一种真空蒸镀装置的制作方法

1.本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种真空蒸镀装置。


背景技术：

2.有机薄膜电致发光显示器件(oled)，是有机半导体材料在电场作用下发光的一项新兴技术，近年来得到了迅速发展。oled及si-oled显示产品(如手机屏或vr眼镜)的低能耗、高清晰度、超薄、高色彩饱和度和自发光等优点，使其成为未来显示产品发展的主流趋势之一。
3.目前oled半导体显示器件的发光层主要通过蒸发镀膜的方法制备，在大中型蒸镀设备中，对于拥有较高控制性的点蒸发源(如坩埚)真空镀膜设备来说，蒸镀过程中，伴随着蒸发材料的持续加热蒸发，目标基板处及设备内部的其他部位通常会使用分区的保护遮挡板来限制蒸发目标区域及防止材料的污染。随着不间断长时间蒸发的持续进行，设备内部的保护遮挡板会出现掉渣或者遮挡蒸发源粒子喷射路线等情况，为了避免上述情况的发生，需要适时暂停蒸发，等待坩埚冷却后破开真空，清理和更换真空设备内部挡板及零件，由此降低了器件制作的效率及材料利用率。
4.除此之外，对应用rgb像素独立发光的器件进行蒸镀时，需要使用掩膜板对rgb各发光层分开蒸镀，蒸镀时，掩膜板设于基板和蒸发源之间，蒸发材料穿过掩膜板上的孔洞运动至目标基板上。蒸镀过程中，往往会出现因掩膜板对蒸发源的指向性不足(如掩膜板开口尺寸限制或掩膜板上附着较多颗粒物等)，导致蒸镀效果较差，或掩膜板上沉积较多蒸发源粒子导致寿命降低的问题。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种真空蒸镀装置，旨在延长真空蒸镀装置的持续运行的时间，提高运行效率。
6.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
7.一种真空蒸镀装置，包括：
8.腔体，所述腔体内设有至少两个蒸发源，所述蒸发源用于对待蒸镀基板镀膜，且所述蒸发源沿所述待蒸镀基板的中心轴线对称分布；
9.主挡板，所述主挡板靠近所述待蒸镀基板设置，且所述主挡板能选择性地遮挡所述蒸发源和所述待蒸镀基板之间的蒸镀通道；
10.至少两个副挡板，所述副挡板与所述蒸发源一一对应设置，且所述副挡板设于所述蒸发源的上方，所述副挡板能选择性地遮挡所述蒸镀通道；
11.挡板组件，所述挡板组件设于所述主挡板和所述副挡板之间，所述挡板组件包括至少两个平行且错开设置的第一挡板，所述挡板组件能选择性地遮挡所述蒸镀通道，所述挡板组件设有导通孔。
12.可选地，所述真空蒸镀装置还包括监测件，所述监测件用于实时测量蒸镀速度。
13.可选地，所述监测件至少为两个，所述监测件与所述蒸发源一一对应设置，且所述监测件与所述副挡板或所述第一挡板形成检测通道。
14.可选地，所述监测件可拆卸设置于所述腔体上。
15.可选地，所述挡板组件靠近所述副挡板设置。
16.可选地，所述主挡板、所述副挡板和所述挡板组件均可拆卸设置于所述腔体上。
17.可选地，所述主挡板与所述待蒸镀基板同轴设置。
18.可选地，所述主挡板能相对所述待蒸镀基板旋转以遮挡所述蒸镀通道。
19.可选地，所述副挡板和所述挡板组件能相对所述蒸发源旋转以遮挡所述蒸镀通道。
20.可选地，所述第一挡板为2个-5个。
21.本实用新型的有益效果：本实用新型提供的真空蒸镀装置，通过设置至少两个蒸发源，蒸发源沿待蒸镀基板的中心轴线对称分布，每个蒸发源可对待蒸镀基板的不同区域进行蒸镀，在蒸镀时，可根据蒸镀需要设置蒸发源的蒸镀顺序，不同的蒸发源也可以设置不同的蒸发材料，以用于对待蒸镀基板的不同区域蒸镀不同功能的薄膜；通过设置挡板组件，挡板组件包括至少两个平行设置的第一挡板，当副挡板的使用寿命达到极限时，挡板组件可替代副挡板对蒸发源的蒸发材料进行遮挡，且其中之一的第一挡板寿命达到极限时，可更换另一第一挡板对蒸发材料进行遮挡，以延长真空蒸镀装置的持续运行时间，防止因副挡板的失效而导致腔体内污染，减少了腔体的清理和更换次数，延长了该真空蒸镀装置的使用寿命，提高了运行效率；挡板组件设有导通孔，在对需要使用掩膜板的产品进行蒸镀时，导通孔可使蒸发材料的蒸镀路线集中于特定区域内，使蒸镀过程具有更高的指向性，进而控制成膜区域的微观成膜范围(比如像素定义层pdl的成膜)，阻止多余的蒸发源粒子附着到掩膜板上，提高了掩膜板的使用寿命，进而提高了真空蒸镀装置的持续运行时间。
