一种往返式真空镀膜装置的制作方法

本技术涉及真空镀膜，尤其涉及一种往返式真空镀膜装置。

背景技术：

1、现有的连续真空镀膜装置是在一个真空镀膜室里通过挡板隔离并利用不同方式来镀不同的膜层，例如在一个可用阴极电弧离子镀膜以及不同材料的磁控溅射等方式进行镀膜的多功能连续镀膜装置中，在不做阴极电弧离子镀时，可做磁控溅射镀膜。在做阴极电弧离子镀时，磁控溅射靶要隔离防护，否则很容易靶材受到污染，所以操作繁琐，且即使挡板把磁控溅射靶保护起来也很难做到靶材不受到任何污染，因此镀膜质量很难保证。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于针对现有真空镀膜装置存在的上述问题，提供一种能大大提高镀膜效率、并且保证镀膜质量的一种往返式真空镀膜装置。

2、为了解决上述问题，本实用新型提供的一种往返式真空镀膜装置如下：

3、一种往返式真空镀膜装置，包括真空室、以及用于承载和传输工件的转架传输机构；所述真空室包括多个腔室，所述多个腔室为顺序相连的进料室、加热室、清洗室、过渡室、镀膜室、冷却室、出料室，所述相邻的腔室之间通过真空挡板阀相连，在每个腔室的室壁上安装有分子泵；所述转架传输机构包括轨道、转架驱动、光电检测装置、链条、限位装置、夹具板、门。

4、进一步地，所述镀膜室设有一至多个，在每个所述镀膜室之后均设有一个或多个过渡室，所述多个过渡室由真空挡板阀连接。

5、进一步地，所述清洗室内设有一个或多个离子源。

6、进一步地，所述轨道，在所述每个腔室内的传输方向上设有一组链轮和一组传动轴，安装所述传动轴的固定板固定在每个腔室的室壁上，所述夹具板载于所述传动轴上，所述链轮与链轮之间通过所述链条啮合；所述转架驱动，设有联轴器、固定板和驱动电机；所述光电检测装置，设有检测固定座、光电开关、玻璃、屏蔽罩；所述限位装置，设有固定块、导向块、轴承；所述夹具板，设有固定板、金属框架；在所述进料室的前端和所述出料室的后端设有所述门，用于工件进出；所述门设有铰链、压板及密封胶圈。

7、进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一个转架驱动固定孔。

8、进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一至多个光电检测装置。

9、进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一至多个限位装置。

10、本实用新型的技术效果在于：本实用新型中的多个真空室及镀膜室是独立并通过真空挡板阀相连的，可根据工件产品的需要灵活设置镀膜室的个数及不同靶材和不同镀膜方式的镀膜室，以及通过调整转架运转方式可实现依次成膜方式或镀膜室往返式多次成膜方式，从而可以选择最佳方式进行镀膜。本实用新型结构设计合理，生产功效高，能够实现工件上第一层、第二层或多层复合膜的连续制备，尤其对于两面均需镀膜的工件，镀膜效率更是得到大幅度提高。

技术特征：

1.一种往返式真空镀膜装置，其特征在于，包括真空室、以及用于承载和传输工件的转架传输机构；所述真空室包括多个腔室，所述多个腔室为顺序相连的进料室、加热室、清洗室、过渡室、镀膜室、冷却室、出料室，所述相邻的腔室之间通过真空挡板阀相连，在每个腔室的室壁上安装有分子泵；所述转架传输机构包括轨道、转架驱动、光电检测装置、链条、限位装置、夹具板、门。

2.根据权利要求1所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,所述镀膜室设有一个或多个，在每个所述镀膜室之后均设有一个或多个过渡室，所述多个过渡室由真空挡板阀连接。

3.根据权利要求1所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,所述清洗室内设有一个或多个离子源。

4.根据权利要求1所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,所述轨道，在所述每个腔室内的传输方向上设有一组链轮和一组传动轴，安装所述传动轴的第一固定板固定在每个腔室的室壁上，所述夹具板载于所述传动轴上，所述链轮与链轮之间通过所述链条啮合；所述转架驱动，设有联轴器、第二固定板和驱动电机；所述光电检测装置，设有检测固定座、光电开关、玻璃、屏蔽罩；所述限位装置，设有固定块、导向块、轴承；所述夹具板，设有固定板、金属框架；在所述进料室的前端和所述出料室的后端设有所述门，用于工件进出；所述门设有铰链、压板及密封胶圈。

5.根据权利要求1或2所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,每个所述腔室的室壁上设有一个转架驱动固定孔。

6.根据权利要求1或2所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,每个所述腔室的室壁上设有一至多个光电检测装置。

7.根据权利要求1或2所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,每个所述腔室的室壁上设有一至多个限位装置。

技术总结
本技术涉及一种往返式真空镀膜装置，该装置包括真空室、以及用于承载和传输工件的转架传输机构；所述真空室包括多个腔室，所述多个腔室为顺序相连的进料室、加热室、清洗室、过渡室、镀膜室、冷却室、出料室，所述相邻的腔室之间通过真空挡板阀相连，在每个腔室的室壁上安装有分子泵。本技术中的多个腔室及镀膜室是独立并通过真空挡板阀相连的，可根据工件产品的需要灵活设置镀膜室的个数及不同靶材和不同镀膜方式的镀膜室，以及通过调整转架运转方式可实现依次成膜方式或往返式多次成膜方式，从而可以选择最佳方式进行镀膜，尤其对于两面均需镀膜的工件，镀膜效率更是得到大幅度提高。

技术研发人员：刘阳,刘彬,王磊磊
受保护的技术使用者：北京实力源科技开发有限责任公司
技术研发日：20221122
技术公布日：2024/1/15