旋转移载式立式镀膜设备的制作方法

1.本实用新型涉及一种镀膜设备，特别是涉及一种旋转移载式立式镀膜设备。


背景技术：

2.参阅图1、图2，现有镀膜设备适用于对待镀物(图未示)进行两种不同镀膜材质的双面镀膜，并包括相反设置的一个入料腔11及一个出料腔12、一个真空除气腔13、两个真空清洁腔14、四个真空镀膜腔15、一个回流通道16、多个在设备中循环移动的承载装置17、四个分别设置于所述真空镀膜腔15用来供镀膜使用的靶材18，及两个设置于所述真空清洁腔14且分别可对所述待镀物其中一个面进行清洁的清洁单元19。所述真空除气腔13、所述真空清洁腔14、所述真空镀膜腔15依序设置于所述入料腔11与所述出料腔12间，所述回流通道16连接于所述入料腔11及所述出料腔12间并位于上方。
3.运作时，每一个承载装置17移动到所述入料腔11后，将所述待镀物设置于所述承载装置17上，所述承载装置17再依序经过所述真空除气腔13、所述真空清洁腔14，及于不同的所述真空镀膜腔15以所述靶材18对所述待镀物的相反两面进行镀膜，最后，所述承载装置17移动到所述出料腔12后，卸下所述待镀物以完成双面镀膜的制程，所述承载装置17再经由所述回流通道16回到所述入料腔11，以便进行下一次镀膜制程。
4.然而，由于所述真空清洁腔14只能朝单一个方向进行处理，因此必须设置两个真空清洁腔14，并朝相反的两个方向对所述待镀物的相反两面进行清洁。当要进行两种不同镀膜材质的双面镀膜时，由于镀膜的方向决定了所述靶材18的设置位置，因而需要配置四个真空镀膜腔15而形成一个狭长条形的格局，进而导致设备的占用面积较大，及产生狭长型设备的周边剩余空间难以利用的问题。而真空腔的数量增加，也导致需消耗更多的能源以维持真空腔内的真空度。
5.此外，由于所述回流通道16的长度较长，所述承载装置17经由所述回流通道16回到所述入料腔11所需的时间较长，因此需额外准备更多的承载装置17以利于不间断的生产，导致其建构成本及后期维护成本较高。


技术实现要素：

6.本实用新型的目的在于提供一种可减少占地面积、提高生产灵活度与生产效率、降低维护成本，及降低能源消耗的旋转移载式立式镀膜设备及双面多层膜的镀膜方法。
7.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，适用于直立设置的待镀物，定义第一轴线及第二轴线，所述旋转移载式立式镀膜设备包含多个真空制程腔，及旋转装置。
8.所述真空制程腔分别设置于所述第一轴线及所述第二轴线上，且能容置及沿所述第一轴线及所述第二轴线输送所述待镀物。
9.所述旋转装置，包括第一旋转腔及第二旋转腔。
10.所述第一旋转腔设置于所述第一轴线上，并包括位于所述第一轴线且连接其中一个真空制程腔的第一后开口、位于所述第一轴线与所述第二轴线之间的第一侧开口，及能
容置且能驱动所述待镀物旋转并具有第一头端及第一尾端的第一旋转单元，所述第一旋转单元能以所述第一头端朝向所述第一后开口、以所述第一尾端朝向所述第一后开口，及以所述第一头端及所述第一尾端的其中一个朝向所述第一侧开口，所述待镀物能自所述第一旋转单元的第一头端或第一尾端移入及移出。
11.所述第二旋转腔设置于所述第二轴线上，并包括位于所述第二轴线且连接其中另一个真空制程腔的第二后开口、位于所述第一轴线与所述第二轴线之间且对应所述第一旋转腔的第二侧开口，及能容置且能驱动所述待镀物旋转并具有第二头端及第二尾端的第二旋转单元，所述第二旋转单元能以所述第二头端朝向所述第二后开口、以所述第二尾端朝向所述第二后开口，及以所述第二头端及所述第二尾端的其中一个朝向所述第二侧开口，所述待镀物能自所述第二旋转单元的第二头端或第二尾端移入及移出。
12.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述第一旋转腔还具有第一前开口，所述真空制程腔的其中的两个分别连接于所述第一旋转腔的第一前开口及第一后开口，所述第一旋转单元还能以所述第一头端朝向所述第一前开口，及以所述第一尾端朝向所述第一前开口。
