结晶器液位辅助校正装置的制作方法

1.本实用新型涉及炼钢技术领域，尤其涉及一种结晶器液位辅助校正装置。


背景技术：

2.炼钢厂连铸生产岗位生产过程中自动化程度较高，为了结晶器液面稳定控制，连铸工序需要通过加装结晶器液位自动控制系统实现。受结晶器使用寿命限制，停机更换结晶器后，液位自动控制系统无法正常检测新更换结晶器的液位情况，需要重新校正结晶器液位，结晶器液位校正主要还是校正结晶器液面液位上限和液位下限，但是由于校正方式的不同，导致校正精度存在偏差。


技术实现要素：

3.有鉴于此，本实用新型提供一种结晶器液位辅助校正装置，主要目的是提供一种快速辅助校正结晶器液位上、下限的设备，减小液位上、下限校正的偏差值。
4.为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：
5.本实用新型提供了一种结晶器液位辅助校正装置，该装置包括：旋转支架和测量部；
6.所述旋转支架包括左三角板、右三角板、支撑轴和多个支撑杆，所述支撑轴和多个所述支撑杆水平设置，所述左三角板和所述右三角板相对设置，所述支撑轴的相对端分别连接于所述左三角板的顶点和所述右三角板的顶点，所述顶点所在的三角板高线为第一高线，每一个所述支撑杆的相对端分别连接于所述左三角板和所述右三角板，多个所述支撑杆均位于所述第一高线的同一侧；
7.所述测量部包括连杆和铸坯模型，所述连杆的一端转动连接于所述支撑轴，另一端连接于所述铸坯模型，所述铸坯模型放置于结晶器铜管内。
8.本实用新型的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
9.可选的，所述左三角板和所述右三角板分别呈正三角形。
10.可选的，与所述第一高线垂直的三角板底边为第一底边，多个所述支撑杆沿所述第一底边依次排列。
11.可选的，所述连杆的一端固定连接于轴承的外圈，所述轴承的内圈张紧于所述支撑轴的中心，所述轴承的外圈和三角板顶角边相切。
12.可选的，所述连杆的长度为240mm，所述左三角板的边长和所述右三角板的边长分别为185mm。
13.可选的，所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第一支撑杆位于所述第一底边的端点，所述第二支撑杆位于所述第一底边的中部。
14.借由上述技术方案，本实用新型至少具有下列优点：
15.当连铸工序停机更换结晶器后，人为手提支撑杆，将本装置的铸坯模型自结晶器的铜管上口下放，铸坯模型在结晶器铜管内向下移动，旋转支架的第一底边贴靠结晶器法
兰盘时，铸坯模型深入铜管内的深度为连杆的长度减去第一高线，这时铸坯模型在结晶器的高位，这时结晶器液位探测器探测到的铯源位置在结晶器液位自动控制系统中设定为液位上限，人为设定显示液位数值为100％。
16.然后，人为握持支撑杆，转动三角板，使三角板的顶角边贴靠结晶器法兰盘，连杆相对于三角板转动，连杆整体悬浮于结晶器铜管内，铸坯模型在结晶器铜管内继续下放至低位，这时结晶器液位探测器探测到的铯源位置在结晶器液位自动控制系统中设定为液位下限，人为设定显示液位数值为0％。
17.本装置结构简单、投资少，使校正完成的结晶器液位上、下限位置分别相对于结晶器法兰盘的距离保持不变，更换结晶器前、后的液位校正偏差小。
附图说明
18.图1为本实用新型实施例提供的一种结晶器液位辅助校正装置校正液位上限时的正视图；
19.图2为本实用新型实施例提供的一种结晶器液位辅助校正装置校正液位下限时的正视图；
20.图3为本实用新型实施例提供的一种结晶器液位辅助校正装置校正液位上限时的侧视图；
21.图4为本实用新型实施例提供的一种结晶器液位辅助校正装置校正液位下限时的侧视图；
22.图5为本实用新型实施例提供的一种结晶器液位辅助校正装置校正液位上限时的俯视图；
23.图6为本实用新型实施例提供的一种结晶器液位辅助校正装置校正液位下限时的俯视图。
24.说明书附图中的附图标记包括：左三角板1、右三角板2、支撑轴3、第一高线4、连杆5、铸坯模型6、铜管7、法兰盘8、轴承9、第一支撑杆10、第二支撑杆11、结晶器液位探测器12、铯源13。
具体实施方式
25.为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型申请的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。
26.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
27.如图1至6所示，本实用新型的一个实施例提供的一种结晶器液位辅助校正装置，其包括：旋转支架和测量部；
