一种真空镀氧化铝膜的均匀供气装置的制作方法

本发明涉及一种真空镀膜供气装置，尤其是真空镀氧化铝膜的均匀供气装置。

背景技术：

1、现有技术中在生产氧化铝膜时，通常是在真空的反应容器中通入氧气和铝蒸气进行反应得到氧化铝膜，即铝经过高温气化为铝蒸气并通入至反应容器中，并在反应容器中通入氧气。

2、目前氧气供气装置一般采用一根直径12毫米左右的圆管，在一条直线上等距离或等差距离打微小的孔，气体从一端输入或从两端同时输入，通过气体静压力使得气体在圆管里分布，然后通过微小的孔输出气体到反应环境中；这个方法存在气体分布均匀性差、气体输入量偏小时无法均匀气体，导致每个微小孔输出的气体质量不等、微小孔容易堵塞、清洁操作不方便等缺点，因此本发明目的在于提供真空镀氧化铝膜的均匀供气装置。

技术实现思路

1、本发明的目的是通过提出真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，以解决上述背景技术中提出的缺陷。

2、本发明采用的技术方案如下：

3、提供真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具和上模具，所述下模具上表面开设有凹槽，所述凹槽上表面开设有主腔体，所述上模具固定安装在凹槽内并对主腔体顶部进行密封，且所述上模具顶部贯穿开设有进气孔，所述下模具壳体顶部靠近凹槽边缘处开设有若干排气孔，若干所述排气孔内均设置有气压调节机构，所述气压调节机构用于调节排气孔内气体的动压，且所述凹槽侧壁开设有与排气孔连通的二级通道，还包括：

4、进气管路，所述进气管路安装在进气孔内，所述进气管路用于将气体输送至主腔体内；

5、输出管路，所述输出管路安装在排气孔内，且所述输出管路用于将气体均匀输出。

6、作为本发明的一种优选技术方案：所述排气孔底部呈锥形结构，且锥形结构底部贯穿开设有与二级通道连通的通孔，所述通孔孔径小于所述排气孔孔径，所述通孔孔径小于所述二级通道孔径。

7、作为本发明的一种优选技术方案：所述气压调节机构包括限位环和设置在限位环下方的阻尼膜片，其中，所述限位环螺纹安装在排气孔内，且所述限位环与锥形结构之间预留有缓冲间隙。

8、作为本发明的一种优选技术方案：所述阻尼膜片安装在缓冲间隙内，且所述阻尼膜片中心处贯穿开设有匀气孔。

9、作为本发明的一种优选技术方案：当所述上模具固定安装在凹槽内时，所述主腔体顶部呈密封状态，且所述进气孔与所述主腔体连通，所述进气孔位于所述主腔体顶部中心处。

10、作为本发明的一种优选技术方案：所述输出管路包括输气管，所述输气管一端设置有连接座，所述输气管另一端螺纹安装有扩散帽，且所述扩散帽呈竖直状态。

11、作为本发明的一种优选技术方案：所述连接座螺纹安装在排气孔内，所述输气管与连接座的管道孔径尺寸相同，且所述输出管路呈z字型结构。

12、作为本发明的一种优选技术方案：所述扩散帽孔径尺寸大于所述输气管孔径尺寸。

13、作为本发明的一种优选技术方案：所述下模具壳体一侧贯穿开设有与二级通道连通的泄压孔，所述泄压孔内安装有密封塞。

14、与现有技术相比，本发明的有益效果：

15、1、该真空镀氧化铝膜的均匀供气装置中，在主腔体的分布效能下，较均匀的气体通过二级通道进入排气孔，在排气孔内设置有阻尼膜片，针对不同浓度的氧气可以调节膜片的孔径来使得输出气体均匀化；同时，气体流过阻尼膜片的匀气孔，进入输出管路内气体的动压相对于主腔体增加了，同时增加了缓冲间隙内的气体静压，实现气体均匀输出。

16、2、该真空镀氧化铝膜的均匀供气装置中，扩散帽竖直安装在输气管上，由于气体分子是有重量的，因此，扩散帽采用竖直布置，由于气体的自我阻尼，保证只有足量的气体分子才会有相应的流出，同时，扩散帽孔径大于输气管孔径，气道由小变大是气体由动压转为静压，有利于出口气体扩散和反应，方便对管路进行清洁；同时，由若干个输出管路组成了批量输气管路，进而提高了气体输送的效率。

技术特征：

1.真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具（1）和上模具（2），其特征在于：所述下模具（1）上表面开设有凹槽（101），所述凹槽（101）上表面开设有主腔体（102），所述上模具（2）固定安装在凹槽（101）内并对主腔体（102）顶部进行密封，且所述上模具（2）顶部贯穿开设有进气孔（201），所述下模具（1）壳体顶部靠近凹槽（101）边缘处开设有若干排气孔（104），若干所述排气孔（104）内均设置有气压调节机构，所述气压调节机构用于调节排气孔（104）内气体的动压，且所述凹槽（101）侧壁开设有与排气孔（104）连通的二级通道（103），还包括：

2.根据权利要求1所述的真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，其特征在于：所述阻尼膜片（1042）安装在缓冲间隙内，且所述阻尼膜片（1042）中心处贯穿开设有匀气孔。

3.根据权利要求1所述的真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，其特征在于：当所述上模具（2）固定安装在凹槽（101）内时，所述主腔体（102）顶部呈密封状态，且所述进气孔（201）与所述主腔体（102）连通，所述进气孔（201）位于所述主腔体（102）顶部中心处。

4.根据权利要求1所述的真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，其特征在于：所述连接座（402）螺纹安装在排气孔（104）内，所述输气管（401）与连接座（402）的管道孔径尺寸相同，且所述输出管路（4）呈z字型结构。

5.根据权利要求1所述的真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，其特征在于：所述扩散帽（403）孔径尺寸大于所述输气管（401）孔径尺寸。

6.根据权利要求1所述的真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，其特征在于：所述下模具（1）壳体一侧贯穿开设有与二级通道（103）连通的泄压孔，所述泄压孔内安装有密封塞。

技术总结
本发明涉及一种真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具和上模具，下模具上表面开设有凹槽，凹槽上表面开设有主腔体，上模具固定安装在凹槽内并对主腔体顶部进行密封，且上模具顶部贯穿开设有进气孔，下模具壳体顶部靠近凹槽边缘处开设有若干排气孔，若干排气孔内均设置有气压调节机构，在主腔体的分布效能下，较均匀的气体通过二级通道进入排气孔，在排气孔内设置有阻尼膜片，针对不同浓度的氧气可以调节膜片的孔径来使得输出气体均匀化；同时，气体流过阻尼膜片的匀气孔，进入输出管路内气体的动压相对于主腔体增加了，同时增加了缓冲间隙内的气体静压，实现气体均匀输出性。

技术研发人员：李泽仁,周欢,占申国
受保护的技术使用者：上海宇泽机电设备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15