中央位移计61c1位于第1中央按压装置62c1的附近。第2中央位移计61c2位于第2中央按压装置62c2的附近。
[0244]
第1测量组61a包含2个以上的位移计。在本实施方式中，第1测量组61a包含在从第3边43朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第11位移计61a1和第12位移计61a2。第11位移计61a1位于第11按压装置62a1的附近。第12位移计61a2位于第12按压装置62a2的附近。
[0245]
第2测量组61b包含2个以上的位移计。在本实施方式中，第2测量组61b包含在从第4边44朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第21位移计61b1和第22位移计61b2。第21位移计61b1位于第21按压装置62b1的附近。第22位移计61b2位于第22按压装置62b2的附近。
[0246]
在说明各位移计共同的结构的情况下，有时使用“位移计61x”这样的用语和标号。
[0247]
图11是示出按压装置62x及位移计61x的一例的图。位移计61x位于按压装置62x的附近。按压装置62x与位移计61x之间在第2方向d2上的间隔s_f优选为100mm以下。通过减小间隔s_f，能够基于位移计61x的测量结果更精密地控制按压装置62x。因此，能够精密地调整第1边41在各位置处的变形量。由此，能够抑制第1边41施加于各掩模50的张力偏离目标张力。间隔s_f是基于按压装置62x的与第1边41接触的部分65的中心的位置、和位移计61x所测量的第1边41的位置来算出的。在位移计61x与第1边41接触的情况下，位移计61x测量出的第1边41的位置是位移计61x的与第1边41接触的部分64的中心的位置。在使用制造装
置60制造掩模装置15的期间，优选将间隔s_f维持为恒定。即，位移计61x优选在第2方向d2上相对于按压装置62x静止。在使用制造装置60制造掩模装置15的期间，将在第2方向d2上相对于按压装置62x静止的位移计61x也称为静止型的位移计61x。
[0248]
间隔s_f例如可以为1mm以上，也可以为5mm以上，还可以为10mm以上。间隔s_f例如可以为20mm以下，可以为50mm以下，也可以为100mm以下。间隔s_f的范围可以通过由1mm、5mm和10mm构成的第1组和/或由20mm、50mm和100mm构成的第2组来确定。间隔s_f的范围也可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。间隔s_f的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。间隔s_f的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，间隔s_f可以为1mm以上且100mm以下，可以为1mm以上且50mm以下，可以为1mm以上且20mm以下，可以为1mm以上且10mm以下，可以为1mm以上且5mm以下，可以为5mm以上且100mm以下，可以为5mm以上且50mm以下，可以为5mm以上且20mm以下，可以为5mm以上且10mm以下，可以为10mm以上且100mm以下，可以为10mm以上且50mm以下，可以为10mm以上且20mm以下，可以为20mm以上且100mm以下，可以为20mm以上且50mm以下，可以为50mm以上且100mm以下。
[0249]
位移计61x也可包含传感器头611及支承部612。支承部612以使传感器头611能够在第1方向d1上移动的方式支承传感器头611。传感器头611包含与第1边41的外侧面41a接触的末端。位移计61x基于传感器头611的末端的位置来检测第1边41的变形量。
[0250]
按压装置62x也可以包含杆621和驱动部622。驱动部622在第1方向d1上驱动杆621。驱动部622例如包含马达。杆621包含与第1边41的外侧面41a接触的末端。按压装置62x也可以包含测力传感器等载荷计。载荷计检测杆621施加于框架40的按压力。
[0251]
如图10所示，位移测量机构61也可以包含第1辅助位移计61d和第2辅助位移计61e。第1辅助位移计61d在沿第2方向d2从第3边43的外侧面43a离开距离s_d的位置处测量第1边41的变形量。第2辅助位移计61e在沿第2方向d2从第4边44的外侧面44a离开距离s_e的位置处测量第1边41的变形量。第1辅助位移计61d和第2辅助位移计61e的结构可以与中央测量组61c、第1测量组61a和第2测量组61b的位移计的结构相同，也可以不同。
[0252]
距离s_d和距离s_e例如可以为1mm以上，也可以为5mm以上，还可以为20mm以上。距离s_d和距离s_e例如可以为50mm以下，可以为100mm以下，也可以为200mm以下。距离s_d和距离s_e的范围也可以通过由1mm、5mm以及20mm构成的第1组和/或者由50mm、100mm以及200mm构成的第2组来决定。距离s_d和距离s_e的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。距离s_d和距离s_e的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。距离s_d和距离s_e的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。例如，距离s_d和距离s_e可以为1mm以上且200mm以下，可以为1mm以上且100mm以下，可以为1mm以上且50mm以下，可以为1mm以上且20mm以下，可以为1mm以上且5mm以下，可以为5mm以上且200mm以下，可以为5mm以上且100mm以下，可以为5mm以上且50mm以下，可以为5mm以上且20mm以下，可以为20mm以上且200mm以下，可以为20mm以上且100mm以下，可以为20mm以上且50mm以下，可以为50mm以上且200mm以下，可以为50mm以上且100mm以下，可以为100mm以上且200mm以下。
[0253]
优选的是，在第2方向d2上相邻的2个位移计之间的间隔为500mm以下。通过减小间
隔，能够准确地测量第1边41的各位置处的变形量。因此，能够使用按压装置精密地调整第1边41的各位置处的变形量。由此，能够抑制第1边41施加于各掩模50的张力偏离目标张力。
[0254]
相邻的2个位移计之间的间隔例如可以为50mm以上，可以为100mm以上，也可以为200mm以上。相邻的2个位移计之间的间隔例如可以为300mm以下，也可以为400mm以下，还可以为500mm以下。相邻的2个位移计之间的间隔的范围可以通过由50mm、100mm及200mm构成的第1组和/或由300mm、400mm及500mm构成的第2组来确定。相邻的2个位移计之间的间隔的范围可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。相邻的2个位移计之间的间隔的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。相邻的2个位移计之间的间隔的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，相邻的2个位移计之间的间隔可以为50mm以上且500mm以下，可以为50mm以上且400mm以下，可以为50mm以上且300mm以下，可以为50mm以上且200mm以下，可以为50mm以上且100mm以下，可以为100mm以上且500mm以下，可以为100mm以上且400mm以下，可以为100mm以上且300mm以下，可以为100mm以上且200mm以下，可以为200mm以上且500mm以下，可以为200mm以上且400mm以下，可以为200mm以上且300mm以下，可以为300mm以上且500mm以下，可以为300mm以上且400mm以下，可以为400mm以上且500mm以下。
[0255]
标号s1_aa表示属于第1测量组61a的2个位移计之间的间隔。标号s1_ac表示属于第1测量组61a的位移计与属于中央测量组61c的位移计之间的间隔。标号s1_cc表示属于中央测量组61c的2个位移计之间的间隔。标号s1_bc表示属于第2测量组61b的位移计与属于中央测量组61c的位移计之间的间隔。标号s1_bb表示属于第2测量组61b的2个位移计之间的间隔。间隔s1_aa、间隔s1_ac、间隔s1_cc、间隔s1_bc以及间隔s1_bb可以相同，也可以不同。
[0256]
优选地，在第2方向d2上相邻的位移计与辅助位移计之间的间隔为500mm以下。作为位移计与辅助位移计之间的间隔的数值的范围，可以采用上述的“2个位移计之间的间隔”的数值的范围。
[0257]
测量第2边42的变形量的位移测量机构61也可以包含多个位移计。优选地，位移测量机构61包含在各按压装置的附近测量第2边42的变形量的位移计。优选的是，测量第2边42的变形量的位移计的数量为按压第2边42的按压装置的数量以上。例如，在按压第2边42的按压装置的数量为5个的情况下，优选的是，位移测量机构61包含5个以上的位移计。测量第2边42的变形量的位移测量机构61也可以包含第1辅助位移计61d以及第2辅助位移计61e。
[0258]
在第2边42上，按压装置与位移计之间在第2方向d2上的间隔也优选为100mm以下。作为第2边42上的、按压装置与位移计之间在第2方向d2上的间隔的数值的范围，能够采用第1边41上的、按压装置与位移计之间在第2方向d2上的间隔的数值的范围。
[0259]
在第2边42上，相邻的2个位移计之间的、在第2方向d2上的间隔的范围也为500mm以下。作为沿着第2边42相邻的2个位移计之间的、在第2方向d2上的间隔的范围，能够采用沿着第1边41相邻的2个位移计之间的间隔的数值的范围。
[0260]
位于第1边41的位移计和位于第2边42的位移计也可以在第1方向d1上排列。例如，位于第1边41的第1中央位移计61c1和位于第2边42的第1中央位移计61c1也可以在第2方向
d2上位于同一坐标。
