镀膜卡具及棱镜镀膜方法与流程

本公开涉及光学镀膜，尤其涉及一种镀膜卡具及棱镜镀膜方法。

背景技术：

1、在光电学器件和光学器件的制备过程中，经常需要对基片进行膜层镀制处理，以改变其光学性能。镀膜是将一层材料沉积在物体表面的过程，其可以调节光学元件的反射率、透过率和抗反射性能。在棱镜等器件的镀膜过程中，常使用真空蒸发镀膜技术。这种技术不仅能够提高棱镜的光学传输效率，还可以增强其耐用性和抗腐蚀性能，使其在各种应用领域中发挥更大的作用。

2、在对如图1所示的棱镜的表面进行真空蒸发镀膜时，需要对直角棱镜的直角面镀制增透膜，以实现如图2所示的光路：即光从一个直角面入射，从斜面出射，要实现如图2所示的直角棱镜的大角度增透膜的镀制较为困难。

技术实现思路

1、有鉴于此，本公开实施例提供了一种镀膜卡具及棱镜镀膜方法，以解决现有技术中实现待镀膜棱镜的紫外波段的大角度增透膜的镀制较为困难的技术问题。

2、本公开实施例的第一方面，提供了一种镀膜卡具，镀膜卡具包括第一卡体，其中：第一卡体包括能够容纳待镀膜棱镜的第一容纳腔，第一容纳腔的第一底部能够容纳待镀膜棱镜的第一待镀膜面，第一底部设置有自第一容纳腔的腔壁向第一容纳腔内部水平延伸的第一内搭台，第一内搭台能够承载待镀膜棱镜；第一容纳腔的腔壁自第一底部向远离第一内搭台和第一容纳腔的竖直中心轴的方向延伸，使得第一容纳腔的远离第一底部的一端能够避让待镀膜棱镜的第一待镀膜面之外的其它表面。

3、在本公开一种实施例中，镀膜卡具还包括与第一卡体连接的第二卡体，第二卡体包括能够容纳待镀膜棱镜的第二容纳腔；第二容纳腔的腔壁自第二底部向远离第二内搭台和第二容纳腔的竖直中心轴的方向延伸，使得第二容纳腔的远离第二底部的一端能够避让待镀膜棱镜的表面；所处第二容纳腔与第一容纳腔的开口对接；第一卡体和/或第二卡体具有外搭台，外搭台为自镀膜卡具的外壁向镀膜卡具的外部延伸的凸块。

4、本公开实施例的第二方面，提供了一种棱镜镀膜方法，应用如上述技术方案中的镀膜卡具，棱镜镀膜方法包括：将待镀膜棱镜以目标表面朝向第一卡体的底部的方式放入镀膜卡具，将目标表面暴露在蒸镀环境中；对目标表面进行膜层镀制，该膜层包括增透膜或金属膜的一个膜层。

5、本公开实施例与现有技术相比存在的有益效果是：本公开实施例的技术方案通过使用镀膜卡具保证一定的通光口径，对目标表面进行膜层镀制，可以实现对直角棱镜的大角度增透膜的镀制。

技术特征：

1.一种镀膜卡具，其特征在于，所述镀膜卡具包括第一卡体，其中：

2.根据权利要求1所述的镀膜卡具，其特征在于，所述镀膜卡具还包括与所述第一卡体连接的第二卡体，所述第二卡体包括能够容纳所述待镀膜棱镜的第二容纳腔；

3.一种棱镜镀膜方法，其特征在于，应用如权利要求1或2所述的镀膜卡具，所述棱镜镀膜方法包括：

4.根据权利要求3所述的棱镜镀膜方法，其特征在于，对所述目标表面进行膜层镀制，包括：自下而上顺次迭代镀制增透膜的二氧化铪层和二氧化硅层。

5.根据权利要求4所述的棱镜镀膜方法，其特征在于，对所述目标表面进行膜层镀制之前，所述棱镜镀膜方法还包括：

6.根据权利要求4所述的棱镜镀膜方法，其特征在于，对所述目标表面进行膜层镀制，包括顺次镀制以下膜层：

7.根据权利要求6所述的棱镜镀膜方法，其特征在于，顺次镀制以下膜层，包括：

8.根据权利要求3所述的棱镜镀膜方法，其特征在于，对所述目标表面进行膜层镀制，包括自下而上顺次镀制金属膜的各个膜层：

9.根据权利要求8所述的棱镜镀膜方法，其特征在于，所述二氧化硅层的厚度为所述铝层厚度的一半。

10.根据权利要求3所述的棱镜镀膜方法，其特征在于，对所述目标表面进行膜层镀制之后，所述棱镜镀膜方法还包括：

技术总结
本公开涉及光学镀膜技术领域，提供了一种镀膜卡具及棱镜镀膜方法。该镀膜卡具包括第一卡体，第一卡体包括能够容纳待镀膜棱镜的第一容纳腔，第一容纳腔的第一底部能够容纳待镀膜棱镜的第一待镀膜面，第一底部设置有自第一容纳腔的腔壁向第一容纳腔内部水平延伸的第一内搭台，第一内搭台能够承载待镀膜棱镜；第一容纳腔的腔壁自第一底部向远离第一内搭台和第一容纳腔的竖直中心轴的方向延伸，使得第一容纳腔的远离第一底部的一端能够避让待镀膜棱镜的第一待镀膜面之外的其它表面。本公开的技术方案可以实现待镀膜棱镜的紫外波段的大角度增透膜的镀制。

技术研发人员：曾强
受保护的技术使用者：北京创思镀膜有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/8