一种结构陶瓷的抛光方法与流程

本发明涉及抛光工艺，尤其涉及一种结构陶瓷的抛光方法。

背景技术：

1、结构陶瓷属于一种缝隙均匀的陶瓷，具有优越的强度、硬度、绝缘性、热传导、耐高温、耐氧化、耐腐蚀、耐磨耗、高温强度等特点，结构陶瓷的加工方法中，抛光是重要工序，抛光通常包括粗抛、中抛、细抛和精抛等步骤，现有技术中，无论是粗抛、中抛、细抛还是精抛的步骤中，都是加入特定的单一粒径的磨球，使磨球与结构陶瓷表面撞击、摩擦接触，达到抛光目的，但是，磨球使用一段时间后，其粒径会逐渐减小，无法满足特定的粒径需求，特别是传统的细抛或精抛工艺中，需要大量单一粒径高达12mm的磨球，若磨球磨损导致粒径变小，则需要丢弃，更换新的磨球，因此产生高额的成本，如何通过结构陶瓷抛光方法的改进，在保证抛光效果不下降的情况下，降低用料成本是亟需解决的技术问题。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种结构陶瓷的抛光方法，在保证抛光效果不下降的情况下，降低用料成本。

2、为达成上述目的，本发明提供一种结构陶瓷的抛光方法，包括以下步骤：

3、步骤1：首先将多种粒径的氧化铝磨球按一定重量比混合，置于第一罐状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入钻石粉，最后将结构陶瓷放入第一罐状滚筒内，转动第一罐状滚筒，对结构陶瓷进行粗抛；

4、步骤2：将粗抛后的第一罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，所述氧化铝磨球的粒径对应减小，再按一定比例加入步骤1中最大粒径的氧化铝磨球进行混合，置于第二灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入金刚砂，最后将粗抛后的结构陶瓷放入第二罐状滚筒内，转动第二罐状滚筒，对结构陶瓷进行中抛；

5、步骤3：将中抛后的第二罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，将过滤后的所有氧化铝磨球置于第三灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入氧化锆粉，最后将中抛后的结构陶瓷放入第三罐状滚筒内，转动第三罐状滚筒，对结构陶瓷进行细抛；

6、步骤4：将细抛后的第三罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，再按一定比例加入步骤3中最大粒径的氧化铝磨球进行混合，置于第四灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液平齐于磨球面，再加入氧化锆粉，最后将细抛后的结构陶瓷放入第四罐状滚筒内，转动第四罐状滚筒，对结构陶瓷进行精抛；

7、步骤5：将精抛后的结构陶瓷使用蜡固定在研磨治具盘上，持续滴入二氧化硅研磨液，依次进行粗扫光研磨、中扫光研磨、细扫光研磨；

8、步骤6：使用超声波清洗机将附着于结构陶瓷表面的蜡洗净，再用酒精擦洗后，得到抛光完成的结构陶瓷。

9、进一步，步骤1中的氧化铝磨球包括20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球，并按1.4～1.6:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:0.7～0.8的重量比混合；

10、步骤2中，所述第一罐状滚筒过滤出重量比为1.4～1.6:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球，再加入一定量的20号氧化铝磨球进行混合，使第二罐状滚筒内的20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1；

11、步骤3中，所述第二罐状滚筒过滤出重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球；

12、步骤4中，所述第三罐状滚筒过滤出重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6的12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球，再加入一定量的15号氧化铝磨球进行混合，使第四罐状滚筒内的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球按照的重量比为0.7～0.8:0.9～1.1:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6。

13、进一步，所述20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球的粒径比为20:15:12:10:8:6:5:3。

14、进一步，所述20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球的粒径依次为20mm、15mm、12mm、10mm、8mm、6mm、5mm、3mm。

15、进一步，步骤1中加入的钻石粉的粒径为140～160目，所述钻石粉与最大粒径的氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:3000～3600；步骤2中加入的金刚砂粒的径为140～160目，所述金刚砂与最大粒径的氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:600～730；步骤3和步骤4中加入的氧化锆粉的粒径为1400～1600目，所述氧化锆粉与最大粒径的氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:180～220。

16、进一步，所述步骤5中，将精抛后的的结构陶瓷使用蜡固定在研磨治具上盘上后，使用粗磨砂皮，压重28～32kg，以35～45转/分钟速度，持续滴入二氧化硅研磨液，进行粗扫光研磨；再使用中磨砂皮，压重28～32kg，以35～45转/分钟速度，持续滴入二氧化硅研磨液，进行中扫光研磨；最后使用羊毛磨皮，压重23～27kg，以35～45转/分钟速度，持续滴入二氧化硅研磨液，进行细扫光研磨。

17、进一步，用于粗扫光研磨的二氧化硅研磨液是：二氧化硅配纯净水按1:200的重量比混合作为基础磨液，再添加粒径为850μm的铝粉，所述铝粉按3g/公斤磨液的配比加入，以及添加粒径为850μm的钻石粉，所述钻石粉按5g/公斤磨液的配比加入，最后用搅拌机搅拌充分以及搅拌均匀后用于扫光机的研磨滴液。

18、进一步，用于中扫光的二氧化硅研磨液是：二氧化硅配纯净水1:200的重量比混合作为基础磨液，再添加粒径为6000μm的铝粉，所述铝粉按3g/公斤磨液的配比加入，以及添加粒径为6000μm的钻石粉，所述钻石粉按5g/公斤磨液的配比加入，最后用搅拌机搅拌充分以及搅拌均匀后用于扫光机的研磨滴液。

19、进一步，用于细扫光研磨的二氧化硅研磨液是：二氧化硅配纯净水按1:200的重量比混合作为基础磨液，再添加粒径为12000μm的铝粉，所述铝粉按3g/公斤磨液的配比加入，最后用搅拌机搅拌充分以及搅拌均匀后用于扫光机的研磨滴液。

20、采用上述方案后，本发明的有益效果在于：

21、本发明将多种粒径的氧化铝磨球按一定的比例进行混合，再配合研磨液、钻石粉、金刚砂、氧化锆粉的辅助对结构陶瓷进行粗抛、中抛、细抛、精抛共四次抛光，保证了抛光效果；精抛后还对结构陶瓷进行了粗扫光研磨、中扫光研磨、细扫光研磨共三次扫光研磨，进一步提高抛光效果。本发明在进行粗抛后，所有的氧化铝磨球的粒径会减小，例如粒径为20mm的氧化铝磨球会减小为15mm的氧化铝磨球，粒径为15mm的氧化铝磨球会减小为粒径为12mm的氧化铝磨球，以此类推，每个氧化铝磨球的粒径都会相应的减小，而氧化铝磨球的粒径减小恰好可以满足更加精细的抛光需求，因此，在步骤2中过滤出的氧化铝磨球的最大粒径小于步骤1中的最大粒径，步骤2可直接继续使用过滤出的氧化铝磨球，由于中抛所需的氧化铝磨球的粒径较大，还需要加入一定量步骤1中最大粒径的氧化铝磨球进行混合，置入第二罐状滚筒来就可进行中抛；中抛后过滤出的所有氧化铝磨球的粒径也会减小，恰好满足细抛的需求，将过滤出的氧化铝磨球置入第三罐状滚筒就可进行细抛；细抛后过滤出的氧化铝磨球，再加入一定量步骤3中最大粒径的氧化铝磨球进行混合后，置入第四罐状滚筒就可进行精抛，本发明通过重复使用氧化铝磨球来大大降低用料成本，并且抛光效果不会下降。