一种双源共蒸发真空蒸镀机的制作方法

本发明涉及真空蒸镀机，具体为一种双源共蒸发真空蒸镀机。

背景技术：

1、真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜，真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。

2、如公开号为cn216947166u的一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机，所述真空蒸镀机的主腔体的底板上设置有坩埚结构，所述坩埚结构包括：坩埚部和加热源，所述坩埚用于盛放蒸镀材料，所述加热源用于将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，所述坩埚结构有两个，两个坩埚结构之间具有间距，两个坩埚结构设置在主腔体的底板的水平中心线上，真空蒸镀机的主腔室的上部设置有一个或多个镀锅，镀锅的形状为水平圆板或者为伞面状，坩埚结构镀膜时坩埚内的蒸镀材料以圆锥体的形状向上蒸发，其散射角为，在坩埚的中心垂直面上的向上蒸发的蒸镀材料的形状为散射面，两个坩埚结构的散射面的上表面之间的重合长度或者间距长度小于所述镀锅的直径的1/3。

3、其中上述现有技术中存在以下技术问题：

4、现有的蒸镀机虽然通过在机体的内部设置双坩埚结构进行蒸镀，两个坩埚主体之间不设置隔断结构，从而使其两个坩埚主体之间的工作空间互通，因此在蒸镀时，不便于使其左右两个坩埚形成可独立控制的两套坩埚系统，导致在实际蒸镀时，单独的镀锅基片上只能蒸镀一种材料；

5、如公开号为cn115216738a的一种可旋转镀环的镀锅机构及蒸镀机，包括：设于蒸镀机外壳上的电机，设于蒸镀机腔体内的镀锅；所述镀锅内设有至少一个镀环结构，所述镀环结构包括多个用于放置晶圆的镀环，多个所述镀环沿水平方向呈直线排列，相邻两个所述镀环之间通过连接杆固定连接，每个所述镀环上设有用于活动夹持所述晶圆的固定件，所述镀锅外部设有与蒸镀机腔体的顶部固定连接的伞架，所述镀锅与所述伞架可拆卸连接；所述电机与所述镀锅之间设有旋转机构，所述旋转机构一端与所述电机的输出轴连接，所述旋转机构的另一端穿过所述伞架后与所述镀环结构固定连接，所述电机用于驱动旋转机构带动所述镀环结构沿所述镀环排列方向做周向旋转运动；

6、其中上述现有技术中存在以下技术问题：

7、现有的蒸镀机在进行蒸镀加工时，需要将晶圆单面镀膜后，再打开镀膜机将镀锅从伞架上拆卸下来，更换晶圆，再将镀锅与伞架进行安装并重新开始镀膜，从而导致整体的蒸镀效率较低，同时在蒸镀的过程中不便于对晶圆进行加热，使其晶圆容易出现受热不均的现象，当晶圆受热不均后，容易降低蒸镀材的原子与晶圆间的键合效果以及蒸镀材的原子与晶圆间的密实性。

8、所以我们提出了一种双源共蒸发真空蒸镀机，以便于解决上述中提出的问题。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种双源共蒸发真空蒸镀机，以解决上述背景技术提出的目前市场上现有的蒸镀机虽然通过在机体的内部设置双坩埚结构进行蒸镀，两个坩埚主体之间不设置隔断结构，从而使其两个坩埚主体之间的工作空间互通，因此在蒸镀时，不便于使其左右两个坩埚形成可独立控制的两套坩埚系统，导致在实际蒸镀时，单独的镀锅基片上只能蒸镀一种材料，需要将晶圆单面镀膜后，再打开镀膜机将镀锅从伞架上拆卸下来，更换晶圆，再将镀锅与伞架进行安装并重新开始镀膜，从而导致整体的蒸镀效率较低，同时在蒸镀的过程中不便于对晶圆进行加热，使其晶圆容易出现受热不均的现象，当晶圆受热不均后，容易降低蒸镀材的原子与晶圆间的键合效果以及蒸镀材的原子与晶圆间的密实性的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种双源共蒸发真空蒸镀机，包括机壳，所述机壳的内部下端安装有容纳左右两个坩埚主体的固定座，左右两个坩埚主体的上方均对应设置有一个镀锅，所述镀锅的周向开设有承载槽，且每个承载槽的内部均安装有晶圆，所述机壳的内部侧边固定连接有立柱，且立柱上转动连接有锅盖，通过锅盖用于对坩埚主体的上端开口遮挡；