13.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述第一轴线与所述第二轴线平行，所述第一旋转腔的第一前开口及第一后开口皆位于所述第一轴线上，且相反设置于所述第一旋转单元的两相反侧。
14.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，连接所述第一旋转腔的其中一个真空制程腔用于清洁。
15.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，连接所述第一旋转腔的其中两个真空制程腔分别用于除气及清洁。
16.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述第二旋转腔还具有第二前开口，所述真空制程腔的其中的两个分别连接于所述第二旋转腔的第二前开口及第二后开口，所述第二旋转单元还能以所述第二头端朝向所述第二前开口，及以所述第二尾端朝向所述第二前开口。
17.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述第一轴线与所述第二轴线平行，所述第二旋转腔的第二前开口及第二后开口皆位于所述第二轴线上，且相反设置于所述第二旋转单元的两相反侧。
18.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，连接所述第二旋转腔的其中另一个真空制程腔用于镀膜。
19.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，连接所述第二旋转腔的其中两个真空制程腔分别用于镀钛及镀铜。
20.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述第一旋转腔还具有第一前开口及第一外开口，所述真空制程腔的其中三者分别连接于所述第一旋转腔的第一前开口、第一后开口及第一外开口，所述第一旋转单元还能以所述第一头端朝向所述第一前开口、以所述第一尾端朝向所述第一前开口、以所述第一头端朝向所述第一外开口，及以所述第一尾端朝向所述第一外开口。
21.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述第二旋转腔还具有第二前开口及第二外开口，所述真空制程腔的其中三者分别连接于所述第二旋转腔的第二前开口、第二后
开口及第二外开口，所述第二旋转单元还能以所述第二头端朝向所述第二前开口、以所述第二尾端朝向所述第二前开口、以所述第二头端朝向所述第二外开口，及以所述第二尾端朝向所述第二外开口。
22.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述旋转装置还包括位于所述第一旋转腔及所述第二旋转腔之间的中继腔，所述中继腔连通于所述第一旋转腔的第一侧开口及所述第二旋转腔的第二侧开口。
23.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，当所述第二旋转腔的第二旋转单元的第二头端朝向所述第二后开口或当所述第二尾端朝向所述第二后开口时，所述待镀物皆位于所述第二轴线上。
24.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，适用于两个直立设置的待镀物，所述旋转装置的第二旋转腔能同时容置所述待镀物。
25.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，所述真空制程腔的其中的两个连接于所述第二旋转腔的第二后开口，每一个真空制程腔容置相应的待镀物。
26.本实用新型的旋转移载式立式镀膜设备，还包含回流装置，所述回流装置跨设在所述第一轴线及所述第二轴线上，且与所述旋转装置位于所述第一轴线及所述第二轴线的两相反侧。