[0261]
测量第2边42的变形量的位移测量机构61也可以包含第1辅助位移计61d以及第2辅助位移计61e。
[0262]
接着，对使用制造装置60制造掩模装置15的方法进行说明。图12是示出制造方法的一例的流程图。首先，准备框架40(工序s1)。框架40也可以放置在制造装置60的未图示的工作台上。接着，确定框架40的基准位置(工序s2)。例如，在按压机构62未按压框架40的状态下，使用位移测量机构61测量框架40的位置。例如，在使按压装置62x的杆621从框架40离开的状态下，使位移计61x的传感器头611与框架40接触。由此，框架40未变形时的框架40的位置、即基准位置被确定。
[0263]
接着，实施将n张掩模50依次安装于框架40的掩模安装工序s3。将第k张(k为1以上且n以下的整数)掩模50安装于框架40的工序也称为第k掩模安装工序s3(k)。掩模安装工序s3包含第1掩模安装工序s3(1)～第n掩模安装工序s3(n)这n次工序。
[0264]
在掩模安装工序s3中，如图12所示，将调整工序s4及配置工序s5重复n次。也将第k掩模安装工序s3(k)中的调整工序和配置工序称为第k调整工序s4(k)和第k配置工序s5(k)。
[0265]
在调整工序s4中，调整按压机构62在朝向开口45的方向上施加于第1边41和第2边42的按压力。具体而言，调整工序s4调整按压力，以使各掩模50被固定于第1边41和第2边42时的第1边41和第2边42的变形量成为目标变形量。在掩模装置15的制造方法中，也将按压机构62对第1边41和第2边42施加的按压力称为第1按压力。
[0266]
目标变形量在第1边41的各位置以及第2边42的各位置处被预先确定。以目标变形量变形的第1边41和第2边42能够在n条掩模50被安装于框架40的状态下基于弹性的恢复力对各掩模50施加目标张力。目标变形量也可以基于框架40的形状、物性等来计算。例如，也可以基于通过cad等制作的框架40的三维形状，使用有限元法来算出复原力与变形量的关系。也可以基于该关系来算出目标变形量。
[0267]
在以下的说明中，有时也用标号p(k)表示在第k调整工序s4(k)中施加于第1边41的第1按压力。另外，在第k调整工序s4(k)中，有时也用标号p(k)_a1、p(k)_a2、p(k)_b1、p(k)_b2、p(k)_c1、p(k)_c2来表示第11按压装置62a1、第12按压装置62a2、第21按压装置62b1、第22按压装置62b2、第1中央按压装置62c1、第2中央按压装置62c2对第1边41施加的第1按压力。
[0268]
有时也用标号p(k)_a表示在第k调整工序s4(k)中由第1组62a的按压装置对第1边41施加的第1按压力的平均值。有时也用标号p(k)_b表示在第k调整工序s4(k)中由第2组62b的按压装置对第1边41施加的第1按压力的平均值。有时也用标号p(k)_c表示在第k调整工序s4(k)中由中央组62c的按压装置对第1边41施加的第1按压力的平均值。
[0269]
在以下的说明中，有时也用标号d(k)表示在第k调整工序s4(k)中在第1边41上产生的变形量。另外，有时也将在第k调整工序s4(k)中由第11位移计61a1、第12位移计61a2、第21位移计61b1、第22位移计61b2、第1中央位移计61c1、第2中央位移计61c2、第1辅助位移计61d、第2辅助位移计61e测量出的变形量用标号d(k)_a1、d(k)_a2、d(k)_b1、d(k)_b2、d(k)_c1、d(k)_c2、d(k)_d、d(k)_e表示。
[0270]
在以下的说明中，有时也用标号t_a1表示第11位移计61a1对第1边41进行测量的
位置处的目标变形量。同样，有时也将对应于第12位移计61a2、第21位移计61b1、第22位移计61b2、第1中央位移计61c1、第2中央位移计61c2、第1辅助位移计61d和第2辅助位移计61e的目标变形量用标号t_a2、t_b1、t_b2、t_c1、t_c2、t_d和t_e表示。
[0271]
图13是示出调整工序s4和配置工序s5的一例的流程图。第k调整工序s4(k)也可以包含按压工序s41(k)和判定工序s42(k)。按压工序s41(k)调整针对框架40的第1按压力p(k)。判定工序s42(k)判定δd(k)是否为第1阈值th1以下。δd(k)是变形量d(k)与目标变形量之差的绝对值。δd(k)例如是第1中央位移计61c1测量出的变形量d(k)_c1与目标变形量t_c1之差的绝对值。判定工序s42(k)也可以关于多个变形量的测量值来判定δd(k)是否为第1阈值th1以下。例如，判定工序s42(k)也可以判定变形量d(k)_c1与目标变形量t_c1之差、变形量d(k)_a1与目标变形量t_a1之差、以及变形量d(k)_a2与目标变形量t_a2之差是否为第1阈值th1以下。判定工序s42(k)也可以分别关于上述的变形量d(k)_a1、d(k)_a2、d(k)_b1、d(k)_b2、d(k)_c1、d(k)_c2、d(k)_d、d(k)_e来判定δd(k)是否为第1阈值th1以下。
[0272]
第1阈值th1也可以基于所要求的张力的精度来确定。第1阈值th1例如可以为0.01μm以上，可以为0.02μm以上，也可以为0.05μm以上。第1阈值th1例如可以为0.10μm以下，可以为0.15μm以下，也可以为0.20μm以下。第1阈值th1的范围也可以通过由0.01μm、0.02μm以及0.05μm构成的第1组和/或由0.10μm、0.15μm以及0.20μm构成的第2组来确定。第1阈值th1的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。第1阈值th1的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。第1阈值th1的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，第1阈值th1可以为0.01μm以上且0.20μm以下，可以为0.01μm以上且0.15μm以下，可以为0.01μm以上且0.10μm以下，可以为0.01μm以上且0.05μm以下，可以为0.01μm以上且0.02μm以下，可以为0.02μm以上且0.20μm以下，可以为0.02μm以上且0.15μm以下，可以为0.02μm以上且0.10μm以下，可以为0.02μm以上且0.05μm以下，可以为0.05μm以上且0.20μm以下，可以为0.05μm以上且0.15μm以下，可以为0.05μm以上且0.10μm以下，可以为0.10μm以上且0.20μm以下，可以为0.10μm以上且0.15μm以下，可以为0.15μm以上且0.20μm以下。
[0273]
在配置工序s5中，将掩模50的端部51固定于第1边41和第2边42。第k固定工序s5(k)也可以包含调整第k张掩模50的位置的位置调整工序s51(k)、判定工序s52(k)以及固定工序s53(k)。
[0274]
位置调整工序s51(k)也可以在对掩模50施加了张力的状态下调整掩模50的位置。通过使用上述的移动机构71和拉伸装置76，能够在对掩模50施加了张力的状态下调整掩模50的位置。位置调整工序s51(k)也可以以掩模50相对于框架40的位置成为目标位置的方式控制移动机构71和拉伸装置76。例如，位置调整工序s51(k)也可以基于来自上述的观察装置73的信息来控制拉伸装置76和固定装置74。
[0275]
判定工序s52(k)判定掩模误差是否为第2阈值th2以下。掩模误差例如是掩模50的标记的实际位置与目标位置之差的绝对值。判定工序s52(k)也可以针对1个标记判定掩模误差是否为第2阈值th2以下。判定工序s52(k)也可以针对2个以上的标记判定掩模误差是否为第2阈值th2以下。判定工序s52(k)也可以基于标记以外的要素的位置来判定掩模误差是否为第2阈值th2以下。例如，判定工序s52(k)也可以基于掩模50的轮廓、贯通孔56等的位
置来判定掩模误差是否为第2阈值th2以下。掩模误差也被称为ppa。“ppa”是指pixel position accuracy(像素位置精度)。
[0276]
第2阈值th2例如可以为0.1μm以上，也可以为0.2μm以上，还可以为0.5μm以上。第2阈值th2例如可以为1.0μm以下，可以为2.0m以下，也可以为3.0μm以下。第2阈值th2的范围也可以通过由0.1μm、0.2μm以及0.5μm构成的第1组和/或由1.0μm、2.0m以及3.0μm构成的第2组来确定。第2阈值th2的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。第2阈值th2的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。第2阈值th2的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，第2阈值th2可以为0.1μm以上且3.0μm以下，可以为0.1μm以上且2.0m以下，可以为0.1μm以上且1.0μm以下，可以为0.1μm以上且0.5μm以下，可以为0.1μm以上且0.2μm以下，可以为0.2μm以上且3.0μm以下，可以为0.2μm以上且2.0μm以下，可以为0.2μm以上且1.0μm以下，可以为0.2μm以上且0.5μm以下，可以为0.5μm以上且3.0μm以下，可以为0.5μm以上且2.0μm以下，可以为0.5μm以上且1.0μm以下，可以为1.0μm以上且3.0μm以下，可以为1.0μm以上且2.0μm以下，可以为2.0m以上且3.0μm以下。
[0277]
在固定工序s53(k)中，将第k张掩模50固定于第1边41和第2边42。通过使用上述的固定装置74，能够将掩模50固定于第1边41和第2边42。
[0278]
也可以在掩模安装工序s3之后实施释放工序s6。释放工序s6使针对框架40的第1按压力为零。例如，使按压机构62的各按压装置的杆621从框架40离开。接着，也可以实施最终确认工序s7。最终确认工序s7测量在第1边41和第2边42上最终产生的变形量。将在第1边41和第2边42上最终产生的变形量也称为最终变形量。
