一种舟结构的制作方法

本申请涉及半导体装置，特别是涉及一种舟结构。

背景技术：

1、半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过各种加工处理后才能够应用到产品上，例如太阳能电池片，将片状材料送入反应炉体中，在一定温度和压力等工艺条件下进行反应来给片状材料镀膜，因此需要用到半导体装置。

2、铝舟匀流结构作为半导体装置的一部分，用于使太阳能电池片镀膜均匀。铝舟在ald(ald工艺反应温度在250°左右)炉体内进行沉积时，由于管式ald炉体的整体气流方向为炉口进气并向炉尾流动，途中气体流过铝舟及硅片，泵从炉尾将邻近气体抽走。由于工艺气体刚进入，靠近炉口进气端的硅片区域的气流流量偏大，气流流动路线不确定，容易吹动硅片使其发生晃动，导致硅片所镀膜厚不均匀；一方面，由于流过靠近炉尾出气端的硅片区域的工艺气体，来不及参与反应就被泵抽走了，导致膜厚不均匀，另一方面，泵从炉尾抽气时使得气流在硅片间隙出气处集中，同样使得靠近炉尾的硅片区域的气流分布不均匀。此外，铝舟放置于管式ald炉体上，工艺气体进气方向、铝舟长度方向、抽气方向依次相对应，靠近进气端、出气端的硅片因气流大而容易发生晃动，使得硅片发生裂纹、破碎等不良影响。

技术实现思路

1、本申请的目的是：为解决上述技术问题，本申请提供了一种舟结构，旨在实现舟内部硅片区域的气流分布均匀。

2、本申请的一些实施例中提供了一种舟结构，包括：

3、舟体，具有进气端和出气端；

4、第一匀流组件，可拆卸安装于所述进气端；

5、第二匀流组件，可拆卸安装于所述出气端；

6、其中，所述第一匀流组件包括导向件和位于所述导向件后方的匀流件，所述导向件用于引导来自外部的气流流向所述匀流件，所述匀流件开设有多个匀流孔，所述匀流孔被配置为使外部的气流沿水平方向进入所述舟体的内腔。

7、本申请的一些实施例中，所述舟体的进气端和出气端均设置有夹持组件，所述夹持组件包括多个夹持块，多个所述夹持块共同构成用于夹持所述第一匀流组件或第二匀流组件的夹持空间，所述第一匀流组件或第二匀流组件可拆卸安装于所述夹持块上。

8、本申请的一些实施例中，所述夹持块设置有多个第一卡槽位，所述第一匀流组件或第二匀流组件垂直卡设于所述第一卡槽位。

9、本申请的一些实施例中，所述导向件上开设有多个导流孔，所述导流孔与所述匀流孔错位设置。

10、本申请的一些实施例中，还包括设置于所述舟体内的支撑结构，多个硅片倾斜设置于所述支撑结构，所述支撑结构包括多个支撑件，多个所述支撑件对所述硅片形成多点支撑，所述支撑件包括与所述舟体连接的支撑本体，所述硅片可拆卸安装于所述支撑本体上。

11、本申请的一些实施例中，所述支撑本体设置有多个第二卡槽位，所述硅片倾斜卡设于所述第二卡槽位。

12、本申请的一些实施例中，所述硅片的倾斜角度为2°－6°。

13、本申请的一些实施例中，所述舟体具有相对设置的左、右侧壁，所述左、右侧壁均设有多个第三卡槽位，所述支撑本体的端部形成有安装部，所述安装部包括卡设于所述第三卡槽位中的第一安装部和第二安装部，所述第一安装部具有第一端面、第二端面和第三端面，所述第一端面、第二端面以及第三端面均与所述第三卡槽位的内壁形成面接触，所述第二安装部抵接于所述舟体的左侧壁或右侧壁，且所述第二安装部与所述第一安装部的连接处抵靠于所述第三卡槽位的槽棱边。

