一种类金刚石膜的制备方法与设备与流程

本发明涉及类金刚石膜制备，具体为一种类金刚石膜的制备方法与设备。

背景技术：

1、类金刚石膜兼具了金刚石和石墨的优良特性，作为减摩耐磨涂层应用于航空航天、金属加工、医疗器件等众多领域，通过镀膜的方式镀在工件表面形成涂层实现零部件表面改性，镀膜设备包括有真空镀膜室、溅射靶、真空镀膜室底座上的转架台和转架台上的工件架，以及驱动转架台绕转架台的中心轴转动的第一转动系统，温控系统、加热装置、冷却水循环系统和电源控制系统；

2、在镀膜过程中，将待镀膜工件放置在真空镀膜室内部的工件架上，工件架自转，通过加热或溅射的方式将材料蒸发或溅射成气体或离子，然后将气体或离子沉积到样品表面形成薄膜，在对大型法兰盘这类工件进行镀膜时，需要对法兰盘外表面的全部面积镀膜，法兰盘架设在工件架上通过支脚对法兰盘进行支撑，但是，法兰盘与支脚接触的面积被支脚遮挡，此时，气体与离子较难沉积在被遮挡位置的表面，使得法兰盘外表面镀膜的不全面，若打开机壳，手动调整法兰盘与支脚的位置，将未镀膜的位置裸露出，则较为浪费时间。为此，我们提出一种类金刚石膜的制备方法与设备。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种类金刚石膜的制备方法与设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种类金刚石膜的制备方法与设备，包括：机箱、机壳、转架台、支架和工件，

3、机箱的顶部架设有机壳，且机壳内部的下端活动连接有转架台，转架台的顶部活动连接有支架，且支架的外部套设有工件；

4、支撑机构，支撑机构位于工件的底部，支撑机构包括固定在转架台外壁的固定盘一，且固定盘一的顶部设置有对工件进行支撑的支脚一，工件的底部设置有对工件进行交替支撑的支脚二；

5、动力机构，动力机构分别与支脚一与支脚二间接连接，实现支脚一与支脚二的竖向移动，通过支脚一与支脚二的交错竖向移动实现对工件的交替支撑。

6、优选的，支脚一的底部固定有连接架一，且连接架一远离支脚一的一端固定在外环一的外壁，且外环一的底部均匀固定有支杆一。

7、优选的，支杆一插设在固定盘一的内部，固定盘一的内部开设有与支杆一配合的限位孔一，支杆一的底部皆固定在外环二的表面。

8、优选的，支脚二的底部固定在连接架二的表面，且连接架二的底部固定在内环一的表面，内环一的底部均匀固定有支杆二。

9、优选的，支杆二插设在固定盘一的内部，固定盘一的内部开设有与支杆二配合的限位孔二，支杆二的底部皆固定在内环二的表面。

10、优选的，转架台外壁的中部固定有固定盘二，且固定盘二的内部分别固定有双向电机一与双向电机二，双向电机一的两侧输出轴分别设置有螺杆一，螺杆一的顶端与固定盘一活动连接，螺杆一与外环二螺纹连接。

11、优选的，双向电机二的两侧输出轴分别设置有螺杆二，螺杆二的顶端与固定盘一活动连接，螺杆二与内环二螺纹连接。

12、优选的，固定盘二的底部固定有固定块，且固定块插设在转架台的内部，固定块的内部插设有螺栓一，且螺栓一远离固定块的一侧与转架台螺纹连接，双向电机一顶部的输出轴与螺杆一固定连接，双向电机一底部的输出轴通过螺栓二与螺杆一连接，双向电机二顶部的输出轴与螺杆二固定连接，双向电机二底部的输出轴通过螺栓三与螺杆二连接。

13、优选的，支脚二和支脚一的顶部皆架设有滑动夹板，且滑动夹板的底部通过滑块分别与支脚二和支脚一滑动连接，滑动夹板的侧壁活动连接有螺杆三，且螺杆三分别与支脚二和支脚一螺纹连接，螺杆三远离滑动夹板的一端固定有握把。

14、优选的，步骤一：打开机壳，将工件分别套设在支架外壁，使得工件架设在支脚一的顶部，通过螺栓一、螺栓二和螺栓三实现支架的拼接组装固定，支架组装完毕后，关闭机壳；

15、步骤二：外接电源，为装置的工作提供电力来源，通过控制面板控制转架台开始转动工作，同时，控制支架开始自转，支架自转，带动架设在支脚一顶部的工件同步转动；

16、步骤三：当支架间接带动工件转动三百六十度后，信号传输至控制器，控制器控制双向电机二开始工作，双向电机二工作带动螺杆二同步转动，当螺杆二转动时，使得内环二上移，内环二通过支杆二、内环一和连接架二带动支脚二同步上移，固定盘一的底部设置有与内环二对应的控制开关，当内环二上移时，内环二抵压控制开关，当控制开关被抵压时，信号传输至控制器，控制器控制螺杆二停止转动，使得内环二移动停止，从而实现支脚二的移动停止，通过支脚二的上移使得支脚二的表面对工件的底部进行支撑，同时，控制器控制双向电机一的输出轴转动，使得螺杆一转动，螺杆一转动，使得外环二下移，外环二通过支杆一、外环一和连接架一带动支脚一同步下移，使得支脚一对工件的支撑解除，此时支脚一与工件接触的位置露出，利于镀膜；