[0279]
最终确认工序s7也可以判定最终变形量与目标变形量之差是否为上述的第1阈值th1以下。最终确认工序s7也可以判定第1边41和第2边42的各位置处的多个最终变形量。最终确认工序s7也可以判定由制造装置60所包含的全部位移计测量出的最终变形量。
[0280]
参照图10和图14～图20，具体说明掩模装置15的制造方法。
[0281]
如图10所示，在框架40未变形的状态下，使用位移测量机构61测量框架40的位置。接着，实施将n张掩模50安装于框架40的掩模安装工序s3。在本实施方式中，说明如下的例子：在第2方向d2上，按照距框架40的中心从远到近的顺序将掩模50安装于第1边41和第2边42。在第2方向d2上距框架40的中心的距离相同的情况下，位于第3边43与第2中心线lc2之间的掩模50比位于第4边44与第2中心线lc2之间的掩模50先安装于第1边41和第2边42。因此，第11掩模50a1、第21掩模50b1、第12掩模50a2、第22掩模50b2、第13掩模50a3、第23掩模50b3、第14掩模50a4、第24掩模50b4、中央第1掩模50c1、中央第2掩模50c2按该顺序安装于第1边41和第2边42。
[0282]
实施将第1张掩模50安装于框架40的第1掩模安装工序s3(1)。第1张掩模50是第11掩模50a1。第1掩模安装工序s3(1)包含第1调整工序s4(1)和第1配置工序s5(1)。
[0283]
图14是示出第1调整工序s4(1)的图。第1调整工序s4(1)包含按压工序s41(1)和判定工序s42(1)。如图14所示，在按压工序s41(1)中，在掩模50未安装于框架40的状态下，按压第1边41和第2边42。控制装置63控制按压机构62，使得d(1)_a1、d(1)_a2、d(1)_c(1)等变形量成为目标变形量。
[0284]
判定工序s42(1)判定δd(1)是否为第1阈值th1以下。在δd(1)超过第1阈值th1的
情况下，再次实施按压工序s41(1)。在δd(1)为第1阈值th1以下的情况下，进入第1配置工序s5(1)。在δd(1)为第1阈值th1以下的情况下，也可以记录按压机构62的按压装置对第1边41和第2边42施加的第1按压力。
[0285]
控制装置63也可以以在第1调整工序s4(1)中按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第1按压力之差处于规定的范围内的方式来控制按压机构62。例如，控制装置63也可以以第1比率ra1和第2比率ra2成为规定的值以下的方式对按压机构62进行控制。第1比率ra1是第1调整工序s4(1)中的、第1组62a的平均第1按压力p(1)_a与中央组62c的平均第1按压力p(1)_c的比率。第2比率ra2是第1调整工序s4(1)中的、第2组62b的平均第1按压力p(1)_b与中央组62c的平均第1按压力p(1)_c的比率。平均第1按压力p(1)_a是在第1调整工序s4(1)中由第1组62a的按压装置对第1边41施加的第1按压力的平均值。平均第1按压力p(1)_b是在第1调整工序s4(1)中由第2组62b的按压装置对第1边41施加的第1按压力的平均值。平均第1按压力p(1)_c是在第1调整工序s4(1)中由中央组62c的按压装置对第1边41施加的第1按压力的平均值。
[0286]
第1比率ra1和第2比率ra2例如可以为0.6以上，也可以为0.7以上，也可以为0.8以上，也可以为0.9以上。第1比率ra1和第2比率ra2例如可以为1.1以下，也可以为1.2以下，也可以为1.3以下，也可以为1.4以下。第1比率ra1和第2比率ra2的范围也可以通过由0.6、0.7、0.8以及0.9构成的第1组、和/或由1.1、1.2、1.3以及1.4构成的第2组来确定。第1比率ra1和第2比率ra2的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。第1比率ra1和第2比率ra2的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。第1比率ra1和第2比率ra2的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。例如，第1比率ra1和第2比率ra2可以为0.6以上且1.4以下，可以为0.6以上且1.3以下，可以为0.6以上且1.2以下，可以为0.6以上且1.1以下，可以为0.6以上且0.9以下，可以为0.6以上且0.8以下，可以为0.6以上且0.7以下，可以为0.7以上且1.4以下，可以为0.7以上且1.3以下，可以为0.7以上且1.2以下，可以为0.7以上且1.1以下，可以为0.7以上且0.9以下，可以为0.7以上且0.8以下，可以为0.8以上且1.4以下，可以为0.8以上且1.3以下，可以为0.8以上且1.2以下，可以为0.8以上且1.1以下，可以为0.8以上且0.9以下，可以为0.9以上且1.4以下，可以为0.9以上且1.3以下，可以为0.9以上且1.2以下，可以为0.9以上且1.1以下，可以为1.1以上且1.4以下，可以为1.1以上且1.3以下，也可以为1.1以上且1.2以下，也可以为1.2以上且1.4以下，也可以为1.2以上且1.3以下，还可以为1.3以上且1.4以下。
[0287]
第1配置工序s5(1)包含位置调整工序s51(1)、判定工序s52(1)以及固定工序s53(1)。图15是示出位置调整工序s51(1)以及判定工序s52(1)的图。
[0288]
在位置调整工序s51(1)中，如图15所示，在对第11掩模50a1施加了张力的状态下调整第11掩模50a1的位置。在位置调整工序s51(1)中，使用拉伸装置76调整第11掩模50a1的位置。拉伸装置76也可以使用夹具对第11掩模50a1施加张力。拉伸装置76例如可以包含安装于第1端部51的2个夹具761和安装于第2端部51的2个夹具761。通过调整各夹具761的位置，能够调整第11掩模50a1的位置和张力。
[0289]
在判定工序s52(1)中，使用观察装置73观察第11掩模50a1的位置。判定工序s52(1)判定第11掩模50a1的掩模误差是否为第2阈值th2以下。在掩模误差超过第2阈值th2的
情况下，再次实施位置调整工序s51(1)。在掩模误差为第2阈值th2以下的情况下，进入固定工序s53(1)。
[0290]
图16是示出固定工序s53(1)的图。在固定工序s53(1)中，例如向第11掩模50a1的端部51照射激光。由此，在端部51形成焊接部47a。第11掩模50a1经由焊接部47a固定于第1边41和第2边42。如图16所示，也可以除去端部51的位于比焊接部47a靠外侧的部分。也可以在将n张掩模50安装于框架40之后，去除端部51的位于比焊接部47a靠外侧的位置的部分。
[0291]
接着，如图17所示，实施将第2张掩模50安装于框架40的第2掩模安装工序s3(2)。第2张掩模50是第21掩模50b1。第2掩模安装工序s3(2)包含第2调整工序s4(2)和第2配置工序s5(2)。
[0292]
接着，如图18所示，依次实施第3掩模安装工序s3(3)～第8掩模安装工序s3(8)。由此，第1掩模组50a的各掩模50及第2掩模组50b的各掩模50被安装于框架40。第3掩模安装工序s3(3)～第8掩模安装工序s3(8)包含第3调整工序s4(3)～第8调整工序s4(8)以及第3配置工序s5(3)～第8配置工序s5(8)。
[0293]
接着，如图19所示，依次实施第9掩模安装工序s3(9)～第10掩模安装工序s3(10)。由此，中央掩模组50c的各掩模50被安装于框架40。第9掩模安装工序s3(9)～第10掩模安装工序s3(10)包含第9调整工序s4(9)～第10调整工序s4(10)以及第9配置工序s5(9)～第10配置工序s5(10)。
[0294]
接着，实施释放工序s6。例如，如图20所示，使按压机构62的各按压装置的杆621从框架40离开。接着，实施最终确认工序s7。在最终确认工序s7中，判定第1边41和第2边42的最终变形量与目标变形量之差是否为上述的第1阈值th1以下。在差为第1阈值th1以下的情况下，将掩模装置15认定为合格品。
[0295]
图21是示出在第1调整工序s4(1)～第10调整工序s4(10)中第11按压装置62a1对第1边41施加的第1按压力p_a1的推移的一例的图。如图21所示，第1按压力p_a1可以在2次以上的调整工序s4的期间减少。在图21所示的例子中，第1按压力p_a1在第2调整工序s4(2)～第7调整工序s4(7)的期间减少。
[0296]
如图21所示，第1按压力p_a1也可以在最后的调整工序s4之前、即第10调整工序s4(10)之前成为零。在图21所示的例子中，在第7调整工序s4(7)中，第1按压力p_a1成为零。
[0297]
标号p(11)_a1是指释放工序s6时的第1按压力p_a1。第1按压力p(11)_a1为零。
[0298]
图22是示出在第1调整工序s4(1)～第10调整工序s4(10)中第12按压装置62a2对第1边41施加的第1按压力p_a2的推移的一例的图。如图22所示，第1按压力p_a2可以在2次以上的调整工序s4的期间减少。在图22所示的例子中，第1按压力p_a2在第4调整工序s4(4)～第9调整工序s4(9)的期间减少。第1按压力p_a2减少的期间也可以产生在第1按压力p_a1减少的期间之后。
[0299]
如图22所示，第1按压力p_a2也可以在最后的调整工序s4之前、即第10调整工序s4(10)之前成为零。在图22所示的例子中，在第9调整工序s4(9)中，第1按压力p_a2成为零。第1按压力p_a2也可以在第1按压力p_a1成为零之后变为零。
[0300]
标号p(11)_a2是指释放工序s6时的第1按压力p_a2。第1按压力p(11)_a2为零。
[0301]
图23是示出在第1调整工序s4(1)～第10调整工序s4(10)中第1中央按压装置62c1对第1边41施加的第1按压力p_c1的推移的一例的图。如图23所示，第1按压力p_c1可以在2
