一种含有液体供给系统的镀膜设备的制作方法

1.本实用新型属于工件镀膜技术领域，更具体的说涉及一种含有液体供给系统的镀膜设备。


背景技术：

2.利用液体原料给工件镀膜在工业界的应用越来越多，例如反指纹涂层。这些涂层材料，通常由含f和si的高分子化合物构成，溶于酒精等溶剂中，室温下为液体，而且其粘度更接近油脂。因此需要针对不同粘度的液体，设计专门供液系统，将其输送至真空腔体中，作为镀膜原料，同时，又要防止在供液系统中混入气体，以避免在镀膜时产生气泡，影响涂层质量，目前尚无一能够通用的供给系统达成上述目的。


技术实现要素：

3.针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种可以精确控制液体流量；并且设有输送管道加热装置，可以通过加热液体，改善其流动性；该系统又设有气液分离，可以有效防止气体混入液体中，提高适用范围。
4.为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种含有液体供给系统的镀膜设备，包括供给系统和真空蒸镀机，所述供给系统包括：
5.储液瓶，其用于存储液体原料，储液瓶内部密封，在储液瓶的顶部具有进气管和出液管，进气管连接高压气源，所述进气管高于液体原料的液面，出液管淹没于液体原料的底部；
6.第一阀门，其通过输送管道连接出液管；
7.过滤器，其通过输送管道连接第一阀门；
8.液体质量流量计，其通过输送管道连接过滤器；
9.气液分离器，其通过输送管道连接液体质量流量计；
10.第二阀门，其通过输送管道连接气液分离器和真空蒸镀机；
11.加热装置，其布置于输送管道上。
12.进一步的所述储液瓶的瓶口处设置有密封盖子，所述密封盖子为具有弹性的塑料塞或胶塞，所述进气管和出液管均为硬质管。
13.进一步的所述储液瓶连接有升降机构，所述进气管和出液管的底端为针孔状的尖头。
14.进一步的所述进气管和出液管为不锈钢管。
15.进一步的所述加热装置包括加热带和温控装置，加热带缠绕在输送管道上，温控装置连接加热带控制加热带的温度。
16.进一步的所述进气管和出液管的内径为1-2mm，高压气源的压力为10-100psi。
17.进一步的所述真空蒸镀机包括真空腔体，在真空腔体内设置有工件架，工件架连接有旋转马达，工件架下方设置有离子源和金属坩埚，金属坩埚连接有蒸发电源，所述第二
阀门通过输送管道连接至金属坩埚。
18.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过该液体供给系统，可以精确控制液体流量；并且设有管道加热装置，可以通过加热液体，改善其流动性，并且根据不同的液体粘度，通过控制加热带的温度，即可使该液体供给系统适用于不同的液体输送；该系统又设有气液分离，可以有效防止气体混入液体中，避免产生气泡。
附图说明
19.图1为本实用新型含有液体供给系统的镀膜设备的结构示意图；
20.图2为镀膜方法的工艺流程图。
21.附图标记：1、进气管；2、液体原料；3、储液瓶；4、出液管；5、第一阀门；6、过滤器；7、液体质量流量计；8、加热带；9、温控装置；10、气液分离器；11、第二阀门；12、旋转马达；13、膜厚测量仪；14、工件架；15、工件；16、离子源；17、金属坩埚；18、蒸发电源。
具体实施方式
22.参照图1和图2对本实用新型含有液体供给系统的镀膜设备的实施例做进一步说明。
23.在本实用新型的描述中，需要说明的是，对于方位词，如有术语“中心”，“横向(x)”、“纵向(y)”、“竖向(z)”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作，不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。
24.此外，如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征，在本实用新型描述中，“数个”、“若干”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
25.一种含有液体供给系统的镀膜设备，包括供给系统和真空蒸镀机，所述供给系统包括：
26.储液瓶3，其用于存储液体原料2，储液瓶3内部密封，在储液瓶3的顶部具有进气管1和出液管4，进气管1连接高压气源，所述进气管1高于液体原料2的液面，出液管4淹没于液体原料2的底部；
27.第一阀门5，其通过输送管道连接出液管4，第一阀门5便于输送管道控制、维护；
28.过滤器6，其通过输送管道连接第一阀门5；
29.液体质量流量计7，其通过输送管道连接过滤器6；
30.气液分离器10，其通过输送管道连接液体质量流量计7；
31.第二阀门11，其通过输送管道连接气液分离器10和真空蒸镀机，第二阀门11便于输送管道控制、维护，并控制液体原料2进入真空蒸镀机；