3、还包括：

4、所述机壳内部容纳左右两个坩埚主体的固定座上端中部安装有挡板，两个坩埚主体的中间位置固定连接有隔磁板，隔磁板位于固定座的内部；

5、左右两个所述镀锅的上端转轴均键连接有传动齿轮，左右两个传动齿轮之间啮合连接有中心齿轮，所述中心齿轮固定在伺服电机的输出轴上，且传动齿轮和中心齿轮位于支撑架的内侧，所述支撑架固定在机壳的内部；

6、所述支撑块位于承载槽的内侧中部，且支撑块的中部固定连接有传动杆，所述传动杆伸出镀锅的一端侧边固定连接有挡块，所述支撑块的内侧中部固定连接有加热器，用于对晶圆加热；

7、所述支撑块上下两端的左右两侧均固定连接有侧托块，且侧托块朝向支撑块的一侧固定连接有限位结构，通过支撑块的设置能够在上下两面均能够摆放一个晶圆，所述传动杆插入在调控结构的内部，通过调控结构用于控制传动杆带动支撑块进行旋转，所述支撑块上还设置有辅助吸附结构，用于在支撑块旋转时通过负压对晶圆进行吸附，保证晶圆进行翻转调换时的稳定性。

8、优选的，所述镀锅位于坩埚主体的正上方，且镀锅上端转轴键连接的传动齿轮与中心齿轮构成啮合传动结构。

9、通过采用上述技术方案，当中心齿轮转动时能够利用传动齿轮带动镀锅进行同步旋转。

10、优选的，所述侧托块关于支撑块的横向中轴线对称设置，且侧托块设置为“l”形结构，并且每个侧托块的内侧均固定连接有限位结构，所述限位结构由限制块和复位弹簧组成，且限制块通过复位弹簧和侧托块相互连接。

11、通过采用上述技术方案，通过将晶圆按压至支撑块的上下两端时，通过复位弹簧的弹力对晶圆进行固定。

12、优选的，所述支撑块的横截面设置为矩形结构，且支撑块的上下表面均与晶圆相互贴合。

13、通过采用上述技术方案，通过支撑块与晶圆的相互贴合，从而能够利用支撑块内侧的加热器对其晶圆进行加热。

14、优选的，所述调控结构由固定柱、衔接丝杆、压块、储气腔、连通管、容纳柱和密封块组成，且固定柱固定在镀锅的侧边，所述固定柱的中部安装有衔接丝杆，且衔接丝杆伸入至固定柱内部的一端连接有压块，所述压块和固定柱的内部之间形成储气腔，所述传动杆侧边固定连接的挡块位于容纳柱的内部，且容纳柱的内部固定连接有密封块，所述密封块靠近传动杆的一端设置为弧形并与传动杆的表面相互贴合，且传动杆侧边固定连接的挡块远离传动杆的一端设置为弧形并与容纳柱的内壁相互贴合，所述传动杆侧边固定连接的挡块和容纳柱内部固定连接的密封块之间形成密封的驱动空腔，所述储气腔上连接有连通管，且连通管依次通过分支管道与每个容纳柱内部的驱动空腔相互连通。