27.本实用新型的有益效果在于：通过所述真空制程腔、所述第一旋转腔及所述第二旋转腔的设置，使得可用单一个仅能朝单方向进行加工的真空制程腔对所述待镀物的相反两面进行加工，能提高生产灵活度与生产效率，也能减少所述真空制程腔的数量，进一步降低维持真空所需的能源消耗及维护成本，此外，通过沿所述第一轴线及所述第二轴线排列，减少整体在所述第一轴线上的长度，达到减少占地面积且易于利用空间的功效。
附图说明
28.本实用新型的其他的特征及功效，将于参照附图的实施方式中清楚地呈现，其中：
29.图1是一侧视示意图，说明一个现有的镀膜设备；
30.图2是所述现有的镀膜设备的俯视示意图；
31.图3是一个立体图，说明本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的一个实施例的一个承载装置及一个待镀物；
32.图4是所述实施例的一个俯视图；
33.图5是所述实施例的另一个俯视图，说明两个旋转单元各自的头端分别朝向两个旋转装置的前开口；
34.图6是所述实施例的另一个俯视图，说明所述头端分别朝向所述旋转装置各自的侧开口；
35.图7是一个俯视图，说明所述实施例的所述旋转装置的另一种配置；
36.图8是一个俯视图，说明本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的第一变化例；
37.图9是一个俯视图，说明本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的第二变化例；
38.图10是一个俯视图，说明本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的第三变化例；
39.图11是一个俯视图，说明本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的第四变化例；
40.图12是一个俯视图，说明本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的第五变化例；
41.图13是一个俯视图，说明本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的第六变化例；
42.图14是一个流程图，说明本实用新型用于双面多层膜的镀膜方法的第一实施例；及
43.图15是一个流程图，说明本实用新型用于双面多层膜的镀膜方法的第二实施例。
具体实施方式
44.参阅图3、图4，本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的实施例适用于多个直立设置的待镀物9，所述待镀物9可以是机壳、面板级扇出型封装(foplp)、晶圆级扇出型封装(fowlp)、埋入式基板、无核心基板、玻璃基板、封装基板、pcb基板、晶圆或晶圆级封装等金属及非金属物。定义一个第一轴线l1及一个第二轴线l2。所述旋转移载式立式镀膜设备包含一个承载装置2、多个真空制程腔3、一个旋转装置4，及一个回流装置5。
45.于本实施例中，所述第一轴线l1与所述第二轴线l2平行。然而，于其他实施态样中，也能因厂房的空间配置而略成一个角度，并不以此为限。
46.所述承载装置2包括多个直立设置且适用于承载所述待镀物9的载具21，于本实施例中，每一个载具21呈矩形框状，于其他实施态样中，若所述待镀物9的结构强度较高(例如自身带框的玻璃基板时)，也能不设置所述承载装置2。应说明的是，固定于每一个载具21的待镀物9数量也可以是多个，并不以此为限。
47.为了利于后续的说明，以下将以一个载具21及一个待镀物9为例，此时，所述待镀物9固定于所述载具21的中间部位，以保护所述待镀物9不于加工或运输时受损，并给予所述待镀物9一个定张力，使其抵抗因重力而产生的变形，因此达到均匀的加工质量。所述待镀物9在所述载具21的水平方向上开放以接受镀膜制程中的各种处理。
48.所述真空制程腔3分别设置于所述第一轴线l1及所述第二轴线l2上，且能容置及分别沿所述第一轴线l1及所述第二轴线l2输送所述载具21及所述待镀物9。