32.加热装置，其布置于输送管道上。
33.通常来说真空蒸镀机其结构可以采用与现有技术相同，具体的如图1所示，所述真
空蒸镀机包括真空腔体，在真空腔体内设置有工件架14，工件架14连接有旋转马达12，工件架14下方设置有离子源16和金属坩埚17，金属坩埚17连接有蒸发电源18，所述第二阀门11通过输送管道连接至金属坩埚17。
34.其中工件架14，用于放置工件15，并且工件架14呈伞状结构，可以在真空外旋转马达12的带动下围绕其中心旋转，在工件架14上具有多个工件15放置区域。
35.膜厚测量仪13，优选的采用石英振荡器制备。在镀膜的过程中，它的表面通常也被蒸镀上一层薄膜，从而导致石英振荡器的频率发生变化。通过预先矫正，就可以依据频率变化的大小，来测量蒸镀在工件15上薄膜的厚度。这样，可以在镀膜厚度达到指定要求后，机器就可以自动结束镀膜。
36.离子源16，优选的采用霍尔离子源16，该离子源16产生的高能离子，可以用来轰击工件15表面，起到预清洁工件15表面的作用，以提高涂层与工件15表面的粘结力。
37.金属坩埚17，优选的由金属钼mo制作，用作承接液体原材料，由于蒸发的原材料是液体，因此，mo坩埚上有盖子将其密封，同时，盖子表面有多排细孔，使加热形成的蒸汽均匀地蒸发出来，蒸镀至工件15表面。
38.优选的所述储液瓶3的瓶口处设置有密封盖子，所述密封盖子为具有弹性的塑料塞或胶塞，所述进气管1和出液管4均为硬质管，其中在进气管1和出液管4穿过密封盖子后，密封盖子能够与进气管1和出液管4之间保持密封。
39.本实施例优选的所述储液瓶3连接有升降机构，所述进气管1和出液管4的底端为针孔状的尖头。
40.具体的升降机构可以为升降台，将储液瓶3固定在升降台上，当升降台上升时，出液管4和进气管1依次穿过密封盖子伸入至储液瓶3内部；其中所述进气管1和出液管4为不锈钢管，所述进气管1和出液管4的内径为1-2mm。
41.本实施例优选的所述加热装置包括加热带8和温控装置9，加热带8缠绕在输送管道上，温控装置9连接加热带8控制加热带8的温度；加热带8可以为硅胶加热带8，通过温控装置9控制加热带8的功率，以控制输送管道内液体原料2的温度。
42.一种采用如上述的镀膜设备的镀膜方法，包括如下步骤：
43.s1，打开真空腔体的门，上载工件15至工件架14，关闭真空腔体的门；
44.s2，对真空腔体抽真空，当真空达到设定值时，转动工件架14；
45.s3，启动离子源16，对工件15表面作预清洁；
46.s4，启动液体供给系统，首先将储液瓶3固定在升降台上，储液瓶3的容量为100-1000ml，升降台上升，出液管4和进气管1依次穿过密封盖子至储液瓶3内；
47.通过进气管1向储液瓶3中通入高压惰性气体，具体的进气管1连接高压气瓶，并通过减压阀和开关等进行控制调整其压力，其中高压惰性气体可以如氩气，压力通常控制在10-100psi之间；
48.通入的氩气进入储液瓶3后，氩气将在液体原料2上方，使液面产生压力，将液体原料2由出液管4被挤出；
49.液体原料2依次经过第一阀门5和过滤器6，滤器通常采用网格结构，在过滤器6处过滤可能含有的杂质；
50.再经过液体质量流量计7进行精准控制单位时间内的液体原料2流量，确保提供给
镀膜设备的液体原料2连续、均匀，满足均匀镀膜的要求，一般地，液体流量计的流量可在40-100000g/hr之间，优选地，流量可在40-10000g/hr之间；
51.经气液分离器10将可能溶于液体原料2中的气体分离出来，气液分离器10可以利用压力和液体的重力，使其在下落过程中不断撞击物体，形成极细小水粒，将可能溶于液体中的气体分离出来并释放；
52.最后经第二阀门11进入真空腔体的金属坩埚17中，提供液体原料2给真空蒸镀机；
53.s5，启动蒸发电源18加热金属坩埚17，其电压通常在0-12v之间，电流在10-1000a之间，电流通过mo坩埚，其中金属坩埚17通常由金属钼mo制作，由于蒸发的原材料是液体，因此，mo坩埚上有盖子将其密封，同时，盖子表面有多排细孔，利于加热形成的蒸汽均匀地蒸发出来，蒸镀至工件15表面，由于mo坩埚的电阻较大，产生热量，加热坩埚中的液体原材料，进而使其蒸汽透过坩埚表面的细孔，蒸镀到工件15表面，形成涂层；
54.在真空腔体内还具有膜厚测量仪13，在步骤s5中，膜厚测量仪13实时测量蒸镀的涂层厚度，并在厚度达到指定值时，关闭蒸发电源18和液体供给系统；
55.在蒸镀过程中，由旋转马达12带动伞状的工件架14围绕其中心旋转，使各个工件15的表面都可以通过蒸镀源蒸发的范围，达到涂层的均匀性；
56.s6，真空腔体充气至大气压，打开真空腔体的门，下载工件15。
57.以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。