15、优选的，所述衔接丝杆和固定柱的中部为螺纹连接，且衔接丝杆下端的压块外壁和储气腔的内壁相互贴合。

16、通过采用上述技术方案，当衔接丝杆在固定柱上转动时，能够使其下端螺纹连接的压块向下移动并将储气腔内部的气体向外挤出。

17、优选的，所述储气腔内部的气流能够通过连通管进入至容纳柱内部的驱动空腔中。

18、通过采用上述技术方案，通过驱动空腔内部的充气能够推动传动杆以及挡块进行旋转。

19、优选的，所述辅助吸附结构由定位环、施压杆、输气管、卡接柱、活塞片、助力弹簧、磁块和辅助弹簧组成，且定位环固定在支撑块左右两侧的传动杆上，所述定位环侧边的柱体内部插入有施压杆，且施压杆伸出定位环侧边柱体的一端和镀锅的内部均固定连接有磁块，在初始状态下施压杆端部的磁块和镀锅内部固定的磁块位于同一水平直线上，所述施压杆通过辅助弹簧和定位环的内部相互连接，所述定位环通过输气管和卡接柱的内部相互连通，且卡接柱固定在支撑块上，所述卡接柱的内部安装有上下两个活塞片，且活塞片通过助力弹簧和卡接柱的内部相互连接，所述输气管位于卡接柱的内部和活塞片之间。

20、优选的，所述定位环内部设置为空心结构，且定位环的内部和侧边的柱体内部相互连通，定位环侧边的柱体内壁和施压杆远离磁块的一端外壁相互贴合，并且施压杆能够在定位环侧边的柱体内部滑动。

21、通过采用上述技术方案，当施压杆在定位环侧边的柱体内部滑动时，能够将定位环内部的气流通过输气管向外挤出。

22、优选的，所述活塞片的外壁和卡接柱的内壁相互贴合，且活塞片通过助力弹簧和卡接柱构成弹性伸缩结构，并且卡接柱的上下端均设置为开口结构，卡接柱的上下端部与支撑块的表面相互齐平。

23、通过采用上述技术方案，通过助力弹簧的设置能够使其在卡接柱内部移动后的活塞片复位回弹。

24、与现有技术相比，本发明的有益效果是：该双源共蒸发真空蒸镀机，利用两个坩埚之间挡板的设置，使其左右两个坩埚主体形成可独立控制的两套坩埚系统，同时能够在镀锅上的承载槽中安装两个晶圆，在其中一个晶圆镀膜之后，能够翻转进行另一个晶圆的镀膜，提高镀膜的工作效率，且能够对晶圆进行均匀加热；

25、1、设置挡板和隔磁板，通过左右两个坩埚主体之间加装隔板，从而能够在进行材料蒸镀时，左右两个坩埚主体形成可独立控制的两套坩埚系统，使其两侧坩埚系统可同时蒸镀两种不同的材料，同时挡板为可拆卸设置，在使用时将挡板从两个坩埚主体之间取下时，两个坩埚之间没有遮挡，此时左右两个坩埚主体能够进行同时蒸发作业；

26、2、设置有支撑块，将两个晶圆分别按压至支撑块的上下表面，此时晶圆按压后其侧边对限制块进行挤压，限制块受压后复位弹簧发生形变，利用复位弹簧压缩后提供的回弹力对其支撑块上下表面的晶圆进行限位固定，同时晶圆与支撑块的表面相互贴合，利用支撑块内侧的加热器来对晶圆进行加热；

27、3、设置有驱动空腔，通过向驱动空腔内部的充气能够推动传动杆以及支撑块翻转，以此来实现在其中一个晶圆镀膜之后，能够翻转进行另一个晶圆的镀膜，同时在支撑块以及传动杆旋转的过程中，施压杆端部的磁块和镀锅内部的磁块相互远离，施压杆朝向定位环侧边的柱体外侧移动，卡接柱内部的气流通过输气管回流至定位环的内部，此时卡接柱内部两个活塞片朝向卡接柱的内侧移动，由此利用活塞片在卡接柱内部移动后形成的负压将其支撑块上下两面摆放的晶圆进行吸附，以此保证在晶圆翻转调换时晶圆的稳定性。