次以上的调整工序s4的期间减少。在图23所示的例子中，第1按压力p_c1在第6调整工序s4(6)～第10调整工序s4(10)的期间减少。第1按压力p_c1减少的期间也可以产生在第1组62a的按压装置的第1按压力减少的期间之后。
[0302]
如图23所示，第1按压力p_c1也可以在最后的调整工序s4时、即第n调整工序s4(n)时大于零。
[0303]
标号p(11)_c1是指释放工序s6时的第1按压力p_c1。第1按压力p(11)_c1为零。
[0304]
第1按压力p_c1也可以在第u调整工序s4(u)(u为大于1且小于n的整数)时显示出最大值。由此，能够抑制中央测量组61c中的变形量与目标变形量之差。在图23所示的例子中，第1按压力p_c1在第6调整工序s4(6)时显示出最大值。在第u调整工序s4(u)中，第1中央按压装置62c1对第1边41施加第1按压力p(u)_c1。
[0305]
式u≥n/2也可以成立。即，也可以是，在后半的调整工序s4中，第1按压力p_c1显示出最大值。
[0306]
第1按压力p(u)_c1与第1按压力p(1)_c1的比率例如可以为1.05以上，可以为1.10以上，也可以为1.15以上。第1按压力p(u)_c1与第1按压力p(1)_c1的比率例如可以为1.20以下，可以为1.30以下，也可以为1.50以下。第1按压力p(1)_c1是在第1调整工序s4(1)中第1中央按压装置62c1对第1边41施加的第1按压力。
[0307]
第1按压力p(u)_c1与第1按压力p(1)_c1的比率的范围也可以通过由1.05、1.10以及1.15构成的第1组和/或由1.20、1.30以及1.50构成的第2组来确定。第1按压力p(u)_c1与第1按压力p(1)_c1的比率的范围可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。第1按压力p(u)_c1与第1按压力p(1)_c1的比率的范围也可以通过上述第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。第1按压力p(u)_c1与第1按压力p(1)_c1的比率的范围也可以通过上述第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，第1按压力p(u)_c1与第1按压力p(1)_c1的比率可以为1.05以上且1.50以下，可以为1.05以上且1.30以下，可以为1.05以上且1.20以下，可以为1.05以上且1.15以下，可以为1.05以上且1.10以下，可以为1.10以上且1.50以下，可以为1.10以上且1.30以下，可以为1.10以上且1.20以下，可以为1.10以上且1.15以下，可以为1.15以上且1.50以下，可以为1.15以上且1.30以下，可以为1.15以上且1.20以下，可以为1.20以上且1.50以下，可以为1.20以上且1.30以下，可以为1.30以上且1.50以下。
[0308]
可以是，图21所示的第1按压力p_a1的推移也在第21按压装置62b1中实现。图22所示的第1按压力p_a2的推移也可以在第22按压装置62b2中实现。图23所示的第1按压力p_c1的推移也可以在第2中央按压装置62c2中实现。
[0309]
如上所述，制造装置60的按压机构62具备沿着第2方向d2隔开500mm以下的间隔排列并按压第1边41的5个以上的按压装置。因此，能够精密地调整第1边41的各位置处的第1边41的变形量。由此，即使在框架40大型化的情况下，也能够抑制如下情况：第1边41施加于各掩模50的张力偏离目标张力。
[0310]
如上所述，制造装置60的位移测量机构61具备在第2方向上距按压装置100mm以下的位置处测量第1边41的变形量的5个以上的位移计。因此，能够精密地调整第1边41的各位置处的变形量。由此，即使在框架40大型化的情况下，也能够抑制如下情况：第1边41施加于各掩模50的张力偏离目标张力。
[0311]
也可以实施从掩模装置15卸下掩模50的分解方法。在分解方法中，可以一边对第1边41和第2边42施加按压力一边将掩模50从框架40卸下。由此，能够在维持框架40的变形的同时将掩模50从框架40卸下。另外，能够推测在掩模装置15的制造方法中施加于框架40的第1按压力。对于分解方法，也可以使用上述的制造装置60的位移测量机构61、按压机构62以及控制装置63来实施。在掩模装置15的分解方法中，也将按压机构62对第1边41和第2边42施加的按压力称为第2按压力。
[0312]
图24是示出分解方法的一例的流程图。首先，准备掩模装置15(工序rs1)。掩模装置15也可以放置在未图示的载物台上。接着，确定框架40的基准位置(工序rs2)。具体而言，使用位移测量机构61测量框架40的第1边41和第2边42的最终变形量。第1边41和第2边42的最终变形量是以连结角46的直线l11和直线l12为基准而算出的。
[0313]
接着，实施从框架40依次拆卸n张掩模50的掩模拆卸工序rs3。将从框架40拆卸第m张(m为1以上且n以下的整数)掩模50的工序也称为第m掩模拆卸工序rs3(m)。掩模拆卸工序rs3包含第1掩模拆卸工序rs3(1)～第n掩模拆卸工序rs3(n)这n次工序。
[0314]
在掩模拆卸工序rs3中，如图24所示，使去除工序rs4和反向调整工序rs5重复n次。也将第m掩模拆卸工序rs3(k)中的去除工序和反向调整工序称为第m去除工序rs4(m)和第m反向调整工序rs5(m)。
[0315]
在去除工序rs4中，将掩模50从框架40卸下。例如，切断掩模50。由此，第1边41和第2边42从掩模50受到的反作用力大致为零。
[0316]
在反向调整工序rs5中，在去除工序rs5之后，在朝向开口45的方向上对按压机构62施加于第1边41和第2边42的第2按压力进行调整。具体而言，在反向调整工序rs5中调整第2按压力，以使从第1边41和第2边42卸下各掩模50后的第1边41和第2边42的变形量成为最终变形量。
[0317]
在以下的说明中，有时也用标号rp(m)表示在第m反向调整工序rs5(m)中施加于第1边41的第2按压力。另外，在第m反向调整工序rs5(m)中，有时也用标号rp(m)_a1、rp(m)_a2、rp(m)_b1、rp(m)_b2、rp(m)_c1、rp(m)_c2表示第11按压装置62a1、第12按压装置62a2、第21按压装置62b1、第22按压装置62b2、第1中央按压装置62c1、第2中央按压装置62c2对第1边41施加的第2按压力。
[0318]
有时也用标号rp(m)_a表示在第m反向调整工序rs5(m)中由第1组62a的按压装置对第1边41施加的第2按压力的平均值。有时也用标号rp(m)_b表示在第m反向调整工序rs5(m)中由第2组62b的按压装置对第1边41施加的第2按压力的平均值。有时也用标号rp(m)_c表示在第m反向调整工序rs5(m)中由中央组62c的按压装置对第1边41施加的第2按压力的平均值。
[0319]
图25是示出去除工序rs4和反向调整工序rs5的一例的流程图。第m去除工序rs4(m)也可以包含切断工序rs41(m)。在切断工序rs41(m)中将第m张掩模50切断。
[0320]
反向调整工序rs5也可以包含按压工序rs51(m)、判定工序rs52(m)以及记录工序rs53(m)。在按压工序rs51(m)中，在切断工序rs41(m)之后，调整针对框架40的第2按压力rp(m)。判定工序rs52(m)判定δrd(m)是否在第3阈值th3以下。δrd(m)是按压工序rs51(m)时的第1边41的变形量rd(m)与最终变形量之差的绝对值。与上述的判定工序s42(k)的情况相同，判定工序rs52(m)也可以关于第1中央位移计61c1测量出的变形量来判定δrd(m)是否
在第3阈值th3以下。判定工序rs52(m)也可以关于多个变形量的测量值来判定δrd(m)是否为第3阈值th3以下。与上述的判定工序s42(k)的情况相同，判定工序rs52(m)也可以关于由位移测量机构61的各位移计测量出的的变形量的测量值的每一个来判定δrd(m)是否为第3阈值th3以下。作为第3阈值th3的数值的范围，能够采用上述的第1阈值th1的数值的范围。
[0321]
记录工序rs53(m)记录δrd(m)为第3阈值th3以下时的第2按压力rp(m)。
[0322]
如图24所示，也可以在掩模拆卸工序rs3之后实施释放工序rs6。释放工序rs6使针对框架40的第2按压力为零。例如，使按压机构62的各按压装置的杆621从框架40离开。
[0323]
参照图20以及图26～图29，具体说明掩模装置15的分解方法。
[0324]
如图20所示，在框架40上固定有n张掩模50的状态下，使用位移测量机构61测量第1边41及第2边42的最终变形量。接着，实施将n张掩模50从框架40卸下的掩模拆卸工序rs3。在本实施方式中，对按照在第2方向d2上距框架40的中心从近到远的顺序将掩模50从框架40卸下的例子进行说明。具体而言，按照中央第1掩模50c1、中央第2掩模50c2、第14掩模50a4、第24掩模50b4、第13掩模50a3、第23掩模50b3、第12掩模50a2、第22掩模50b2、第11掩模50a1、第21掩模50b1的顺序将它们从第1边41和第2边42卸下。
[0325]
实施将第1张掩模50从框架40卸下的第1掩模安装工序rs3(1)。第1张掩模50是中央第1掩模50c1。第1掩模拆卸工序rs3(1)包含第1去除工序rs4(1)和第1反向调整工序rs5(1)。
[0326]
图26是示出第1去除工序rs4(1)和第1反向调整工序rs5(1)的图。第1去除工序rs4(1)包含切断工序rs41(1)。如图26所示，在切断工序rs41(1)中将中央第1掩模50c1切断。中央第1掩模50c1的端部51也可以残留于框架40。
[0327]
第1反向调整工序rs5(1)包含按压工序rs51(1)、判定工序rs52(1)以及记录工序rs53(1)。
[0328]
如图26所示，在按压工序rs51(1)中，在除去中央第1掩模50c1之后，按压第1边41和第2边42。控制装置63控制按压机构62，以使第1边41和第2边42的变形量成为最终变形量。