49.于本实施例中，所述真空制程腔3的数量是8个，且分别是设置于所述第一轴线l1上的一个装载腔体31、两个除气腔体32，及一个清洁腔体33，及设置于所述第二轴线l2上的一个第一镀膜腔体34、一个第二镀膜腔体35、一个缓冲腔体36，及一个卸载腔体37。所述真空制程腔3之间可以设置阀门(图未示)，以维持腔内真空度的稳定。
50.所述装载腔体31用于进料。
51.所述除气腔体32彼此相连接且可对进入内部的所述载具21及所述待镀物9进行真空除气(degas)，去除因与外界空气接触而吸附于所述载具21及所述待镀物9的水分子与气体。通过设置所述除气腔体32能提高生产效率，例如将所述载具21及所述待镀物9分别于其中一个除气腔体32内置放3分钟并将其抽至一个低真空度，并于其中另一个除气腔体32内置放3分钟并将其抽至一个高真空度，因此共能累积6分钟的除气时间且分散建立真空度所需的时间，进一步达到更佳的制程效率。
52.除气腔体32的数量不以两个为限。除了可增加除气腔室32的数量以分散降低每一次停留所需的时间之外，于其他实施态样中，为了进一步提高制程的良率，也能于所述装载腔体31之前设置至少一个烤箱(图未示)，由于所述待镀物9自其他制程工序移送至本实用新型的实施例时，可能因暴露于大气的时间较长而吸附较多的水气。通过将所述待镀物9于所述至少一个烤箱内烘烤一段时间，实务上约为烘烤30分钟至1小时之间，能有效减少所述
待镀物9于所述除气腔体32内所需的除气时间，进一步能减少所述除气腔体32的数量或不安装所述除气腔体32。此外，另于其他实施态样中，也能使所述装载腔室31具有真空除气的功能，因此能减少所述除气腔体32内的数量或不安装所述除气腔体32。
53.所述清洁腔体33与所述除气腔体32间隔设置，且用来对进入内部的所述待镀物9进行清洁。于本实施例中，是以等离子体(plasma)清洗的制程方法。
54.所述第一镀膜腔体34及所述第二镀膜腔体35间隔设置，且用来对所述待镀物9进行镀膜。所述第一镀膜腔体34与所述第二镀膜腔体35用来镀膜的材质相异。于本实施例中，所述第一镀膜腔体34是用来对所述待镀物9进行镀钛(ti)，所述第二镀膜腔体35是用来对所述待镀物9的进行镀铜(cu)，于其他实施态样中，也可依需求选用其他镀膜材料。
55.此外，也可依镀膜层的各个需求增减镀膜腔体的数量，例如当需要镀上较厚的铜层时，可以设置两个以上的第二镀膜腔体35。
56.能理解的是，所述第一镀膜腔体34除了镀钛以外，在一些实施态样中，也可以镀tiw、cr、nicr、ni、ta、cun、ti/tin、ta/tan、sus。而所述第二镀膜腔体35除了镀铜以外，在一些实施态样中，也可以镀铜合金。此外，在不同的实施态样中，所述第一镀膜腔体34与所述第二镀膜腔体35的镀膜种类也能互换。镀膜种类及镀膜层数并非本实用新型的限制，使用者可依实际镀膜需求来选用镀膜材质及配置镀膜腔体的数量。
57.要特别再说明的是，在上述实施例中的所述真空制程腔3内都能设置高效率的冷却单元，例如冷却管路或在腔内通入冷却气体，以有效控制所述待镀物9的温度，及减少所述待镀物9的变形，提升产品良率。
58.所述缓冲腔体36连接于所述第二镀膜腔体35且用来输送及容置所述承载装置2。于本实施例中，由于所述第一镀膜腔体34及所述第二镀膜腔体35于制程时所需的本底真空度(base pressure)较高(压力值约介于10-5
～10-8
torr，通常为10-6
torr,较佳的为10-7
torr)，通过设置所述缓冲腔体36能达到至少一个以下的功效：
59.一、利于逐步将所述待镀物9所处的真空度缓降至相同于外界的大气压力，能让所述第二镀膜腔体35将所述待镀物9输送至所述缓冲腔体36时，不会因真空度的落差太大而增加后续重新建立真空度时所需的时间。
60.二、达到水气隔绝的目的。由于外界的大气湿度约介于40％至70％之间，通过设置所述缓冲腔体36能避免外界的水气扩散至所述第一镀膜腔体34及所述第二镀膜腔体35，进一步避免造成腔内的真空度变差、避免靶材表面氧化、及避免因水气混杂而造成镀膜的质量变差。
61.于其他实施态样中，若外界的大气湿度已被精确的控制，也可不设置所述缓冲腔体36，不以此为限。