附图说明
22.图1是本实用新型实施例提供的一方案的真空蒸镀装置的结构示意图；
23.图2是本实用新型实施例提供的另一方案的真空蒸镀装置的结构示意图；
24.图3是本实用新型实施例提供的使用掩膜板蒸镀时的真空蒸镀装置的结构示意图；
25.图4是本实用新型实施例提供的一方案的导通孔的结构示意图；
26.图5是本实用新型实施例提供的另一方案的导通孔的结构示意图；
27.图6是本实用新型实施例提供的又一方案的导通孔的结构示意图。
28.图中：
29.100、真空蒸镀装置；200、待蒸镀基板；
30.1、蒸发源；2、蒸镀通道；3、主挡板；4、副挡板；51、第一挡板；511、导通孔；6、监测件；7、掩膜板；8、支架。
具体实施方式
31.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说
明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
32.在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
33.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
34.在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
35.如图1和图2所示，本实施例提供了一种真空蒸镀装置100，用于对有机显示器件(如amoled或si-oled)进行真空蒸发镀膜，该真空蒸镀装置100包括腔体、主挡板3、至少两个副挡板4和挡板组件。
36.具体地，如图1-图6所示，腔体内设有至少两个蒸发源1，蒸发源1用于对待蒸镀基板200镀膜，且蒸发源1沿待蒸镀基板200的中心轴线对称分布；主挡板3靠近待蒸镀基板200设置，且主挡板3能选择性地遮挡蒸发源1和待蒸镀基板200之间的蒸镀通道2；副挡板4与蒸发源1一一对应设置，且副挡板4设于蒸发源1的上方，副挡板4能选择性地遮挡蒸发源1和待蒸镀基板200之间的蒸镀通道2；挡板组件设于主挡板3和副挡板4之间，挡板组件包括至少两个平行且错开设置的第一挡板51，挡板组件能选择性地遮挡蒸发源1和待蒸镀基板200之间的蒸镀通道2，挡板组件设有导通孔511。
37.本实用新型提供的真空蒸镀装置100，通过设置至少两个蒸发源1，蒸发源1沿待蒸镀基板200的中心轴线对称分布，每个蒸发源1可对待蒸镀基板200的不同区域进行蒸镀，在蒸镀时，可根据蒸镀需要设置蒸发源1的蒸镀顺序；不同的蒸发源1也可以设置不同的蒸发材料，以用于对待蒸镀基板200的不同区域蒸镀不同功能的薄膜；通过设置挡板组件，挡板组件包括至少两个平行且错开设置的第一挡板51，在该真空蒸镀装置100持续运行过程中，当副挡板4的使用寿命达到极限时，挡板组件可替代副挡板4对蒸发源1的蒸镀材料进行遮挡，且其中之一的第一挡板51寿命达到极限时，可更换另一第一挡板51对蒸镀材料进行遮挡，依次类推，以延长真空蒸镀装置100的持续运行时间，提高运行效率；挡板组件设有导通孔511，在对需要使用掩膜板7的待蒸镀基板200进行蒸镀时，导通孔511可使蒸发材料的蒸镀路线集中于特定区域内，能够通过控制蒸发源1发射粒子的方向进而控制成膜区域的微观成膜范围(比如像素定义层pdl的成膜)，使蒸镀过程具有更高的指向性，阻止多余的蒸发源粒子附着到掩膜板7上，提高了掩膜板7的使用寿命，进而提高了真空蒸镀装置的持续运行时间。
