一种环氧地坪打磨抛光装置的制作方法

文档序号:35851042发布日期:2023-10-25 19:31阅读:38来源:国知局
一种环氧地坪打磨抛光装置的制作方法

本技术属于环氧地坪铺设设备,具体涉及一种环氧地坪打磨抛光装置。


背景技术:

1、环氧地坪打磨抛光装置是用于处理环氧地坪表面的机械设备,通常包括电动或气动研磨机、砂轮、研磨片等工具,通过切削和研磨作用,可以去除表面缺陷、磨平不平整处,并使地面更加平滑、洁净,提高其美观度和耐久性。

2、以往的抛光装置至少存在以下缺点:在抛光时抛光机构不具备缓冲结构,容易造成环氧地坪损坏。为此,我们提出一种环氧地坪打磨抛光装置。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种环氧地坪打磨抛光装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种环氧地坪打磨抛光装置,包括第一横板、连接板、第二横板、位移板、底盘、驱动电机和打磨盘,所述第一横板顶部两端均贯穿开设有贯通槽,所述贯通槽上端连接有柱形缓冲弹簧,所述柱形缓冲弹簧内侧固定有位移柱,所述位移柱底端贯穿贯通槽,所述位移柱底部焊接有底盘,所述底盘底部开设有凹槽,所述底盘顶部靠近中央处开设有所述凹槽贯通的开槽,所述开槽内套设有从动轴,所述从动轴底部焊接有转动盘,所述转动盘位于凹槽内,所述转动盘底部通过沉头螺钉固定有打磨盘,所述位移柱顶部焊接有位移板,所述位移板底部靠近中央处通过紧固螺栓固定有固定台,所述固定台底部通过固定槽安装有永磁铁,所述第一横板顶部靠近中央处通过安装槽设置有电磁铁。

3、优选地,所述底盘顶部一端通过固定架设置有驱动电机,所述驱动电机的动力输出端连接有主动锥齿轮,所述从动轴顶部焊接有从动锥齿轮,所述从动锥齿轮与主动锥齿轮啮合。

4、优选地,所述位移板上端设置有第二横板,所述第一横板与第二横板端部之间通过螺栓连接有连接板。

5、优选地,所述第二横板顶部靠近中央处焊接有固定柱,所述固定柱顶部连接有连接盘,所述连接盘底部靠近边缘处贯穿开设有连接孔。

6、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

7、本实用新型一种环氧地坪打磨抛光装置,由于柱形缓冲弹簧的作用,使得打磨盘在受到地坪凹凸不平处的反馈时,能带动底盘上下缓冲浮动,进而使得本装置在抛光时的抛光机构具备缓冲结构,不易造成环氧地坪损坏。



技术特征:

1.一种环氧地坪打磨抛光装置,其特征在于,包括第一横板(1)、连接板(2)、第二横板(3)、位移板(7)、底盘(14)、驱动电机(16)和打磨盘(20),其特征在于:所述第一横板(1)顶部两端均贯穿开设有贯通槽(22),所述贯通槽(22)上端连接有柱形缓冲弹簧(13),所述柱形缓冲弹簧(13)内侧固定有位移柱(12),所述位移柱(12)底端贯穿贯通槽(22),所述位移柱(12)底部焊接有底盘(14),所述底盘(14)底部开设有凹槽(15),所述底盘(14)顶部靠近中央处开设有所述凹槽(15)贯通的开槽,所述开槽内套设有从动轴(19),所述从动轴(19)底部焊接有转动盘(21),所述转动盘(21)位于凹槽(15)内,所述转动盘(21)底部通过沉头螺钉固定有打磨盘(20),所述位移柱(12)顶部焊接有位移板(7),所述位移板(7)底部靠近中央处通过紧固螺栓(8)固定有固定台(9),所述固定台(9)底部通过固定槽安装有永磁铁(10),所述第一横板(1)顶部靠近中央处通过安装槽设置有电磁铁(11)。

2.根据权利要求1所述的一种环氧地坪打磨抛光装置,其特征在于:所述底盘(14)顶部一端通过固定架设置有驱动电机(16),所述驱动电机(16)的动力输出端连接有主动锥齿轮(17),所述从动轴(19)顶部焊接有从动锥齿轮(18),所述从动锥齿轮(18)与主动锥齿轮(17)啮合。

3.根据权利要求1所述的一种环氧地坪打磨抛光装置,其特征在于:所述位移板(7)上端设置有第二横板(3),所述第一横板(1)与第二横板(3)端部之间通过螺栓连接有连接板(2)。

4.根据权利要求3所述的一种环氧地坪打磨抛光装置,其特征在于:所述第二横板(3)顶部靠近中央处焊接有固定柱(4),所述固定柱(4)顶部连接有连接盘(5),所述连接盘(5)底部靠近边缘处贯穿开设有连接孔(6)。


技术总结
本技术公开了一种环氧地坪打磨抛光装置,属于环氧地坪铺设设备技术领域,包括第一横板、连接板、第二横板、位移板、底盘、驱动电机和打磨盘,所述第一横板顶部两端均贯穿开设有贯通槽,所述贯通槽上端连接有柱形缓冲弹簧,所述柱形缓冲弹簧内侧固定有位移柱,所述位移柱底端贯穿贯通槽,所述位移柱底部焊接有底盘,所述底盘底部开设有凹槽,所述底盘顶部靠近中央处开设有所述凹槽贯通的开槽,所述开槽内套设有从动轴,所述从动轴底部焊接有转动盘,所述转动盘位于凹槽内,所述转动盘底部通过沉头螺钉固定有打磨盘,所述位移柱顶部焊接有位移板。该新型在抛光时抛光机构具备缓冲结构,不易造成环氧地坪损坏,适合广泛推广使用。

技术研发人员:郁云鹏
受保护的技术使用者:南京斌元建筑工程有限公司
技术研发日:20230410
技术公布日:2024/1/15
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1