62.所述卸载腔体37连接所述缓冲腔体36且用于出料。
63.所述旋转装置4包括一个设置于所述第一轴线l1上的第一旋转腔41、一个设置于所述第二轴线l2上的第二旋转腔42，及一个位于所述第一旋转腔41及所述第二旋转腔42之间的中继腔43。所述第一旋转腔41连接于其中一个所述除气腔体32与所述清洁腔体33间。所述第二旋转腔42连接于所述第一镀膜腔体34与所述第二镀膜腔体35间。所述旋转装置4内也为真空状态。
64.参阅图4、图5、图6，所述第一旋转腔41包括沿所述第一轴线l1相反设置且分别连
接其中一个所述除气腔体32与所述清洁腔体33的一个后开口411及一个前开口412、一个位于所述第一轴线l1与所述第二轴线l2之间的侧开口413，及一个旋转单元414。所述旋转单元414能容置且可驱动所述载具21及所述待镀物9以沿一个铅直方向延伸的旋转轴(图未示)旋转，并具有一个头端415及一个尾端416。所述旋转单元414能以所述头端415朝向所述后开口411(如图4所示，此时，所述尾端416朝向所述前开口412)、以所述头端415朝向所述前开口412(如图5所示，此时，所述尾端416朝向所述后开口411)，及以所述头端415朝向所述侧开口413(如图6所示)。所述载具21及所述待镀物9能自所述旋转单元414的头端415或尾端416移入及移出。
65.所述第二旋转腔42包括沿所述第二轴线l2相反设置且分别连接所述第二镀膜腔体35与所述第一镀膜腔体34的一个后开口421及一个前开口422、一个位于所述第一轴线l1与所述第二轴线l2之间且对应所述第一旋转腔41的侧开口423，及一个旋转单元424。所述旋转单元424能容置且可驱动所述载具21及所述待镀物9以沿所述铅直方向延伸的旋转轴(图未示)旋转，并具有一个头端425及一个尾端426。所述旋转单元424能以所述头端425朝向所述后开口421(如图4所示，此时，所述尾端426朝向所述前开口422)、以所述头端425朝向所述前开口422(如图5所示，此时，所述尾端426朝向所述后开口421)，及以所述头端425朝向所述侧开口423(如图6所示)。所述载具21及所述待镀物9能自所述旋转单元424的头端425或尾端426移入及移出。
66.较佳的，于本实施例中，当所述第一旋转腔41的旋转单元414的头端415朝向所述后开口411或当所述尾端416朝向所述后开口411时，所述待镀物9皆位于所述第一轴线l1上。当所述第二旋转腔42的旋转单元424的头端425朝向所述后开口421或当所述尾端426朝向所述后开口421时，所述待镀物9皆位于所述第二轴线l2上。
67.所述中继腔43连接于所述侧开口413,423间。于本实施例中，所述中继腔43用于容置及输送所述载具21及所述待镀物9。于其他实施态样中，所述中继腔43也能是较短的长度而仅具输送的功能。再于其他实施态样中，也能不设置所述中继腔43，不以此为限。
68.于本实施例中，所述第一旋转腔41及所述第二旋转腔42的外部均设置有马达(图未示)，内部均设置有减速齿轮组(图未示)，马达与减速齿轮组之间通过密封的传动元件(图未示)传输动力，以驱动所述旋转单元414、424转动，于其他实施态样中，也可以选用其他可提供动力以转动旋转单元414、424的等效组件，不以此为限。
69.较详细地说，于本实施例中，是沿所述第一轴线l1依序排列所述装载腔体31、所述除气腔体32、所述第一旋转腔41及所述清洁腔体33；沿所述第二轴线l2反向依序排列所述第一镀膜腔体34、所述第二旋转腔42、所述第二镀膜腔体35、所述缓冲腔体36及所述卸载腔体37。所述装载腔体31与所述卸载腔体37相邻。
70.值得一提的是，于本实施例中，所述第一轴线l1及所述第二轴线l2上的所述真空制程腔3数量相同，于其他实施态样中，也可依需求调整所述第一轴线l1及所述第二轴线l2上的真空制程腔数量，此时，所述第一、第二旋转腔41、42的配置如图7所示。其中，所述第一旋转腔41的侧开口413及所述第二旋转腔42的侧开口423沿一个第三轴线l3间隔设置，所述第三轴线l3与所述第一轴线l1及所述第二轴线l2呈一个夹角。