38.需要说明的是，在实际加工制作时，若干个第一挡板51设有导通孔511，其余第一挡板51不设有导通孔511，设有导通孔511的第一挡板51应用于需要使用掩膜板7的待蒸镀基板200的蒸镀；未设有导通孔511的第一挡板51应用于不需要使用掩膜板7的待蒸镀基板200的蒸镀。
39.示例性地，当待蒸镀基板200不需要使用掩膜板7进行蒸镀时，使用未设有导通孔511的第一挡板51对蒸发材料进行遮挡，如在对第一块待蒸镀基板200镀膜时，主挡板3、副挡板4和挡板组件均处于打开状态，蒸镀完成后，主挡板3和副挡板4均关闭，第二块待蒸镀基板200进入真空蒸镀装置100内，打开主挡板3和副挡板4，对第二块待蒸镀基板200进行镀膜处理，蒸镀完成后，主挡板3和副挡板4均关闭，当副挡板4的寿命达到极限时，副挡板4一直处于打开状态，再次蒸镀时，关闭主挡板和未设有导通孔511的第一挡板51以对蒸镀材料进行遮挡，延长了真空蒸镀装置100的持续运行时间，防止因副挡板4的失效而导致腔体内污染，减少了腔体的清理和更换次数，延长了该真空蒸镀装置100的使用寿命，提高了运行效率。
40.示例性地，如图3所示，四个第一挡板51均设有导通孔511，当待蒸镀基板200需要使用掩膜板7进行蒸镀时，使用设有导通孔511的第一挡板51对蒸发材料进行遮挡，蒸镀时，设有导通孔511的第一挡板51关闭，蒸发材料依次穿过导通孔511和掩膜板7上的孔洞蒸镀至待蒸镀基板200上，导通孔511使蒸镀材料的蒸镀通道更具有指向性，第一挡板51未开设导通孔511的区域能阻止多余的蒸发源粒子附着到掩膜板7上，提高了掩膜板7的使用寿命，进而提高了真空蒸镀装置100的持续运行时间，提高运行效率。导通孔511掩膜板7导通孔511
41.可选地，真空蒸镀装置100还包括监测件6，监测件6用于实时测量蒸镀速度。
42.可选地，监测件6至少为两个，监测件6与蒸发源1一一对应设置，且监测件6与副挡板4或第一挡板51形成检测通道，利于精确记录每个蒸发源1的蒸镀速度，提高蒸镀可靠性。
43.可选地，监测件6可拆卸地设置于腔体上。该种设置，便于对监测件6进行拆装。本实施例中，监测件6为传感器。在其他实施例中，本领域技术人员可根据实际需要设定监测件6的具体类型。
44.可选地，挡板组件靠近副挡板4设置，以有效避免因蒸镀材料运动路径较长增大其扩散至真空蒸镀装置100内的面积，提高遮挡效果。
45.为便于对挡板进行更换，主挡板3、副挡板4和挡板组件均可拆卸设置于所述腔体上。示例性地，主挡板3、副挡板4和挡板组件均通过支撑杆8设于腔体的内壁，主挡板3、副挡板4和挡板组件通过紧固件与支撑杆8连接。本实施例中，紧固件为螺钉。在其他实施例中，本领域技术人员可根据实际需要设定紧固件的类型。
46.为提高遮挡效果，主挡板3与待蒸镀基板200同轴设置。
47.可选地，主挡板3能相对待蒸镀基板200旋转以遮挡蒸镀通道2，副挡板4和挡板组件能相对蒸发源1旋转以遮挡蒸镀通道2。在其他实施例中，也可采用翻转来替代旋转，只要能实现选择性遮挡即可，在此不做具体限定。另外，该真空蒸镀装置还包括支架8，支架8用于固定主挡板3、副挡板4和挡板组件，本领域技术人员可以根据实际需要进行设置，在此也不做具体限定。
48.优选地，第一挡板51为2个-5个。本实施例中，第一挡板51设有3个。在其他实施例
中，本领域技术人员可根据实际需要设定第一挡板51的个数范围。
49.可选地，如图4-图6所示，导通孔511的中心线与第一挡板51的轴线重合，或者，导通孔511的中心线也可与第一挡板51的轴线不重合。本领域技术人员可根据蒸镀的具体位置来设定导通孔511在第一挡板51的位置，导通孔511的大小可根据掩膜板7的孔洞大小设置，导通孔511可稍大于孔洞。
50.显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。