一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置的制作方法

本技术涉及真空连续卷绕镀膜，具体为一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置。

背景技术：

1、真空镀膜技术是表面工程技术领域的重要组成部分。随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、led、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的电学膜;数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜;充分展示和应用各种光学特性的光学膜;计算机显示用的感光膜;tft、pdp平面显示器上的导电膜和增透膜;建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜;包装领域用防护膜、阻隔膜;装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜;工、模具表面上应用的耐磨超硬膜;纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等。

2、在真空连续卷绕镀膜机中，由于蒸发系统为高温，基膜通过蒸发系统后存在一定的温度，基膜再通过水冷辊进行降温，基膜的冷热收缩，同时由于张力辊会对基膜形成一定的张力，所以在张力辊前后的基膜上容易形成褶皱，严重时造成镀膜产品的斜纹、发白等现象，非常影响最终产品的质量。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，消除真空连续卷绕镀膜机中基膜的褶皱，保证镀膜产品的最终产品质量。

2、为解决上述技术问题，本实用新型一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置包括有蒸发系统、放卷辊、展平辊、过度辊、水冷辊、张力辊、收卷辊和基膜，基膜缠绕在放卷辊上，放卷辊上的基膜通过依次通过两个展平辊和一个过度辊后从蒸发系统上方通过，通过蒸发系统后的基膜依次通过水冷辊、一个过度辊、张力辊、两个过度辊、一个展平辊和两个过度辊，最终基膜卷绕在收卷辊上，包括有展膜装置，展膜装置包括有吹扫展膜装置，沿基膜的运动方向吹扫展膜装置设在张力辊的进膜前侧，吹扫展膜装置包括有吹扫管，吹扫管长度方向与基膜宽度方向一致，吹扫管设在基膜下方，吹扫管两端固定连接在镀膜机室体上，吹扫管上设有多个吹气孔，吹气孔朝向基膜。

3、本实用新型通过气体吹扫对基膜进行展膜以消除褶皱，吹气孔朝向基膜进行吹起实现对基膜的展膜，同时并不会影响镀膜机的工况真空度。

4、进一步的，所述的吹扫管包括有两个端部盲板，两个端部盲板分别密封焊接在吹扫管的两端，吹扫管内部密封焊接有两个分隔盲板，两个分隔盲板和两个端部盲板将吹扫管内部均匀分为第一管部、第二管部和第三管部，第一管部、第二管部和第三管部上均设有多个吹气孔，沿吹扫管长度方向多个吹气孔在第一管部、第二管部和第三管部上均线性均布，所有吹气孔均朝向基膜。

5、第一管部、第二管部和第三管部的设置使吹扫管形成三个吹扫区域，三个吹扫区域针能够对基膜的不同位置进行不同出气量的吹扫，如三个吹扫区域分别吹扫基膜的中部和两侧。

6、进一步的，所述的第一管部、第二管部和第三管部上均设有进气孔，三个进气孔内均密封焊接有进气管，三个进气管远离进气孔的一端均连接有质量流量计。

7、质量流量计的设置实现了对第一管部1801、第二管部1802和第三管部1803的进气量和通断的控制，从而实现对基膜不同褶皱情况和不同区域的吹扫。

8、进一步的，所述的三个质量流量计远离进气孔的一端分别连接有分气管ⅰ、分气管ⅱ和分气管ⅲ，分气管ⅰ、分气管ⅱ和分气管ⅲ远离三个质量流量计的一端连接有四通，分气管ⅰ、分气管ⅱ和分气管ⅲ分别连接在四通的三个接口上，四通的另一个接口上连接有总进气管。

9、总进气管用于想三个质量流量计供气，四通的设置用于气体的分配。

10、进一步的，所述的总进气管上连接有电磁阀。

11、电磁阀的设置用于控制总进气管的通断。

12、进一步的，所述的吹扫展膜装置设有两个，沿基膜的运动方向两个吹扫展膜装置分别设在张力辊的进膜前侧和出膜后侧。

13、一般情况在基膜的褶皱主要发生在张力辊的进膜前侧或出膜后侧，为了进一步消除基膜的褶皱，在实际使用时，可根据镀膜的实际情况灵活运用，在张力辊的进膜前侧和出膜后侧均设置吹扫展膜装置进一步提高展膜效果。

14、本实用新型的另一种技术方案包括有展膜装置，展膜装置包括有橡胶弯辊，沿基膜的运动方向橡胶弯辊设在张力辊的进膜前侧，橡胶弯辊两端转动连接在镀膜机室体上，橡胶弯辊中心的高度橡胶弯辊两侧，基膜通过橡胶弯辊，基膜与橡胶弯辊形成包角。本技术方案也不再利用气体吹扫对基膜进行展膜，而是在张力辊的进膜前侧设置一个橡胶弯辊，通过橡胶弯辊与基膜的接触实现对基膜的展开，基膜与橡胶弯辊的包角主要为保证展膜效果。

15、本实用新型的有益效果是：包括有展膜装置，展膜装置包括有吹扫展膜装置，沿基膜的运动方向吹扫展膜装置设在张力辊的进膜前侧，吹扫展膜装置包括有吹扫管，吹扫管长度方向与基膜宽度方向一致，吹扫管设在基膜下方，吹扫管两端固定连接在镀膜机室体上，吹扫管上设有多个吹气孔，吹气孔朝向基膜，本实用新型主要通过气体吹扫对基膜进行展膜以消除褶皱，设置多个吹扫区域，实现对基膜不同褶皱情况和不同区域的吹扫，使用灵活可靠，本实用新型的设置不会影响镀膜机整体结构，需要从传动系统进行复杂的改变，制造简单，效果明显，有效提高镀膜产品的最终产品质量，具有推广价值。