28.所述旋转支架包括左三角板1、右三角板2、支撑轴3和多个支撑杆，所述支撑轴3和多个所述支撑杆水平设置，所述左三角板1和所述右三角板2相对设置，所述支撑轴3的相对端分别连接于所述左三角板1的顶点和所述右三角板2的顶点，所述顶点所在的三角板高线为第一高线4，每一个所述支撑杆的相对端分别连接于所述左三角板1和所述右三角板2，多
个所述支撑杆均位于所述第一高线4的同一侧；
29.所述测量部包括连杆5和铸坯模型6，所述连杆5的一端转动连接于所述支撑轴3，另一端连接于所述铸坯模型6，所述铸坯模型6放置于结晶器铜管7内。
30.一种结晶器液位辅助校正装置工作过程如下:
31.当连铸工序停机更换结晶器后，人为手提支撑杆，将本装置的铸坯模型6自结晶器的铜管7上口下放，铸坯模型6在结晶器铜管7内向下移动，旋转支架的第一底边贴靠结晶器法兰盘8时，铸坯模型6深入铜管7内的深度为连杆5的长度减去第一高线4，这时铸坯模型6在结晶器的高位，这时结晶器液位探测器12探测到的铯源13位置在结晶器液位自动控制系统中设定为液位上限，人为设定显示液位数值为100％。
32.然后，人为手提支撑杆，转动三角板，使三角板的顶角边贴靠结晶器法兰盘8，连杆5相对于三角板转动，连杆5整体悬浮于结晶器铜管7内，铸坯模型6在结晶器铜管7内继续下放至低位，这时结晶器液位探测器12探测到的铯源13位置在结晶器液位自动控制系统中设定为液位下限，人为设定显示液位数值为0％。
33.在本实用新型的技术方案中，本装置结构简单、投资少，使校正完成的结晶器液位上、下限位置分别相对于结晶器法兰盘8的距离保持不变，更换结晶器前、后的液位校正偏差小；而且在液位校正过程中，操作人员只需要翻转三角板，就可以实现铸坯模型在结晶器铜管内上、下限位置的改变，不需要过多的人为判断，操作简便快捷。
34.具体的,结晶器铜管7的截面呈方形，其尺寸略大于铸坯模型6，当铸坯模型6在结晶器铜管7内时，能较完整地拦截铯源13射线，有效减弱结晶器液位探测器12所探测到的铯源13射线强度。
35.具体的，左三角板1和右三角板2分别竖直设置，彼此平行，支撑轴3的相对端和多个支撑杆的相对端分别焊接于左三角板1和右三角板2。
36.具体的，多个支撑杆均位于第一高线4的同一侧，当校正结晶器的液位上限时，连杆5沿第一高线4自然下垂，连杆5不会和多个支撑杆相碰撞，保证校正的准确性。
37.具体的，在结晶器液位自动控制系统中设定液位下限的显示液位数值为0％，设定液位上限的显示数值为100％，结晶器液位自动控制系统会根据设定数值做线性分析，将此区间内的液位位置按照0％至100％平均分配。
38.如图1至图4所示，在具体实施方式中，所述左三角板1和所述右三角板2分别呈正三角形。
39.在本实施方式中，具体的，左三角板1和右三角板2分别呈正三角形，第一高线4即为三角板的角平分线，在使用本装置时，增加了本装置的稳定性。
40.在具体实施方式中，与所述第一高线4垂直的三角板底边为第一底边，多个所述支撑杆沿所述第一底边依次排列。
41.在本实施方式中，具体的，多个支撑杆均位于第一高线4的同侧，多个支撑杆沿第一底边依次排列，多个支撑杆与支撑轴3的距离均较远，使得左三角板1和右三角板2之间的支撑结构较稳定。
42.如图1至图6所示，在具体实施方式中，所述连杆5的一端固定连接于轴承9的外圈，所述轴承9的内圈张紧于所述支撑轴3的中心，所述轴承9的外圈和三角板顶角边相切。
43.在本实施方式中，具体的，轴承9的外圈和三角板顶角边相切，当校正结晶器液位
下限时，三角板顶角边贴合于结晶器法兰盘8，轴承9外圈边缘和结晶器法兰盘8处于同一平面，连杆5整体位于结晶器铜管7内，从而使结晶器的液位下限准确标定为铜管7上端管口以下连杆5长度。
44.在具体实施方式中，所述连杆5的长度为240mm，所述左三角板1的边长和所述右三角板2的边长分别为185mm。
45.在本实施方式中，具体的，结晶器法兰盘8焊接于铜管7上端管口，结晶器法兰盘8的厚度为40mm，当校正结晶器液位下限时，200mm的连杆5位于结晶器铜管7内，200mm以下的铜管7区域被铸坯模型6阻挡，结晶器液位探测器12所能探测到的铯源13射线强度下降，从而便于准确定位液位下限为铜管7管口以下200mm；当校正结晶器液位上限时，(240-185*sin60
°‑
40)mm的连杆5位于结晶器铜管7内，从而便于准确定位液位下限为铜管7管口以下(240-185*sin60
°‑
40)mm。
46.如图1至图6所示，在具体实施方式中，所述支撑杆包括第一支撑杆10和第二支撑杆11，所述第一支撑杆10位于所述第一底边的端点，所述第二支撑杆11位于所述第一底边的中部。
47.在本实施方式中，具体的，第一支撑杆10、第二支撑杆11和支撑轴3较大程度的散开，为左三角板1和右三角板2的平行位置提供稳定的支撑，同时第一支撑杆10和第二支撑杆11也不会阻碍连杆5的转动，保证结晶器液位校正的正常进行。
48.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。