1.本技术涉及碳化硅晶片加工技术领域，尤其是涉及一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机。
背景技术：2.碳化硅是在半导体领域的重要原料，处于新材料发展的前沿，随着半导体行业的发展，对于半导体晶片的平整度要求也越来越高。
3.中国专利cn213106223u，一种全自动高效单晶高效研磨单晶硅双面抛光机，公开了一种全自动高效单晶硅双面抛光机，涉及单晶硅加工领域，包括底座，所述底座顶部的正中设置有承台，承台底部的四角分别固定连接有弹力伸缩导杆，底座顶部的两侧对称固定连接有支撑台，两个支撑台相对一侧的中部对称设置有爪形夹持夹具，爪形夹持夹具远离支撑台一侧的正中活动连接有延长轴，延长轴远离爪形夹持夹具的一端固定连接有抛光头，爪形夹持夹具另一侧的正中固定连接有转动轴。本实用新型所述的一种全自动高效单晶硅双面抛光机，使压板靠近承台对单晶硅进行夹持，通过在承台的底部设置缓冲区域，在夹持过程中缓慢增加对异形单晶硅支撑点的压力，方便对单晶硅进行固定，进而为加工提供便利。
4.针对上述中的相关技术，发明人认为现有技术中的双面抛光机在使用的过程中会出现扬尘，传统的抛光盘外侧的吸尘罩不能完全去除扬尘，抛光产生的扬尘还会附着在抛光盘上，再次进行抛光时容易附着颗粒，影响抛光质量。
技术实现要素：5.为了克服现有技术中存在的，本技术提供一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机。
6.本技术提供的一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机采用如下的技术方案：
7.一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机，包括底座、承载台、安装架和限位组件，承载台安装在底座上，安装架安装在承载台上，且安装架上安装有对称分布的打磨组件，打磨组件包括支撑架，支撑架上安装有电机，其中电机的输出轴端部安装有爪型夹持机构，爪型夹持机构中安装有抛光头；限位组件圆周分布在抛光头的四周，包括抵接块、伸缩机构和集尘机构，其中伸缩机构的一端固定在安装架上，另一端与抵接块转动连接，集尘机构包括设置在抵接块端面的集尘口、集尘箱以及连接集尘口和集尘箱的集尘管道，集尘箱中安装有负压装置。
8.通过采用上述技术方案，双面抛光机的底座上安装承载台，承载台上的安装架用于安装双面抛光机和集尘装置，其中打磨组件通过安装在支撑架上的电机驱动爪型夹持机构转动，爪型夹持机构上夹持的抛光头对碳化硅晶片进行打磨。限位组件设置在抛光头的四周，能够通过抵押块从四周将碳化硅晶片固定，其中抵接块转动连接伸缩机构，能够满足不同尺寸的碳化硅晶片的夹持，在抵接块端面上的集尘口能够将打磨过程中产生的粉尘碎
屑进行吸收，经过集尘管道进入到集尘箱中进行收集，有效的去除抛光头上的杂质，提高后续的打磨质量。
9.优选的，安装架为矩形框架，其中安装架的两端为安装腔，安装架的中间为打磨腔，且安装架的外侧安装有可拆卸的防护板。
10.通过采用上述技术方案，安装架中的安装腔用于安装打磨组件的电机，打磨腔中进行打磨操作，有效的避免粉尘进入电机造成损坏，提高电机的使用寿命。
11.优选的，打磨组件的支撑架在安装腔中，其中电机固定在支撑架上，电机的输出轴通过轴承与安装腔和打磨腔的间隔板转动连接。
12.通过采用上述技术方案，电机的输出轴通过轴承与安装腔和打磨腔的间隔板转动连接，满足电机的无尘工作，并保证了正常的传动效率。
13.优选的，爪型夹持机构包括夹持爪和压力机构，抛光头包括打磨面、连接杆和限位凸轮，其中限位凸轮设置在夹持爪内，并和压力机构贴合。
14.通过采用上述技术方案，爪型家贺词机构通过加持爪固定抛光头中的限位凸轮，并通过压力机构推动限位凸轮，实现对称分布的两个抛光头之间进行位置调节，实现抛光头对碳化硅晶片的夹持。
15.优选的，爪型夹持机构内的压力机构设置在夹持爪内部，且压力机构固定连接在电机输出轴的端部，压力机构与限位凸轮贴合，且限位凸轮远离压力机构的一端设置有缓冲弹簧。
16.通过采用上述技术方案，压力机构设置在夹持爪内，压力机构固定在电机输出轴的端部，压力机构能够与限位凸轮贴合，并且配合限位凸轮另一端的缓冲弹簧，能够对限位凸轮进行挤压并保证其与爪型夹持机构的连接，能够通过电机驱动抛光头进行抛光。
17.优选的，压力机构为液压伸缩机构或者气动伸缩机构。
18.通过采用上述技术方案，采用液压和气动伸缩的方式，具有稳定的调节性能，能够保证双面抛光机的正常运行。
19.优选的，抵接块远离伸缩机构的一面为弧形面，且弧形面上包括中心的抵接面和两侧的集尘口。
20.通过采用上述技术方案，抵接块远离伸缩机构的一面采用弧形面，能够与碳化硅晶片的边缘贴合，抵接块中心的抵接面用于固定，抵接面两侧的集尘口用于吸收打磨下俩的粉尘颗粒。
21.优选的，打磨腔的顶部防护板上开设有进气通孔。
22.通过采用上述技术方案，打磨腔的的顶部开设的进气通孔，能够保证集尘装置进行吸尘的过程中，打磨腔中能够有源源不断的空气进入，保证气体的流通和粉尘的吸收。
23.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
24.1.安装架中的安装腔用于安装打磨组件的电机，打磨腔中进行打磨操作，有效的避免粉尘进入电机造成损坏，提高电机的使用寿命；
25.2.压力机构能够与限位凸轮贴合，并且配合限位凸轮另一端的缓冲弹簧，能够对限位凸轮进行挤压并保证其与爪型夹持机构的连接，能够通过电机驱动抛光头进行抛光；
