技术特征：
1.一种用于化学机械抛光的供液装置，其特征在于，包括供液基座和供液臂，所述供液臂的一端转动连接于所述供液基座，其另一端配置有朝向下侧的供液管；所述供液臂的上部配置有防护件，所述防护件具有溢流结构，以在防护件顶面的至少部分区域形成液膜。2.如权利要求1所述的供液装置，所述溢流结构朝向所述防护件的顶部设置，溢流结构形成的液膜由高向低覆盖防护件的至少部分顶面。3.如权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述溢流结构包括溢流槽和延展槽，所述溢流槽沿所述防护件的长度方向设置，所述延展槽与所述溢流槽相连通并位于所述防护件的端部。4.如权利要求3所述的供液装置，其特征在于，所述延展槽沿所述防护件的端面轮廓设置，延长槽的深度小于或等于溢流槽的深度。5.如权利要求3所述的供液装置，其特征在于，所述溢流结构还包括进液孔和流体孔道，所述进液孔设置于所述防护件的端部并与流体孔道相连通；所述溢流槽位于所述流体孔道的上方。6.如权利要求5所述的供液装置，其特征在于，所述溢流槽的纵向剖面为上宽下窄的梯形，溢流槽的侧面朝向外侧倾斜，相邻侧面形成的倾斜角为10-60
°
。7.如权利要求1所述的供液装置，其特征在于，所述溢流结构包括溢流孔、进液孔及流体孔道，设置于防护件端部的进液孔与流体孔道相连通，所述溢流孔自流体孔道的内侧壁向外延伸至防护件的顶面。8.一种用于化学机械抛光的修整装置，其特征在于，包括修整基座和修整臂，所述修整臂的一端转动连接于所述修整基座，其另一端配置有修整部；所述修整臂的上部配置有防护件，所述防护件具有溢流结构，以在防护件顶面的至少部分区域形成液膜。9.如权利要求8所述的修整装置，其特征在于，所述溢流结构朝向所述防护件的顶部设置，形成的液膜由高向低覆盖防护件的顶面；所述溢流结构包括溢流槽和延展槽，所述溢流槽沿所述防护件的长度方向设置，所述延展槽与所述溢流槽相连通并位于所述防护件的端部。10.一种化学机械抛光单元，其特征在于，包括抛光盘和承载头，还包括权利要求1至7任一项所述的供液装置和/或权利要求8至9任一项所述的修整装置。
技术总结
本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的供液装置、修整装置及抛光单元，所述供液装置包括供液基座和供液臂，所述供液臂的一端转动连接于所述供液基座，其另一端配置有朝向下侧的供液管；所述供液臂的上部配置有防护件，所述防护件具有溢流结构，以在防护件顶面的至少部分区域形成液膜。少部分区域形成液膜。少部分区域形成液膜。
技术研发人员：梁清波 陈映松 王同庆 路新春
受保护的技术使用者：华海清科股份有限公司
技术研发日：2022.05.17
技术公布日：2022/8/15