技术特征：

1.一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，包括有蒸发系统（1）、放卷辊（2）、展平辊（3）、过度辊（4）、水冷辊（5）、张力辊（7）、收卷辊（8）和基膜（9），基膜（9）缠绕在放卷辊（2）上，放卷辊（2）上的基膜（9）通过依次通过两个展平辊（3）和一个过度辊（4）后从蒸发系统（1）上方通过，通过蒸发系统（1）后的基膜（9）依次通过水冷辊（5）、一个过度辊（4）、张力辊（7）、两个过度辊（4）、一个展平辊（3）和两个过度辊（4），最终基膜（9）卷绕在收卷辊（8）上，其特征在于：包括有展膜装置，展膜装置包括有吹扫展膜装置（10），沿基膜（9）的运动方向吹扫展膜装置（10）设在张力辊（7）的进膜前侧，吹扫展膜装置（10）包括有吹扫管（18），吹扫管（18）长度方向与基膜（9）宽度方向一致，吹扫管（18）设在基膜（9）下方，吹扫管（18）两端固定连接在镀膜机室体上，吹扫管（18）上设有多个吹气孔（1806），吹气孔（1806）朝向基膜（9）。

2.根据权利要求1所述的一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，其特征在于：所述的吹扫管（18）包括有两个端部盲板（1804），两个端部盲板（1804）分别密封焊接在吹扫管（18）的两端，吹扫管（18）内部密封焊接有两个分隔盲板（1805），两个分隔盲板（1805）和两个端部盲板（1804）将吹扫管（18）内部均匀分为第一管部（1801）、第二管部（1802）和第三管部（1803），第一管部（1801）、第二管部（1802）和第三管部（1803）上均设有多个吹气孔（1806），沿吹扫管（18）长度方向多个吹气孔（1806）在第一管部（1801）、第二管部（1802）和第三管部（1803）上均线性均布，所有吹气孔（1806）均朝向基膜（9）。

3.根据权利要求2所述的一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，其特征在于：所述的第一管部（1801）、第二管部（1802）和第三管部（1803）上均设有进气孔（1807），三个进气孔（1807）内均密封焊接有进气管（1808），三个进气管（1808）远离进气孔（1807）的一端均连接有质量流量计（11）。

4.根据权利要求3所述的一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，其特征在于：所述的三个质量流量计（11）远离进气孔（1807）的一端分别连接有分气管ⅰ（12）、分气管ⅱ（13）和分气管ⅲ（14），分气管ⅰ（12）、分气管ⅱ（13）和分气管ⅲ（14）远离三个质量流量计（11）的一端连接有四通（15），分气管ⅰ（12）、分气管ⅱ（13）和分气管ⅲ（14）分别连接在四通（15）的三个接口上，四通（15）的另一个接口上连接有总进气管（16）。

5.根据权利要求4所述的一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，其特征在于：所述的总进气管（16）上连接有电磁阀（17）。

6.根据权利要求5所述的一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，其特征在于：所述的吹扫展膜装置（10）设有两个，沿基膜（9）的运动方向两个吹扫展膜装置（10）分别设在张力辊（7）的进膜前侧和出膜后侧。

7.一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，包括有蒸发系统（1）、放卷辊（2）、展平辊（3）、过度辊（4）、水冷辊（5）、张力辊（7）、收卷辊（8）和基膜（9），基膜（9）缠绕在放卷辊（2）上，放卷辊（2）上的基膜（9）通过依次通过两个展平辊（3）和一个过度辊（4）后从蒸发系统（1）上方通过，通过蒸发系统（1）后的基膜（9）依次通过水冷辊（5）、一个过度辊（4）、张力辊（7）、两个过度辊（4）、一个展平辊（3）和两个过度辊（4），最终基膜（9）卷绕在收卷辊（8）上，其特征在于：包括有展膜装置，展膜装置包括有橡胶弯辊（6），沿基膜（9）的运动方向橡胶弯辊（6）设在张力辊（7）的进膜前侧，橡胶弯辊（6）两端转动连接在镀膜机室体上，橡胶弯辊（6）中心的高度橡胶弯辊（6）两侧，基膜（9）通过橡胶弯辊（6），基膜（9）与橡胶弯辊（6）形成包角。

技术总结
本技术涉及真空连续卷绕镀膜技术领域，具体为一种真空连续卷绕镀膜机展膜装置，包括有展膜装置，展膜装置包括有吹扫展膜装置，沿基膜的运动方向吹扫展膜装置设在张力辊的进膜前侧，吹扫展膜装置包括有吹扫管，吹扫管长度方向与基膜宽度方向一致，吹扫管设在基膜下方，吹扫管两端固定连接在镀膜机室体上，吹扫管上设有多个吹气孔，吹气孔朝向基膜，本技术主要通过气体吹扫对基膜进行展膜以消除褶皱，设置多个吹扫区域，实现对基膜不同褶皱情况和不同区域的吹扫，使用灵活可靠，本技术的设置不会影响镀膜机整体结构，需要从传动系统进行复杂的改变，制造简单，效果明显，有效提高镀膜产品的最终产品质量，具有推广价值。

技术研发人员：李雪峰,林潮平,刘强
受保护的技术使用者：兰州真空设备有限责任公司
技术研发日：20221205
技术公布日：2024/1/12