[0329]
判定工序rs52(1)判定δrd(1)是否为第3阈值th3以下。在δrd(1)超过第3阈值th3的情况下，再次实施按压工序rs51(1)。在δrd(1)为第3阈值th3以下的情况下，进入记录工序rs53(1)。在记录工序rs53(1)中，将按压机构62的按压装置对第1边41和第2边42施加的第2按压力记录为第2按压力rp(1)。
[0330]
接着，如图27所示，实施将第2张掩模50从框架40卸下的第2掩模拆卸工序rs3(2)。第2张掩模50是中央第2掩模50c2。第2掩模拆卸工序rs3(2)包含第2去除工序rs4(2)和第2反向调整工序rs5(2)。这样，从框架40卸下中央掩模组50c的各掩模50。
[0331]
接着，如图28所示，依次实施第3掩模拆卸工序rs3(3)～第8掩模拆卸工序rs3(8)。第3掩模拆卸工序rs3(3)～第8掩模拆卸工序rs3(8)包含第3去除工序rs4(3)～第8去除工序rs4(8)和第3配置反向调整工序rs5(3)～第8反向调整工序rs5(8)。
[0332]
接着，如图29所示，依次实施第9掩模拆卸工序rs3(9)～第10掩模拆卸工序rs3(10)。第9掩模拆卸工序rs3(9)～第10掩模拆卸工序rs3(10)包含第9去除工序rs4(9)～第10去除工序rs4(10)和第9反向调整工序rs5(9)～第10反向调整工序rs5(10)。
[0333]
接着，实施释放工序rs6。例如，使按压机构62的各按压装置的杆621从框架40离
开。
[0334]
图30是示出在第1反向调整工序rs5(1)～第10反向调整工序rs5(10)中由第11按压装置62a1对第1边41施加的第2按压力rp_a1的推移的一例的图。如图30所示，第2按压力rp_a1可以在2次以上的反向调整工序rs5的期间增加。在图30所示的示例中，第2按压力rp_a1在第4反向调整工序rs5(4)～第9反向调整工序rs5(9)的期间增加。
[0335]
如图30所示，第2按压力rp_a1也可以从第2次以后的反向调整工序rs5起大于零。在图30所示的示例中，在第5调整工序rs5(5)中，第2按压力rp_a1大于零。
[0336]
图31是示出在第1反向调整工序rs5(1)～第10反向调整工序rs5(10)中由第12按压装置62a2对第1边41施加的第2按压力rp_a2的推移的一例的图。如图31所示，第2按压力rp_a2也可以在2次以上的反向调整工序rs5的期间增加。在图31所示的示例中，第2按压力rp_a2在第2反向调整工序rs5(2)～第7反向调整工序rs5(7)的期间增加。
[0337]
如图31所示，第2按压力rp_a2也可以从第2次以后的反向调整工序rs5起大于零。在图31所示的示例中，在第3调整工序rs5(3)中，第2按压力rp_a2大于零。第2按压力rp_a2也可以在第2按压力rp_a1大于零之前大于零。
[0338]
图32是示出在第1反向调整工序rs5(1)～第10反向调整工序rs5(10)中由第1中央按压装置62c1对第1边41施加的第2按压力rp_c1的推移的一例的图。如图32所示，第2按压力rp_c1可以在2次以上的反向调整工序rs5的期间增加。在图32所示的示例中，第2按压力rp_c1在第1反向调整工序rs5(1)至第5反向调整工序rs5(5)的期间增加。第2按压力rp_c1增加的期间也可以产生在第1组62a的按压装置的第2按压力增加的期间之前。
[0339]
如图32所示，第2按压力rp_c1也可以在第1反向调整工序rs5(1)时大于零。
[0340]
第2按压力rp_c1也可以在第q反向调整工序rs5(q)(q为大于1且小于n的整数)时显示出最大值。在图32所示的示例中，第2按压力rp_c1在第5反向调整工序rs5(5)时显示出最大值。
[0341]
式q≤n/2也可以成立。即，也可以是，在前半的反向调整工序rs5中，第2按压力rp_c1显示出最大值。
[0342]
在最后的反向调整工序rs5时，即在第n反向调整工序rs5(n)时，第1中央按压装置62c1对第1边41施加第2按压力rp(n)_c1。
[0343]
第2按压力rp(q)_c1与第2按压力rp(n)_c1的比率例如可以为1.05以上，可以为1.10以上，也可以为1.15以上。第2按压力rp(q)_c1与第2按压力rp(n)_c1的比率例如可以为1.20以下，可以为1.30以下，也可以为1.50以下。第2按压力rp(q)_c1是在第q反向调整工序rs5(q)中由第1中央按压装置62c1对第1边41施加的第2按压力。
[0344]
第2按压力rp(q)_c1与第2按压力rp(n)_c1的比率的范围也可以通过由1.05、1.10以及1.15构成的第1组和/或由1.20、1.30以及1.50构成的第2组来确定。第2按压力rp(q)_c1与第2按压力rp(n)_c1的比率也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。第2按压力rp(q)_c1与第2按压力rp(n)_c1的比率也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。第2按压力rp(q)_c1与第2按压力rp(n)_c1的比率也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，第2按压力rp(q)_c1与第2按压力rp(n)_c1的比率可以为1.05以上且1.50以下，可以为1.05以上且1.30以下，可以为1.05以上且1.20以下，可以为1.05以上且
1.15以下，可以为1.05以上且1.10以下，可以为1.10以上且1.50以下，可以为1.10以上且1.30以下，可以为1.10以上且1.20以下，可以为1.10以上且1.15以下，可以为1.15以上且1.50以下，可以为1.15以上且1.30以下，可以为1.15以上且1.20以下，可以为1.20以上且1.50以下，可以为1.20以上且1.30以下，可以为1.30以上且1.50以下。
[0345]
图30所示的第2按压力rp_a1的推移也可以在第21按压装置62b1中实现。图31所示的第2按压力rp_a2的推移也可以在第22按压装置62b2中实现。图32所示的第2按压力rp_c1的推移也可以在第2中央按压装置62c2中实现。
[0346]
控制装置63也可以以在第n反向调整工序rs5(n)中由按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第2按压力之差处于规定的范围内的方式控制按压机构62。例如，控制装置63也可以以第3比率ra3和第4比率ra4成为规定的值以下的方式对按压机构62进行控制。第3比率ra3是第n反向调整工序rs5(n)中的、第1组62a的平均第2按压力rp(n)_a与中央组62c的平均第2按压力rp(n)_c的比率。第4比率ra4是第n反向调整工序rs5(n)中的、第2组62b的平均第2按压力rp(n)_b与中央组62c的平均第2按压力rp(n)_c的比率。平均第2按压力rp(n)_a是在第n反向调整工序rs5(n)中由第1组62a的按压装置对第1边41施加的第2按压力的平均值。平均第2按压力rp(n)_b是在第n反向调整工序rs5(n)中由第2组62b的按压装置对第1边41施加的第2按压力的平均值。平均第2按压力rp(n)_c是在第n反向调整工序rs5(n)中由中央组62c的按压装置对第1边41施加的第2按压力的平均值。
[0347]
第3比率ra3和第4比率ra4例如可以为0.6以上，可以为0.7以上，可以为0.8以上，也可以为0.9以上。第3比率ra3和第4比率ra4例如可以为1.1以下，可以为1.2以下，可以为1.3以下，也可以为1.4以下。第3比率ra3和第4比率ra4的范围也可以通过由0.6、0.7、0.8以及0.9构成的第1组和/或由1.1、1.2、1.3以及1.4构成的第2组来确定。第3比率ra3和第4比率ra4的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意1个值与上述的第2组所包含的值中的任意1个值的组合来决定。第3比率ra3和第4比率ra4的范围也可以通过上述的第1组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。第3比率ra3和第4比率ra4的范围也可以通过上述的第2组所包含的值中的任意2个值的组合来决定。例如，第3比率ra3和第4比率ra4可以为0.6以上且1.4以下、可以为0.6以上且1.3以下、可以为0.6以上且1.2以下、可以为0.6以上且1.1以下、可以为0.6以上且0.9以下、可以为0.6以上且0.8以下、可以为0.6以上且0.7以下、可以为0.7以上且1.4以下、可以为0.7以上且1.3以下、可以为0.7以上且1.2以下、可以为0.7以上且1.1以下、可以为0.7以上且0.9以下、可以为0.7以上且0.8以下、可以为0.8以上且1.4以下、可以为0.8以上且1.3以下、可以为0.8以上且1.2以下、可以为0.8以上且1.1以下、可以为0.8以上且0.9以下、可以为0.9以上且1.4以下、可以为0.9以上且1.3以下、可以为0.9以上且1.2以下、可以为0.9以上且1.1以下、可以为1.1以上且1.4以下、可以为1.1以上且1.3以下、可以为1.1以上且1.2以下、可以为1.2以上且1.4以下、可以为1.2以上且1.3以下、还可以为1.3以上且1.4以下。
[0348]
能够对上述的一个实施方式进行各种变更。以下，根据需要参照附图对其他实施方式进行说明。在以下的说明以及以下的说明所使用的附图中，对于能够与上述的一个实施方式同样地构成的部分，使用与对上述的一个实施方式中的对应的部分使用的标号相同的标号。省略重复的说明。另外，在很明显在上述的一个实施方式中得到的作用效果在其他的实施方式中也能够得到的情况下，有时也省略其说明。
[0349]
图33是示出第2实施方式的掩模装置15的俯视图。掩模装置15具备沿着第2方向排列的n张掩模50。n为奇数。图33所示的掩模装置15具备9个掩模50。
[0350]
