一种旋转抛光设备及其下盘组件和抛光方法与流程

文档序号:36090244发布日期:2023-11-18 08:39阅读:72来源:国知局
一种旋转抛光设备及其下盘组件和抛光方法与流程

本发明涉及3d/2d车载盖板玻璃抛光,尤其涉及一种旋转抛光设备及其下盘组件和抛光方法。


背景技术:

1、众所周知,抛光是盖板玻璃成型工艺中必不可少的一个重要生产环节,目前光学玻璃抛光时采用的都是机械切削的抛光方式。这种抛光方式是通过机械表面磨削,使用设备上下盘压力、转速,结合抛光液、毛刷与产品摩擦进行磨削来达到使玻璃表面平整,光滑通透的过程。

2、目前使用的磨皮毛刷有很好的柔韧性,受力均匀性较好,不易划伤产品。但是切削力一般,加工速度慢。另外在抛光3d玻璃的时候很容易产生抛光不均的现象,甚至有的地方会导致抛光厚度不均匀的问题。

3、随着人们对智能终端产品的外观审美以及性能要求提升,相关产品屏幕和后盖也从平面触屏逐渐向2.5d曲面、3d曲面过度;3d曲面玻璃具有很强的立体感,有的弧度很高,有的弧度低。这都对抛光工艺有了更大的要求和挑战。

4、在光学玻璃抛光领域,针对2d平面和3d曲面的产品,分为平面抛光工艺和曲面抛光工艺,曲面抛光的切削速率都很慢,且曲面工艺不适用叠抛,一台曲面抛光机同时加工的玻璃数量有限,而使用平面抛光机抛光曲面玻璃,又容易发生遇到抛光不到位,抛光不均匀的情况而导致厚度不均,影响良率。

5、基于此,现有技术仍然有待改进。


技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本发明实施例提出一种旋转抛光设备及其下盘组件和抛光方法,以解决现有技术的曲面抛光机加工玻璃效率较低的技术问题。

2、为解决上述技术问题,一方面,本发明一些实施例公开了一种旋转抛光设备的下盘组件,其用于低弧面和平面玻璃,包括公转下盘,摆动组件和底座,底座通过摆动组件安装在公转下盘上,使底座在公转下盘公转时在公转下盘上摆动。

3、一些实施例中,摆动组件包括自转小盘和偏心摆杆,其中,自转小盘为均匀地设置在公转下盘上的多个,并且自转小盘随公转下盘的转动而自转;

4、偏心摆杆的第一端可转动且偏心连接于自转小盘,偏心摆杆的第二端可转动地连接在底座的第一端,底座的第二端可转动地安装在公转下盘上,使自转小盘自转时,底座在偏心摆杆的带动下在预定范围内摆动。

5、一些实施例中,自转小盘上设置有小盘安装孔,小盘安装孔与自转小盘自转的旋转中心错开,偏心摆杆的第一端设置有第一长圆孔,小盘安装孔内固定有螺栓衬套,第一长圆孔可旋转地安装在小盘安装孔内的螺栓衬套上;和/或,

6、底座的第一端设置有底座安装孔,偏心摆杆的第二端设置有第二长圆孔,底座安装孔内固定有螺栓衬套,第二长圆孔可旋转地安装在底座安装孔内的螺栓衬套上。

7、一些实施例中,还包括驱动机构,驱动机构分别连接公转下盘和自转小盘,以驱动公转下盘绕公转下盘的中心进行公转,以及驱动自转小盘在公转下盘上绕自转小盘的旋转中心旋转。

8、一些实施例中,自转小盘与驱动机构通过齿轮组件连接。

9、一些实施例中,底座上安装有用于固定待抛光玻璃的抛光治具;

10、底座上设置有多个定位螺孔,抛光治具根据型号需要安装在预定的几个定位螺孔内。

11、一些实施例中,底座为去除会与公转下盘产生干涉的部分后的不规则形状;

12、优选地,底座的形状依据三维模拟摆动时的摆动幅度进行修正,并去除会产生干涉的部分。

13、一些实施例中,公转下盘上设置有多个干涉孔,干涉孔位于自转小盘的旋转中心和小盘安装孔下方,以使螺栓衬套的下端可部分地伸出自转小盘。

14、另一方面,本发明实施例还公开了一种旋转抛光设备,其包括前述的下盘组件。

15、此外,本发明的实施例还公开了一种采用前述的旋转抛光设备进行抛光的方法,底座上带动待抛光件在随着公转下盘公转的同时,在公转下盘上进行预定轨迹的摆动。

16、采用上述技术方案,本发明至少具有如下有益效果:

17、本发明提供的一种旋转抛光设备及其下盘组件和抛光方法,对旋转抛光的抛光设备进行改进,增加了一个可调式摆动装置,提高2d平面产品的抛光效率的同时为低弧面的3d产品的抛光提供除了曲面抛光机之外的另一种高效率的抛光方式和替代方式;通过摆动抛光,抛光面更大,有效避免抛光不均和厚度不均的不良问题;增加一个抛光方向,可以增加抛光效率,加速切削进度;适用低弧度的3d曲面抛光,节约抛光工艺的产能;对装配技改而言,节省了成本实现了更好的抛光性能。



技术特征:

1.一种旋转抛光设备的下盘组件,其特征在于,用于低弧面和平面玻璃,包括公转下盘(1),摆动组件和底座(4),所述底座(4)通过所述摆动组件安装在所述公转下盘(1)上,使所述底座(4)在公转下盘(1)公转时在公转下盘(1)上摆动。

2.根据权利要求1所述的下盘组件,其特征在于,所述摆动组件包括自转小盘(2)和偏心摆杆(3),其中,所述自转小盘(2)为均匀地设置在所述公转下盘(1)上的多个,并且所述自转小盘(2)随所述公转下盘(1)的转动而自转;

3.根据权利要求2所述的下盘组件,其特征在于,所述自转小盘(2)上设置有小盘安装孔,所述小盘安装孔与所述自转小盘(2)自转的旋转中心错开,所述偏心摆杆(3)的第一端设置有第一长圆孔(31),所述小盘安装孔内固定有螺栓衬套(33),所述第一长圆孔(31)可旋转地安装在所述小盘安装孔内的所述螺栓衬套(33)上;和/或,

4.根据权利要求2所述的下盘组件,其特征在于,还包括驱动机构,所述驱动机构分别连接所述公转下盘(1)和所述自转小盘(2),以驱动所述公转下盘(1)绕所述公转下盘(1)的中心进行公转,以及驱动所述自转小盘(2)在所述公转下盘(1)上绕所述自转小盘(2)的旋转中心旋转。

5.根据权利要求4所述的下盘组件,其特征在于,所述自转小盘(2)与所述驱动机构通过齿轮组件连接。

6.根据权利要求1所述的下盘组件,其特征在于,所述底座(4)上安装有用于固定待抛光玻璃的抛光治具(5);

7.根据权利要求1所述的下盘组件,其特征在于,所述底座(4)为去除会与公转下盘(1)产生干涉的部分后的不规则形状;

8.根据权利要求3所述的下盘组件,其特征在于,所述公转下盘(1)上设置有多个干涉孔(11),所述干涉孔(11)位于所述自转小盘(2)的旋转中心和所述小盘安装孔下方,以使所述螺栓衬套(33)的下端可部分地伸出所述自转小盘(2)。

9.一种旋转抛光设备,其特征在于,包括权利要求1-8任意一项所述的下盘组件。

10.一种采用权利要求9所述的旋转抛光设备进行抛光的方法,其特征在于,底座(4)带动待抛光件在随着公转下盘(1)公转的同时,在所述公转下盘(1)上进行预定轨迹的摆动。


技术总结
本发明公开了一种旋转抛光设备及其下盘组件和抛光方法,用于低弧面和平面玻璃,包括公转下盘(1),摆动组件和底座(4),所述底座(4)通过所述摆动组件安装在所述公转下盘(1)上,使所述底座(4)在公转下盘(1)公转时在公转下盘(1)上摆动。本发明提高2D平面产品的抛光效率的同时为低弧面的3D产品的抛光提供除了曲面抛光机之外的另一种高效率的抛光方式和替代方式;通过摆动抛光,抛光面更大,有效避免抛光不均和厚度不均的不良问题;增加一个抛光方向,可以增加抛光效率,加速切削进度;节约抛光工艺的产能。

技术研发人员:李青,李赫然,强乐,郭玉凯,陈哲
受保护的技术使用者:陕西东城皓宇新材料科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/16
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