71.所述回流装置5跨设在所述第一轴线l1及所述第二轴线l2上，且与所述旋转装置4位于所述第一轴线l1及所述第二轴线l2的两相反侧，并衔接所述卸载腔体37及所述装载腔
体31，用于将所述待镀物9自所述承载装置2的载具21卸离，再将所述载具21回流并装载下一个新的待镀物(图未示)。较佳的，所述回流装置5能整合设备前段模块(equipment front end module；efem)，达到自动化入出料的目的。
72.应说明的是，所述真空制程腔3能根据不同的制程需求而弹性配置为不同的功能腔体，例如依序连接所述第一旋转腔41的后开口411、所述第一旋转腔41的前开口412、所述第二旋转腔42的前开口422，及所述第二旋转腔42的后开口421的所述真空制程腔3分别为以下几种腔体的配置方式：
73.一、所述除气腔体32、所述清洁腔体33、所述第一镀膜腔体34，及所述第二镀膜腔体35(同本实施例的配置，参见图4)。
74.二、所述清洁腔体33、所述清洁腔体33、所述第一镀膜腔体34，及所述第二镀膜腔体35。其目的在于可于不同的真空制程腔3内对于所述待镀物9的两相反侧进行清洁。
75.三、所述清洁腔体33、所述第一镀膜腔体34、所述第二镀膜腔体35，及所述第二镀膜腔体35。其目的在于通过设置两个第二镀膜腔体35能增加镀膜的膜厚。
76.四、所述清洁腔体33、所述第一镀膜腔体34、所述第二镀膜腔体35，及所述第一镀膜腔体34。举例来说，所述第一镀膜腔体34可以是镀不锈钢(sus)，所述第二镀膜腔体35则可以是镀铜(cu)，因此能达到sus-cu-sus的镀膜层，应用于例如emi镀膜。
77.五、所述清洁腔体33、所述第一镀膜腔体34、所述第二镀膜腔体35，及一个第三镀膜腔体(图未示)。举例来说，所述第一镀膜腔体34是镀钛(ti)、所述第二镀膜腔体35是镀镍钒合金(niv)，及所述第三镀膜腔体是镀金(au)、银(ag)，及铜(cu)的其中一个，因此能应用于晶圆背面金属化制程(back side metal)或图形化正面金属制程(front side metallization,fsm)。
78.其变化态样并不以上述的配置为限。例如，于其他实施态样中，也能将所述旋转装置4的中继腔43置换成所述第一镀膜腔体34，第一镀膜腔体34用于镀钛，所述第二镀膜腔体35与所述第二旋转腔42的前开口422相连接，且用于镀镍钒合金(niv)，所述第三镀膜腔体(图未示)与所述第二旋转腔42的所述后开口421相连接，且用于镀金(au)、银(ag)，及铜(cu)的其中一个。并不以此为限。
79.若将所述待镀物9分为a面(图未示)及b面(图未示)两个待加工区域，则所述待镀物9通过本实施例将依序：一、安装于所述承载装置的载具21内。二、进入所述除气腔体32进行除气。三、通过所述第一旋转腔41后进入所述清洁腔体33内并对a面进行清洁。四、进入所述第一旋转腔41内旋转180
°
后，再使其回到所述清洁腔体33内并对b面进行清洁。五、进入所述第一旋转腔41内，再使其进入所述第二旋转腔42内，接着进入所述第一镀膜腔体34内对a面进行镀膜。六、进入所述第二旋转腔42内旋转180
°
，再使其回到所述第一镀膜腔体34内对b面进行镀膜。七、进入所述第二旋转腔42内，接着再进入所述第二镀膜腔体35内对b面进行镀膜。八、进入所述第二旋转腔42内旋转180
°
，再使其回到所述第二镀膜腔体35内对a面进行镀膜。九、进入所述缓冲腔体36，接着移出所述承载装置2的载具21。
80.应说明的是，虽然通过所述第一旋转腔41的旋转单元414及所述第二旋转腔42的旋转单元424能达到双面镀膜的功效。但本实施例仍可单纯用于单面镀膜，此时所述第一旋转腔41的旋转单元414及所述第二旋转腔42的旋转单元424是用于将所述载具21及所述待镀物9自第一轴线l1移动至所述第二轴线l2，不以此为限。