中央掩模组50c包含1张掩模50。具体而言，中央掩模组50c包含第11掩模50a1。第11掩模50a1也可以与第2中心线lc2重叠。
[0351]
第1掩模组50a包含1张以上的掩模50。第1掩模组50a也可以包含2张以上的掩模50。图33所示的第1掩模组50a包含在从第3边43朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第11掩模50a1、第12掩模50a2、第13掩模50a3以及第14掩模50a4。
[0352]
第2掩模组50b包含1张以上的掩模50。第2掩模组50b也可以包含2张以上的掩模50。第2掩模组50b所包含的掩模50的数量也可以与第1掩模组50a所包含的掩模50的数量相同。图33所示的第2掩模组50b包含在从第4边44朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第21掩模50b1、第22掩模50b2、第23掩模50b3以及第24掩模50b4。
[0353]
图34是示出第2实施方式的制造装置60的俯视图。
[0354]
按压第1边41的按压机构62包含中央组62c、第1组62a以及第2组62b。中央组62c也可以包含1个按压装置。具体而言，中央组62c包含第1中央按压装置62c1。第1中央按压装置62c1也可以与第2中心线lc2重叠。
[0355]
第1组62a包含2个以上的按压装置。在本实施方式中，第1组62a包含在从第3边43朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第11按压装置62a1和第12按压装置62a2。
[0356]
第2组62b包含2个以上的按压装置。第2组62b所包含的按压装置的数量也可以与第1组62a所包含的按压装置的数量相同。在本实施方式中，第2组62b包含在从第4边44朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第21按压装置62b1和第22按压装置62b2。
[0357]
测量第1边41的变形量的位移测量机构61包含中央测量组61c、第1测量组61a以及第2测量组61b。中央测量组61c也可以包含1个位移计。具体而言，中央测量组61c可以包含第1中央位移计61c1。第1中央位移计61c1位于第1中央按压装置62c1的附近。位移测量机构61也可以包含第1辅助位移计61d和第2辅助位移计61e。
[0358]
第1测量组61a包含2个以上的位移计。在本实施方式中，第1测量组61a包含在从第3边43朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第11位移计61a1和第12位移计61a2。第11位移计61a1位于第11按压装置62a1的附近。第12位移计61a2位于第12按压装置62a2的附近。
[0359]
第2测量组61b包含2个以上的位移计。在本实施方式中，第2测量组61b包含在从第4边44朝向第2中心线lc2的方向上依次排列的第21位移计61b1和第22位移计61b2。第21位移计61b1位于第21按压装置62b1的附近。第22位移计61b2位于第22按压装置62b2的附近。
[0360]
按压机构62的按压装置与上述的实施方式的情况相同地沿着第2方向d2隔开500mm以下的间隔排列。因此，能够精密地调整第1边41的各位置处的第1边41的变形量。由此，即使在框架40大型化的情况下，也能够抑制第1边41施加于各掩模50的张力偏离目标张力的情况。
[0361]
位移测量机构61的位移计与上述的实施方式的情况同样地在沿第2方向距按压装置100mm以下的位置处测量第1边41的变形量。因此，能够精密地调整第1边41的各位置处的变形量。由此，即使在框架40大型化的情况下，也能够抑制第1边41施加于各掩模50的张力偏离目标张力的情况。
[0362]
图35是示出第3实施方式的制造装置60的俯视图。位移测量机构61的位移计也可
以不与框架40接触地测量第1边41和第2边42的变形量。位移计的类型为光学式、涡电流式、超声波式、激光聚焦式、静电电容式等。
[0363]
激光聚焦式的位移计向框架40照射激光，并检测由框架反射的激光。
[0364]
静电电容式的位移计对位移计与框架40之间的静电电容进行测量，并根据静电电容而算出位移计与框架40之间的距离。
[0365]
图36是示出第4实施方式的制造装置60的俯视图。位移测量机构61也可以由移动机构66支承。在该情况下，位移测量机构61不与框架40接触地测量第1边41和第2边42的变形量。移动机构66使位移测量机构61沿着第1方向d1、第2方向d2等移动。例如，移动机构66也可以包含使位移测量机构61沿着第1方向d1移动的第1移动装置67。移动机构66也可以包含使第1移动装置67沿着第2方向d2移动的第2移动装置。位移测量机构61在多个位置观察框架40，由此能够测量出第1边41和第2边42的变形量。
[0366]
在上述的实施方式中，说明了按照在第2方向d2上距框架40的中心从远到近的顺序将掩模50安装于第1边41和第2边42的例子。在第5实施方式中，对按照在第2方向d2上距框架40的中心从近到远的顺序将掩模50安装于第1边41和第2边42的例子进行说明。即，在本实施方式中，中央掩模组50c的掩模50比第1掩模组50a的掩模50和第2掩模组50b的掩模50先安装于第1边41和第2边42。在第2方向d2上距框架40的中心的距离相同的情况下，位于第3边43与第2中心线lc2之间的掩模50比位于第4边44与第2中心线lc2之间的掩模50先安装于第1边41和第2边42。因此，中央第1掩模50c1、中央第2掩模50c2、第14掩模50a4、第24掩模50b4、第13掩模50a3、第23掩模50b3、第12掩模50a2、第22掩模50b2、第11掩模50a1、第21掩模50b1按该顺序安装于第1边41和第2边42。
[0367]
首先，实施将第1张掩模50安装于框架40的第1掩模安装工序s3(1)。第1张掩模50是中央第1掩模50c1。第1掩模安装工序s3(1)包含第1调整工序s4(1)和第1配置工序s5(1)。
[0368]
第1调整工序s4(1)与上述的第1实施方式同样地包含按压工序s41(1)和判定工序s42(1)。第1配置工序s5(1)与上述的第1实施方式同样地包含位置调整工序s51(1)、判定工序s52(1)以及固定工序s53(1)。
[0369]
在位置调整工序s51(1)中，如图40所示，在对中央第1掩模50c1施加了张力的状态下调整中央第1掩模50c1的位置。在判定工序s52(1)中使用观察装置73观察中央第1掩模50c1的位置。判定工序s52(1)判定中央第1掩模50c1的掩模误差是否为第2阈值th2以下。在掩模误差超过第2阈值th2的情况下，再次实施位置调整工序s51(1)。在掩模误差为第2阈值th2以下的情况下，进入固定工序s53(1)。图41是示出固定工序s53(1)的图。
[0370]
接着，如图42所示，实施将第2张掩模50安装于框架40的第2掩模安装工序s3(2)。第2张掩模50是中央第2掩模50c2。第2掩模安装工序s3(2)包含第2调整工序s4(2)和第2配置工序s5(2)。
[0371]
接着，如图43所示，依次实施第3掩模安装工序s3(3)～第8掩模安装工序s3(8)。由此，第14掩模50a4、第24掩模50b4、第13掩模50a3、第23掩模50b3、第12掩模50a2以及第22掩模50b2依次安装于框架40。第3掩模安装工序s3(3)～第8掩模安装工序s3(8)包含第3调整工序s4(3)～第8调整工序s4(8)和第3配置工序s5(3)～第8配置工序s5(8)。
[0372]
接着，如图44所示，依次实施第9掩模安装工序s3(9)～第10掩模安装工序s3(10)。由此，第11掩模50a1及第21掩模50b1依次安装于框架40。第9掩模安装工序s3(9)～第10掩
模安装工序s3(10)包含第9调整工序s4(9)～第10调整工序s4(10)以及第9配置工序s5(9)～第10配置工序s5(10)。
[0373]
接着，实施释放工序s6。例如，使按压机构62的各按压装置的杆621从框架40离开。接着，实施最终确认工序s7。在最终确认工序s7中，判定第1边41和第2边42的最终变形量与目标变形量之差是否为上述的第1阈值th1以下。在差为第1阈值th1以下的情况下，将掩模装置15认定为合格品。
[0374]
图45是示出在第1调整工序s4(1)～第10调整工序s4(10)中由第21按压装置62b1对第1边41施加的第1按压力p_b1的推移的一例的图。第21按压装置62b1是属于第2组62b的按压装置中的最接近第4边44的按压装置。如图45所示，第1按压力p_b1可以在2次以上的调整工序s4的期间减少。在图45所示的例子中，第1按压力p_b1在第8调整工序s4(8)～第10调整工序s4(10)的期间减少。第1按压力p_b1减少的期间也可以产生在中央组62c的按压装置的第1按压力减少的期间之后。
[0375]
如图45所示，第1按压力p_b1也可以在最后的调整工序s4时、即第n调整工序s4(n)时大于零。在图45所示的例子中，最后的调整工序s4是第10调整工序s4(10)。
[0376]
标号p(11)_b1表示释放工序s6时的第1按压力p_b1。第1按压力p(11)_b1为零。
[0377]
第1按压力p_b1也可以在第u调整工序s4(u)(u为大于1且小于n的整数)时显示出最大值。由此，能够抑制第2测量组61b中的变形量与目标变形量之差。在图45所示的例子中，第1按压力p_b1在第8调整工序s4(8)时显示出最大值。在第u调整工序s4(u)中，第21按压装置62b1对第1边41施加第1按压力p(u)_b1。
[0378]
式u≥n/2也可以成立。即，也可以是，在后半部分的调整工序s4中，第1按压力p_b1显示出最大值。
[0379]