17、步骤四：支架保持自转，当支架带动工件再次转动三百六十度后，被支脚一遮挡的部位镀膜结束，此时，控制器控制双向电机一工作，使得双向电机一的输出轴反转，从而带动螺杆一反向转动，螺杆一反向转动使得外环二上移，间接实现支脚一的上移，通过支脚一的上移实现对工件的支撑，随后，控制器控制双向电机二工作，使得螺杆二反向转动，螺杆二反向转动使得内环二下移，间接实现支脚二的下移，使得支脚二对工件的支撑解除，实现支脚一初始位置的恢复，使得设备整体控制系统的运行完整，镀膜效果更佳。

18、本发明至少具备以下有益效果：

19、通过三组支脚一对工件进行初始支撑，支架自转，工件表面镀膜一圈结束后，支脚二上升对工件进行支撑，支脚一下降，使得工件表面被支脚一遮挡住的部位露出，支架持续自转，使得工件表面被遮挡部位的镀膜，通过上述设计，在支脚二确保工件支撑稳定的情况下，支脚一下移，使得被支脚一的遮挡部位露出，便于被遮挡部位的镀膜，通过支脚一与支脚二的交替支撑，便于支脚一与支脚二遮挡部位的交替露出，从而便于实现工件外表面的全面镀膜，避免出现因支脚一遮挡而出现镀膜不全面的现象，不需要打开机壳手动对工件的位置进行调整，使得遮挡部位露出，节省手动调整的时间，使得设备的自动化程度更高。

技术特征：

1.一种类金刚石膜的制备设备，包括：机箱(1)、机壳(21)、转架台(22)、支架(23)和工件(24)，

2.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述支脚一(32)的底部固定有连接架一(33)，且连接架一(33)远离支脚一(32)的一端固定在外环一(34)的外壁，且外环一(34)的底部均匀固定有支杆一(35)。

3.根据权利要求2所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述支杆一(35)插设在固定盘一(31)的内部，所述固定盘一(31)的内部开设有与支杆一(35)配合的限位孔一(36)，所述支杆一(35)的底部皆固定在外环二(43)的表面。

4.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述支脚二(39)的底部固定在连接架二(38)的表面，且连接架二(38)的底部固定在内环一(37)的表面，所述内环一(37)的底部均匀固定有支杆二(41)。

5.根据权利要求4所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述支杆二(41)插设在固定盘一(31)的内部，所述固定盘一(31)的内部开设有与支杆二(41)配合的限位孔二(42)，所述支杆二(41)的底部皆固定在内环二(44)的表面。

6.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述转架台(22)外壁的中部固定有固定盘二(45)，且固定盘二(45)的内部分别固定有双向电机一(46)与双向电机二(48)，所述双向电机一(46)的两侧输出轴分别设置有螺杆一(47)，所述螺杆一(47)的顶端与固定盘一(31)活动连接，所述螺杆一(47)与外环二(43)螺纹连接。

7.根据权利要求6所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述双向电机二(48)的两侧输出轴分别设置有螺杆二(49)，所述螺杆二(49)的顶端与固定盘一(31)活动连接，所述螺杆二(49)与内环二(44)螺纹连接。

8.根据权利要求6所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述固定盘二(45)的底部固定有固定块(51)，且固定块(51)插设在转架台(22)的内部，所述固定块(51)的内部插设有螺栓一(52)，且螺栓一(52)远离固定块(51)的一侧与转架台(22)螺纹连接，所述双向电机一(46)顶部的输出轴与螺杆一(47)固定连接，所述双向电机一(46)底部的输出轴通过螺栓二(53)与螺杆一(47)连接，所述双向电机二(48)顶部的输出轴与螺杆二(49)固定连接，所述双向电机二(48)底部的输出轴通过螺栓三(54)与螺杆二(49)连接。

9.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备，其特征在于：所述支脚二(39)和支脚一(32)的顶部皆架设有滑动夹板(61)，且滑动夹板(61)的底部通过滑块(62)分别与支脚二(39)和支脚一(32)滑动连接，所述滑动夹板(61)的侧壁活动连接有螺杆三(63)，且螺杆三(63)分别与支脚二(39)和支脚一(32)螺纹连接，所述螺杆三(63)远离滑动夹板(61)的一端固定有握把(64)。

10.一种类金刚石膜的制备方法，其特征在于：

技术总结
本发明涉及类金刚石膜制备技术领域，具体公开了一种类金刚石膜的制备方法与设备，包括：机箱、机壳、转架台、支架和工件，机箱的顶部架设有机壳，且机壳内部的下端活动连接有转架台，转架台的顶部活动连接有支架，且支架的外部套设有工件；支撑机构，支撑机构位于工件的底部，支撑机构包括固定在转架台外壁的固定盘一，且固定盘一的顶部设置有对工件进行支撑的支脚一，工件的底部设置有对工件进行交替支撑的支脚二；通过支脚一与支脚二的交替支撑，利于遮挡部位的露出，从而便于实现工件外表面的全面镀膜，避免出现因支脚一遮挡而出现镀膜不全面的现象，不需要手动调整工件，节省手动调整的时间，使得设备的自动化程度更高。

技术研发人员：魏建国,毕凯,段荣飞
受保护的技术使用者：常州锐星源真空科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/17