81.参阅图8，是本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的一个第一变化例，差异处在于：所述第一旋转腔41于所述第一轴线l1上仅具有所述后开口411(不具有所述前开口412)，所述第二旋转腔42于所述第二轴线l2上仅具有所述后开口421(不具有所述前开口422)，所述真空制程腔3的其中的两个分别沿所述第一、第二轴线l1、l2衔接在所述第一、第二旋转腔41、42的所述后开口411、412。于本变化例中，所述真空制程腔3可以分别是所述清洁腔体33及所述第一镀膜腔体34，也可以分别是所述第一镀膜腔体34及所述第二镀膜腔体35，不以此为限。
82.参阅图9，是本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的一个第二变化例，其类似于所述第一变化例，差异处在于：所述第一旋转腔41及所述第二旋转腔42间省略不设置所述中继腔43，而直接相连接。
83.参阅图10，是本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的一个第三变化例，差异处在于：所述第一旋转腔41的前开口412不位于所述第一轴线l1上，及所述第二旋转腔42的前开口422不位于所述第二轴线l2上。较佳的，所述第一旋转腔41的前开口412、所述第一旋转腔41的侧开口413、所述第二旋转腔42的前开口422，及所述第二旋转腔42的侧开口423是沿一个第四轴线l4共线。因此能达到弹性配置的优点。
84.参阅图11，是本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的一个第四变化例，其类似于所述第三变化例，差异处在于：将两个所述第三变化例结合，并共用一个位于其中间的真空制程腔3。
85.参阅图12，是本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的一个第五变化例，其类似于所述第三变化例，差异处在于：所述第一旋转腔41还具有一个位于所述第一轴线l1上的外开口417，所述第二旋转腔42还具有一个位于所述第二轴线l2上的外开口427。所述第一旋转腔41的旋转单元414还能以所述头端415朝向所述外开口417，及以所述尾端416朝向所述外开口417。所述第二旋转腔42的旋转单元424还能以所述头端425朝向所述外开口427，及以所述尾端426朝向所述外开口427。
86.参阅图13，是本实用新型旋转移载式立式镀膜设备的一个第六变化例，差异处在于：
87.待镀物9的数量至少为两个，所述承载装置2包括至少两个直立设置且适用于承载相应的待镀物9的载具21。
88.所述第一旋转腔41的旋转单元414能同时容置及驱动所述载具21及所述待镀物9。所述第一旋转腔41的后开口411及前开口412分别连接两个真空制程腔3，每一个真空制程腔3容置相应的载具21及待镀物9。
89.所述第二旋转腔42的旋转单元424能同时容置及驱动所述载具21及所述待镀物9。所述第二旋转腔42的后开口421及前开口422分别连接两个真空制程腔3，每一个真空制程腔3容置相应的载具21及待镀物9。
90.举例说明：连接于所述第一旋转腔41的后开口411的两个真空制程腔3为除气腔体32，连接于所述前开口412的两个真空制程腔3为清洁腔体33。连接于所述第二旋转腔42的后开口421的两个真空制程腔3为第二镀膜腔体35，连接于所述前开口422的两个真空制程腔3为第一镀膜腔体34，因此能同时针对两个载具21及待镀物9进行容置、输送、除气、清洁，及镀膜加工，达到倍增产能的功效。惟配置方式不以此为限。
91.于本变化例的其他实施态样中(图未示)，所述第一旋转腔41的后开口411及前开口412也能仅分别连接一个真空制程腔3，所述第二旋转腔42的后开口421及前开口422也能仅分别连接一个真空制程腔3，此时，每一个真空制程腔3能同时容置两个载具21及待镀物9，不以此为限。
92.参阅图4、图14，本实用新型用于双面多层膜的镀膜方法的第一实施例，包含下列步骤：
93.步骤81：输送所述待镀物至其中一个所述真空制程腔3，所述其中一个真空制程腔3连接所述第一旋转腔41。