第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率例如可以为1.05以上，可以为1.10以上，也可以为1.15以上。第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率例如可以为1.20以下，可以为1.30以下，也可以为1.50以下。第1按压力p(1)_b1是在第1调整工序s4(1)中由第21按压装置62b1对第1边41施加的第1按压力。
[0380]
第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率的范围也可以通过由1.05、1.10以及1.15构成的第1组和/或由1.20、1.30以及1.50构成的第2组来确定。第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率的范围可以通过上述第1组所包含的值中的任意1个值与上述第2组所包含的值中的任意1个值的组合来确定。第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率的范围也可以通过上述第1组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率的范围也可以通过上述第2组所包含的值中的任意2个值的组合来确定。例如，第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率可以为1.05以上且1.50以下，可以为1.05以上且1.30以下，可以为1.05以上且1.20以下，可以为1.05以上且1.15以下，可以为1.05以上且1.10以下，可以为1.10以上且1.50以下，可以为1.10以上且1.30以下，可以为1.10以上且1.20以下，可以为1.10以上且1.15以下，可以为1.15以上且1.50以下，可以为1.15以上且1.30以下，可以为1.15以上且1.20以下，可以为1.20以上且1.50以下，可以为1.20以上且1.30以下，可以为1.30以上且1.50以下。
[0381]
图46是示出在第1调整工序s4(1)～第10调整工序s4(10)中由第22按压装置62b2对第1边41施加的第1按压力p_b2的推移的一例的图。如图46所示，第1按压力p_b2可以在2
次以上的调整工序s4的期间减少。在图46所示的例子中，第1按压力p_b2在第6调整工序s4(6)～第8调整工序s4(8)的期间减少。第1按压力p_b2减少的期间也可以产生在中央组62c的按压装置的第1按压力减少的期间之后。第1按压力p_b2减少的期间也可以比第1按压力p_b1减少的期间先产生。
[0382]
如图46所示，第1按压力p_b2也可以在最后的调整工序s4之前、即第10调整工序s4(10)之前成为零。在图46所示的例子中，在第9调整工序s4(9)中，第1按压力p_b2成为零。第1按压力p_b2也可以在第1按压力p_b1变为零之前变为零。
[0383]
标号p(11)_b2表示释放工序s6时的第1按压力p_b2。第1按压力p(11)_b2为零。
[0384]
第1按压力p_b2也可以在第1调整工序s4(1)之外时显示出最大值。由此，能够抑制第2测量组61b中的变形量与目标变形量之差。在图46所示的例子中，第1按压力p_b2在第2调整工序s4(2)时显示出最大值。在第2调整工序s4(2)中，第22按压装置62b2对第1边41施加第1按压力p(2)_b2。虽未图示，但第1按压力p_b2也可以在第3调整工序s4(3)或第4调整工序s4(4)时显示出最大值。
[0385]
作为第1按压力p_b2的最大值与第1按压力p(1)_b2的比率的范围，能够采用上述的“第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率”的数值的范围。
[0386]
图47是示出在第1调整工序s4(1)～第10调整工序s4(10)中由第2中央按压装置62c2对第1边41施加的第1按压力p_c2的推移的一例的图。如图47所示，第1按压力p_c2可以在2次以上的调整工序s4的期间减少。在图47所示的例子中，第1按压力p_c2在第1调整工序s4(1)～第7调整工序s4(7)的期间减少。这样，第1按压力p_c2也可以以第1调整工序s4(1)为起点单调地减小。
[0387]
如图47所示，第1按压力p_c2也可以在最后的调整工序s4之前、即第10调整工序s4(10)之前成为零。在图47所示的例子中，在第7调整工序s4(7)中，第1按压力p_c2成为零。
[0388]
标号p(11)_c2表示释放工序s6时的第1按压力p_c2。第1按压力p(11)_c2为零。
[0389]
图45所示的第1按压力p_b1的推移也可以在第11按压装置62a1中实现。图46所示的第1按压力p_b2的推移也可以在第12按压装置62a2中实现。图47所示的第1按压力p_c2的推移也可以在第1中央按压装置62c1中实现。
[0390]
控制装置63也可以以在第1调整工序s4(1)中由按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第1按压力之差处于规定的范围内的方式控制按压机构62。例如，也可以与上述的第1实施方式的情况同样，控制装置63以第1比率ra1和第2比率ra2成为规定的值以下的方式对按压机构62进行控制。
[0391]
也可以实施从掩模装置15卸下掩模50的分解方法。参照图44以及图48～图49，具体说明掩模装置15的分解方法。
[0392]
如图44所示，在框架40上固定有n张掩模50的状态下，使用位移测量机构61测量第1边41及第2边42的最终变形量。接着，实施将n张掩模50从框架40卸下的掩模拆卸工序rs3。在本实施方式中，说明按照在第2方向d2上距框架40的中心从远到近的顺序将掩模50从框架40卸下的例子。即，在本实施方式中，第1掩模组50a的掩模50及第2掩模组50b的掩模50比中央掩模组50c的掩模50先从框架40卸下。在第2方向d2上的距框架40的中心的距离相同的情况下，位于第4边44与第2中心线lc2之间的掩模50比位于第3边43与第2中心线lc2之间的掩模50先被从框架40卸下。因此，第21掩模50b1、第11掩模50a1、第22掩模50b2、第12掩模
50a2、第23掩模50b3、第13掩模50a3、第24掩模50b4、第14掩模50a4、中央第2掩模50c2、中央第1掩模50c1按该顺序从框架40卸下。
[0393]
实施将第1张掩模50从框架40卸下的第1掩模安装工序rs3(1)。第1张掩模50是第21掩模50b1。第1掩模拆卸工序rs3(1)与上述实施方式同样地包含第1去除工序rs4(1)和第1反向调整工序rs5(1)。
[0394]
图48是示出第1去除工序rs4(1)以及第1反向调整工序rs5(1)的图。第1去除工序rs4(1)包含切断工序rs41(1)。如图48所示，在切断工序rs41(1)中切断第21掩模50b1。第21掩模50b1的端部51也可以残留于框架40。
[0395]
第1反向调整工序rs5(1)包含按压工序rs51(1)、判定工序rs52(1)以及记录工序rs53(1)。
[0396]
如图48所示，在按压工序rs51(1)中，在第21掩模50b1被去除之后，按压第1边41和第2边42。控制装置63控制按压机构62，以使第1边41和第2边42的变形量成为最终变形量。
[0397]
在判定工序rs52(1)中判定δrd(1)是否为第3阈值th3以下。在δrd(1)超过第3阈值th3的情况下，再次实施按压工序rs51(1)。在δrd(1)为第3阈值th3以下的情况下，进入记录工序rs53(1)。在记录工序rs53(1)中，将按压机构62的按压装置施加于第1边41和第2边42的第2按压力记录为第2按压力rp(1)。
[0398]
接着，如图49所示，实施将第2张掩模50从框架40卸下的第2掩模拆卸工序rs3(2)。第2张掩模50是第11掩模50a1。第2掩模拆卸工序rs3(2)包含第2去除工序rs4(2)和第2反向调整工序rs5(2)。
[0399]
接着，依次实施第3掩模拆卸工序rs3(3)～第10掩模拆卸工序rs3(10)。第3掩模拆卸工序rs3(3)～第10掩模拆卸工序rs3(10)包含第3去除工序rs4(3)～第10去除工序rs4(10)和第3配置反向调整工序rs5(3)～第10反向调整工序rs5(10)。
[0400]
接着，实施释放工序rs6。例如，使按压机构62的各按压装置的杆621从框架40离开。
[0401]
图50是示出在第1反向调整工序rs5(1)至第10反向调整工序rs5(10)中由第21按压装置62b1向第1边41施加的第2按压力rp_b1的推移的一例的图。第21按压装置62b1是属于第2组62b的按压装置中的最接近第4边44的按压装置。如图50所示，第2按压力rp_b1可以在2次以上的反向调整工序rs5的期间增加。在图50所示的示例中，第2按压力rp_b1在第1反向调整工序rs5(1)至第3反向调整工序rs5(3)的期间增加。第1按压力p_b1增加的期间也可以比中央组62c的按压装置的第1按压力增加的期间先产生。
[0402]
如图50所示，第2按压力rp_b1也可以在第1反向调整工序rs5(1)时大于零。
[0403]
第2按压力rp_b1也可以在第q反向调整工序rs5(q)(q为大于1且小于n的整数)时显示出最大值。在图50所示的示例中，第2按压力rp_b1在第3反向调整工序rs5(3)时显示出最大值。
[0404]
式q≤n/2也可以成立。即，也可以是，在前半的反向调整工序rs5中，第2按压力rp_b1显示出最大值。
[0405]
在最后的反向调整工序rs5时，即在第n反向调整工序rs5(n)时，第21按压装置62b1对第1边41施加第2按压力rp(n)_b1。
[0406]
第2按压力rp(q)_b1与第2按压力rp(n)_b1的比率例如可以为1.05以上，可以为
1.10以上，也可以为1.15以上。第2按压力rp(q)_b1与第2按压力rp(n)_b1的比率例如可以为1.20以下，可以为1.30以下，也可以为1.50以下。第2按压力rp(q)_b1是在第q反向调整工序rs5(q)中由第21按压装置62b1对第1边41施加的第2按压力。作为第2按压力rp(q)_b1与第2按压力rp(n)_b1的比率的数值的范围，能够采用上述的“第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率”的数值的范围。