26.3.能够有效去除双面抛光机在使用的过程中会出现扬尘，避免扬尘附着在抛光头上，避免再次进行抛光时附着的颗粒影响抛光质量。
附图说明
27.图1是一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机正视结构示意图；
28.图2是一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机限位组件侧视结构示意图；
29.图3是一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机限位组件中抵接块的内侧结构示意图。
30.附图标记说明：1、底座；2、承载台；3、安装架；31、打磨组件；311、支撑架；312、电机；313、爪型夹持机构；3131、抛光头；31311、打磨面；31312、连接杆；31313、限位凸轮；3132、夹持爪；3133、压力机构；3134、缓冲弹簧；32、安装腔；33、打磨腔；34、防护板；341、进气通孔；4、限位组件；41、抵接块；411、集尘口；412、集尘箱；4121、负压装置；413、集尘管道；414、抵接面；42、伸缩机构；43、集尘机构。
具体实施方式
31.以下结合附图1-3对本技术作进一步详细说明。
32.本技术实施例公开一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机。
33.参照图1、图2及图3，一种带有集尘装置的碳化硅双面抛光机，包括底座1、承载台2、安装架3和限位组件4，承载台2安装在底座1上，安装架3安装在承载台2上，且安装架3上安装有对称分布的打磨组件31，打磨组件31包括支撑架311，支撑架311上安装有电机312，其中电机312的输出轴端部安装有爪型夹持机构313，爪型夹持机构313中安装有抛光头3131；限位组件4圆周分布在抛光头3131的四周，包括抵接块41、伸缩机构42和集尘机构43，其中伸缩机构42的一端固定在安装架3上，另一端与抵接块41转动连接，集尘机构43包括设置在抵接块41端面的集尘口411、集尘箱412以及连接集尘口411和集尘箱412的集尘管道413，集尘箱412中安装有负压装置4121。双面抛光机的底座1上安装承载台2，承载台2上的安装架3用于安装双面抛光机和集尘装置，其中打磨组件31通过安装在支撑架311上的电机312驱动爪型夹持机构313转动，爪型夹持机构313上夹持的抛光头3131对碳化硅晶片进行打磨。限位组件4设置在抛光头3131的四周，能够通过抵押块从四周将碳化硅晶片固定，其中抵接块41转动连接伸缩机构42，能够满足不同尺寸的碳化硅晶片的夹持，在抵接块41端面上的集尘口411能够将打磨过程中产生的粉尘碎屑进行吸收，经过集尘管道413进入到集尘箱412中进行收集，有效的去除抛光头3131上的杂质，提高后续的打磨质量。
34.参照图1，安装架3为矩形框架，其中安装架3的两端为安装腔32，安装架3的中间为打磨腔33，且安装架3的外侧安装有可拆卸的防护板34。安装架3中的安装腔32用于安装打磨组件31的电机312，打磨腔33中进行打磨操作，有效的避免粉尘进入电机312造成损坏，提高电机312的使用寿命。
35.参照图1，打磨组件31的支撑架311在安装腔32中，其中电机312固定在支撑架311上，电机312的输出轴通过轴承与安装腔32和打磨腔33的间隔板转动连接。电机312的输出轴通过轴承与安装腔32和打磨腔33的间隔板转动连接，满足电机312的无尘工作，并保证了正常的传动效率。
36.参照图1，爪型夹持机构313包括夹持爪3132和压力机构3133，抛光头3131包括打磨面31311、连接杆31312和限位凸轮31313，其中限位凸轮31313设置在夹持爪3132内，并和压力机构3133贴合。爪型家贺词机构通过加持爪固定抛光头3131中的限位凸轮31313，并通
过压力机构3133推动限位凸轮31313，实现对称分布的两个抛光头3131之间进行位置调节，实现抛光头3131对碳化硅晶片的夹持。
37.参照图1，爪型夹持机构313内的压力机构3133设置在夹持爪3132内部，且压力机构3133固定连接在电机312输出轴的端部，压力机构3133与限位凸轮31313贴合，且限位凸轮31313远离压力机构3133的一端设置有缓冲弹簧3134。压力机构3133设置在夹持爪3132内，压力机构3133固定在电机312输出轴的端部，压力机构3133能够与限位凸轮31313贴合，并且配合限位凸轮31313另一端的缓冲弹簧3134，能够对限位凸轮31313进行挤压并保证其与爪型夹持机构313的连接，能够通过电机312驱动抛光头3131进行抛光。
38.参照图1、图2及图3，压力机构3133为液压伸缩机构42或者气动伸缩机构42。采用液压和气动伸缩的方式，具有稳定的调节性能，能够保证双面抛光机的正常运行。
39.参照图1、图2及图3，抵接块41远离伸缩机构42的一面为弧形面，且弧形面上包括中心的抵接面414和两侧的集尘口411。抵接块41远离伸缩机构42的一面采用弧形面，能够与碳化硅晶片的边缘贴合，抵接块41中心的抵接面414用于固定，抵接面414两侧的集尘口411用于吸收打磨下俩的粉尘颗粒。
40.参照图1，打磨腔33的顶部防护板34上开设有进气通孔341。打磨腔33的的顶部开设的进气通孔341，能够保证集尘装置进行吸尘的过程中，打磨腔33中能够有源源不断的空气进入，保证气体的流通和粉尘的吸收。
41.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。