94.步骤82：于所述其中一个真空制程腔3内对所述待镀物9的其中一个面进行除气、清洁及溅镀镀膜的其中一种加工。
95.步骤83：将所述待镀物9输送至所述第一旋转腔41，并旋转180度后输送回所述其中一个真空制程腔3。
96.步骤84：对所述待镀物9的其中另一个面进行除气、清洁及溅镀镀膜的其中一种加工(相同于步骤82的加工)。
97.步骤85：将所述待镀物9输送至所述第一旋转腔41，且旋转所述待镀物9后，将所述待镀物9自所述侧开口413移出所述第一旋转腔41。
98.参阅图4及图15，本实用新型用于双面多层膜的镀膜方法的第二实施例，包含下列步骤：
99.步骤91：将所述待镀物9自所述第二旋转腔42的侧开口423输送进入所述第二旋转腔42，所述第二旋转腔42的后开口421连接于其中另一个真空制程腔3。本第二实施例中的待镀物9可以未经处理直接经由侧开口输入，或者是接续上述步骤85接收从第一旋转腔41的侧开口移出的待镀物9。步骤92：所述第二旋转腔42旋转所述待镀物9，并使其自所述后开口421输送至所述其中另一个真空制程腔3，并于所述其中另一个真空制程腔3内对所述待镀物9的其中一个面进行除气、清洁及溅镀镀膜的其中一种加工。
100.步骤93：将所述待镀物9自所述其中另一个真空制程腔3输送至所述第二旋转腔42，并于所述第二旋转腔42将所述待镀物9旋转180度后，将所述待镀物9自所述第二旋转腔42输送回所述其中另一个真空制程腔3。
101.步骤94：于所述其中另一个真空制程腔3内对所述待镀物9的其中另一个面进行相同于步骤92的加工。
102.步骤95(步骤86)：将所述待镀物9移入又另一个真空制程腔3。
103.其中，步骤95(步骤86)对于步骤81至步骤85而言，所述又另一个真空制程腔3可以是所述清洁腔体33、所述第一镀膜腔体34、所述第二旋转腔42、所述第二镀膜腔体35、所述缓冲腔体36，及所述卸载腔体37的其中一个；对于步骤91至步骤94而言，所述又另一个真空制程腔3可以是所述第一镀膜腔体34、所述第二镀膜腔体35、所述缓冲腔体36，及所述卸载腔体37的其中一个，但不以此为限。
104.经由以上的说明，可将前述实施例的优点归纳如下：
105.一、本实用新型通过设置所述旋转装置4，使得所述清洁腔体33能对所述待镀物9的相反两面进行清洁，及所述第一镀膜腔体34及所述第二镀膜腔体35能对所述待镀物9的相反两面进行镀膜，可以减少真空制程腔3的数量，而由于真空制程腔3须消耗大量的能源
来维持真空度，通过减少真空制程腔3的数量能同时降低能源消耗，而达到节能减碳及降低营运成本的功效。此外，相较于现有镀膜设备必须设置多个真空镀膜腔以达到双面镀膜的目的，一旦仅需单面镀膜时，另一侧(无须被镀膜的一侧)的真空镀膜腔将无效用。而当本实施例适用于单面镀膜时，将不会产生无效的第一镀膜腔体34或第二镀膜腔体35，达到提高生产灵活性的优点。
106.二、所述旋转装置4连接的所述真空制程腔3皆可共用所述第一旋转腔41及所述第二旋转腔42，所以可减少设置真空腔的数量，进一步减少占地面积，因此能提高无尘室的使用坪效。
107.三、通过沿所述第一轴线l1及所述第二轴线l2排列的所述真空制程腔3、所述旋转装置4，及所述回流装置5，可避免设备在所述第一轴线l1及所述第二轴线l2的延伸方向上的长度过长，达到更易于弹性安装的优点。
108.四、通过所述承载装置2的载具21的移动路径在一个水平面上，使得设备的高度得以下降，避免设备受到厂房高度限制，及避免因设备高度较高而导致维护困难，达到易于设置及维修保养的功效。
109.五、通过所述装载腔体31及所述卸载腔体37相邻，使得所述承载装置2回流的路程缩短，除了能减少本实用新型于实际运转时所需的承载装置2的载具21的数量，减少设备的建置成本之外，也能减少因回流而产生的能源消耗，及零配件因耗损或保养而产生的维护成本。此外，回流路程缩短也能有效避免承载装置2的载具21因长时间暴露在大气环境下而吸附过多的水分子，降低除气所需的时间及能源消耗，达到节能减碳的优点。
110.综上所述，本实用新型旋转移载式立式镀膜设备确实能达成本实用新型的目的。