[0407]
图51是示出在第1反向调整工序rs5(1)～第10反向调整工序rs5(10)中第22按压装置62b2对第1边41施加的第2按压力rp_b2的推移的一例的图。如图51所示，第2按压力rp_b2可以在2次以上的反向调整工序rs5的期间增加。在图51所示的示例中，第2按压力rp_b2在第2反向调整工序rs5(2)～第7反向调整工序rs5(5)的期间增加。
[0408]
如图51所示，第2按压力rp_b2也可以从第2次以后的反向调整工序rs5起大于零。在图51所示的示例中，在第2调整工序rs5(2)中，第2按压力rp_b2大于零。第2按压力rp_b2也可以在第2按压力rp_b1大于零之后大于零。第2按压力rp_b2也可以在后述的第2按压力rp_c2大于零之前大于零。
[0409]
第2按压力rp_b2也可以在第n反向调整工序rs5(n)之外时显示出最大值。在图51所示的示例中，第2按压力rp_b2在第9反向调整工序rs5(9)时显示出最大值。即，第2按压力rp_b2在第(n-1)反向调整工序rs5(n-1)时显示出最大值。在第9反向调整工序rs5(9)中，第22按压装置62b2对第1边41施加第2按压力p(9)_b2。虽未图示，但第2按压力p_b2也可以在第(n-2)反向调整工序rs5(n-2)或第(n-3)反向调整工序rs5(n-3)时显示出最大值。
[0410]
作为第2按压力p_b2的最大值与第2按压力p(n)_b2的比率的范围，能够采用上述的“第1按压力p(u)_b1与第1按压力p(1)_b1的比率”的数值的范围。
[0411]
图52是示出在第1反向调整工序rs5(1)～第10反向调整工序rs5(10)中第2中央按压装置62c2对第1边41施加的第2按压力rp_c2的推移的一例的图。如图52所示，第2按压力rp_c2可以在2次以上的反向调整工序rs5的期间增加。在图52所示的示例中，第2按压力rp_c2在第6反向调整工序rs5(6)～第10调整工序rs5(10)的期间增加。
[0412]
图50所示的第2按压力rp_b1的推移也可以在第11按压装置62a1中实现。图51所示的第2按压力rp_b2的推移也可以在第12按压装置62a2中实现。图52所示的第2按压力rp_c2的推移也可以在第1中央按压装置62c1中实现。
[0413]
控制装置63也可以以在第n反向调整工序rs5(n)中由按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第2按压力之差处于规定的范围内的方式控制按压机构62。例如，也可以与上述的第1实施方式的情况相同，控制装置63控制按压机构62，以使第3比率ra3和第4比率ra4成为规定的值以下。
[0414]
接着，通过实施例更具体地说明本公开的实施方式，但本公开的实施方式只要不超出其主旨，就不受以下的实施例的记载限定。
[0415]
(例1)
[0416]
使用制造装置60制造了掩模装置15。掩模装置15及制造装置60的主要结构如下所述。
[0417]
·
框架40的尺寸g11：1493.2mm
[0418]
·
框架40的尺寸g21：2491.9mm
[0419]
·
掩模50的张数n：9
[0420]
·
按压第1边41的按压装置的数量：5
[0421]
·
在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔：415mm
[0422]
·
测量第1边41的位移计的数量：7
[0423]
·
位移计的类型：keyence制的接触式数字传感器gt2-a12k
[0424]
·
在第2方向d2上相邻的2个位移计之间的间隔：415mm
[0425]
在例1中，与第1实施方式的情况同样地按照在第2方向d2上距框架40的中心从远到近的顺序将掩模50安装于框架40。图37是示出在第1调整工序s4(1)～第9调整工序s4(9)中由按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第1按压力的推移的图。k＝1意味着第1调整工序s4(1)。k＝9意味着第9调整工序s4(9)。p_a1是第11按压装置62a1对第1边41施加的第1按压力。p_a2是第12按压装置62a2对第1边41施加的第1按压力。p_b1是第21按压装置62b1对第1边41施加的第1按压力。p_b2是第22按压装置62b2对第1边41施加的第1按压力。p_c1是第1中央按压装置62c1对第1边41施加的第1按压力。
[0426]
如图37所示，第1中央按压装置62c1的第1按压力p_c1在第6调整工序s4(6)时显示出最大值。第6调整工序s4(6)的第1按压力p_c1与第1调整工序s4(1)的第1按压力p_c1的比率为1.17。
[0427]
在第k固定工序(k)之后，使用第1中央位移计61c1测量了第1边41的变形量d(k)。变形量d(k)与目标变形量之差的绝对值如图39所示。
[0428]
(例2)
[0429]
使用制造装置60制造了掩模装置15。掩模装置15及制造装置60的主要结构如下所述。
[0430]
·
框架40的尺寸g11：1493.2mm
[0431]
·
框架40的尺寸g21：2491.9mm
[0432]
·
掩模50的张数n：9
[0433]
·
按压第1边41的按压装置的数量：3
[0434]
·
在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔：695mm
[0435]
·
测量第1边41的位移计的数量：5
[0436]
·
位移计的类型：keyence制的接触式数字传感器gt2-a12k
[0437]
·
在第2方向d2上相邻的2个位移计之间的间隔：695mm
[0438]
在例2中，也按照在第2方向d2上距框架40的中心从远到近的顺序将掩模50安装于框架40。图38是示出在第1调整工序s4(1)～第9调整工序s4(9)中由按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第1按压力的推移的图。p_a1是第11按压装置62a1对第1边41施加的第1按压力。p_b1是第21按压装置62b1对第1边41施加的第1按压力。p_c1是第1中央按压装置62c1对第1边41施加的第1按压力。
[0439]
在第k固定工序(k)之后，使用第1中央位移计61c1测量了第1边41的变形量d(k)。变形量d(k)与目标变形量之差的绝对值如图39所示。
[0440]
(例3)
[0441]
使用制造装置60制造了掩模装置15。掩模装置15及制造装置60的主要结构如下所述。
[0442]
·
框架40的尺寸g11：1105mm
[0443]
·
框架40的尺寸g21：1701mm
[0444]
·
掩模50的张数n：6
[0445]
·
按压第1边41的按压装置的数量：3
[0446]
·
在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔：475mm
[0447]
·
测量第1边41的位移计的数量：5
[0448]
·
位移计的类型：keyence制的接触式数字传感器gt2-a12k
[0449]
·
在第2方向d2上相邻的2个位移计之间的间隔：475mm
[0450]
在例3中，也按照在第2方向d2上距框架40的中心从远到近的顺序将掩模50安装于框架40。在第k固定工序(k)之后，使用第1中央位移计61c1测量了第1边41的变形量d(k)。变形量d(k)与目标变形量之差的绝对值如图39所示。
[0451]
(例4)
[0452]
使用制造装置60制造了掩模装置15。掩模装置15及制造装置60的主要结构如下所述。
[0453]
·
框架40的尺寸g11：1493.2mm
[0454]
·
框架40的尺寸g21：2491.9mm
[0455]
·
掩模50的张数n：8
[0456]
·
按压第1边41的按压装置的数量：5
[0457]
·
在第2方向d2上相邻的2个按压装置之间的间隔：415mm
[0458]
·
测量第1边41的位移计的数量：7
[0459]
·
位移计的类型：keyence制的接触式数字传感器gt2-a12k
[0460]
·
在第2方向d2上相邻的2个位移计之间的间隔：415mm
[0461]
在例4中，也与例1的情况同样地按照在第2方向d2上距框架40的中心从远到近的顺序将掩模50安装于框架40。图53是示出在第1调整工序s4(1)～第8调整工序s4(8)中由按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第1按压力的推移的图。
[0462]
如图53所示，第1中央按压装置62c1的第1按压力p_c1在第6调整工序s4(6)时显示出最大值。第6调整工序s4(6)的第1按压力p_c1与第1调整工序s4(1)的第1按压力p_c1的比率为1.17。
[0463]
在第k固定工序(k)之后，使用第1中央位移计61c1测量第1边41的变形量d(k)。变形量d(k)与目标变形量之差的绝对值如图55所示。
[0464]
(例5)
[0465]
使用制造装置60制造了掩模装置15。掩模装置15及制造装置60的主要结构与例4的情况相同。
[0466]
在例5中，与第5实施方式的情况同样地按照在第2方向d2上距框架40的中心从近到远的顺序将掩模50安装于框架40。图54是示出在第1调整工序s4(1)～第8调整工序s4(8)中由按压机构62的各按压装置对第1边41施加的第1按压力的推移的图。
[0467]
如图54所示，第21按压装置62b1的第1按压力p_b1在第6调整工序s4(6)时显示出最大值。第6调整工序s4(6)的第1按压力p_b1与第1调整工序s4(1)的第1按压力p_b1的比率为1.23。
[0468]
在第k固定工序(k)之后，使用第1中央位移计61c1测量第1边41的变形量d(k)。变
形量d(k)与目标变形量之差的绝对值如图55所示。