14、本申请的一些实施例中，所述舟体的上端具有开口部，所述舟体上端设置有舟盖，所述舟盖用于将所述开口部封闭，以防止所述舟体内的气流流向炉管的上方。

15、本申请的一些实施例中，所述第二匀流组件与第一匀流组结构相同。

16、本申请实施例一种舟结构与现有技术相比，其有益效果在于：

17、通过增设第一匀流组件，第一匀流组件的平面与相邻硅片间隙的气流方向垂直，使得气流能够均匀、顺畅地流过舟的首尾，使得镀膜均匀。

18、通过增设第二匀流组件，第二匀流组件增加靠近出气端的硅片区域的阻力，避免工艺气体来不及参与反应就被泵抽走了，导致舟内各处所镀膜厚度不均匀；此外，相当于气流集中缓冲区，避免泵从炉尾抽气时在硅片间隙出气处的气流集中，使得镀膜不均匀。

技术特征：

1.一种舟结构，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的舟结构，其特征在于，所述舟体的进气端和出气端均设置有夹持组件，所述夹持组件包括多个夹持块，多个所述夹持块共同构成用于夹持所述第一匀流组件或第二匀流组件的夹持空间，所述第一匀流组件或第二匀流组件可拆卸安装于所述夹持块上。

3.如权利要求2所述的舟结构，其特征在于，所述夹持块设置有多个第一卡槽位，所述第一匀流组件或第二匀流组件垂直卡设于所述第一卡槽位。

4.如权利要求1所述的舟结构，其特征在于，所述导向件上开设有多个导流孔，所述导流孔与所述匀流孔错位设置。

5.如权利要求1所述的舟结构，其特征在于，还包括设置于所述舟体内的支撑结构，多个硅片倾斜设置于所述支撑结构，所述支撑结构包括多个支撑件，多个所述支撑件对所述硅片形成多点支撑，所述支撑件包括与所述舟体连接的支撑本体，所述硅片可拆卸安装于所述支撑本体上。

6.如权利要求5所述的舟结构，其特征在于，所述支撑本体设置有多个第二卡槽位，所述硅片倾斜卡设于所述第二卡槽位。

7.如权利要求5所述的舟结构，其特征在于，所述硅片的倾斜角度为2°－6°。

8.如权利要求6所述的舟结构，其特征在于，所述舟体具有相对设置的左、右侧壁，所述左、右侧壁均设有多个第三卡槽位，所述支撑本体的端部形成有安装部，所述安装部包括卡设于所述第三卡槽位中的第一安装部和第二安装部，所述第一安装部具有第一端面、第二端面和第三端面，所述第一端面、第二端面以及第三端面均与所述第三卡槽位的内壁形成面接触，所述第二安装部抵接于所述舟体的左侧壁或右侧壁，且所述第二安装部与所述第一安装部的连接处抵靠于所述第三卡槽位的槽棱边。

9.如权利要求1所述的舟结构，其特征在于，所述舟体的上端具有开口部，所述舟体上端设置有舟盖，所述舟盖用于将所述开口部封闭，以防止所述舟体内的气流流向炉管的上方。

10.如权利要求1所述的舟结构，其特征在于，所述第二匀流组件与第一匀流组结构相同。

技术总结
本申请涉及半导体装置技术领域，特别是涉及一种舟结构。包括：舟体，具有进气端和出气端；第一匀流组件可拆卸安装于进气端；第二匀流组件可拆卸安装于出气端；其中，第一匀流组件包括导向件和位于导向件后方的匀流件，导向件用于引导来自外部的气流流向匀流件，匀流件开设有多个匀流孔，匀流孔被配置为使外部的气流沿水平方向进入舟体的内腔。通过增设第一匀流组件，第一匀流组件的平面与相邻硅片间隙的气流方向垂直，使得气流能够均匀、顺畅地流过舟的首尾，使得镀膜均匀。通过增设第二匀流组件，第二匀流组件增加靠近出气端的硅片区域的阻力，避免工艺气体来不及参与反应就被泵抽走了，导致舟内各处所镀膜厚度不均匀。

技术研发人员：朱太荣,林佳继,张武,刘群
受保护的技术使用者：拉普拉斯新能源科技股份有限公司
技术研发日：20230329
技术公布日：2024/1/15