本技术涉及真空镀膜设备,尤其涉及一种连续式箱式真空镀膜设备。
背景技术:
1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
2、由中国公开号为cn204325487u提出的一种连续式真空离子镀膜机,具有箱式真空镀膜室,箱式真空镀膜室内的左、右两侧分别设有基膜放卷机构和基膜收卷纠偏机构,箱式真空镀膜室内由左至右间隔设有多排平面磁控溅射靶,其中左、右两排为单面溅射平面磁控溅射靶、左右两排之间的为双面溅射平面磁控溅射靶,相邻排平面磁控溅射靶之间形成有镀膜通道,所述多排平面磁控溅射靶的前、后两侧分别设有水冷托板,水冷托板的外侧设有传动辊,传动辊位于相邻两排平面磁控溅射靶之间的位置;所述基膜放卷机构装设的基膜绕经传动辊后从镀膜通道通过并由基膜收卷纠偏机构进行纠偏后收卷。
3、上述技术方案中只通过水冷托板进行冷却处理,由于箱式真空镀膜室中进行工作时会不断产生热量,只通过水冷托板进行散热处理,散热效率低下,无法满足设备散热需要。
技术实现思路
1、本实用新型的目的是为了解决现有技术中只通过水冷托板进行散热处理,散热效率低下,无法满足设备散热需要的问题,而提出的一种连续式箱式真空镀膜设备。
2、为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
3、一种连续式箱式真空镀膜设备,包括箱式真空镀膜室,所述箱式真空镀膜室中设置有多排平面磁控溅射靶,所述多排平面磁控溅射靶前后两侧均设置有水冷板,所述箱式真空镀膜室中设置有用于对基膜缠绕传动的传动辊;
4、所述箱式真空镀膜室内壁上固定连接有固定杆,所述水冷板上开设有与固定杆对应设置的固定孔,所述水冷板与固定杆之间开设有用于对水冷板进行螺栓固定的螺纹孔;
5、所述水冷板中设置有用于对箱式真空镀膜室与基膜进行散热处理的冷却机构。
6、优选地,所述平面磁控溅射靶之间形成镀膜通道,所述传动辊设置于水冷板外端位置。
7、优选地,所述固定杆滑动套设于固定孔中,所述螺纹孔与固定孔相连通。
8、优选地,所述冷却机构包括开设于水冷板中的安装腔,所述安装腔中固定安装有水泵,所述安装腔中通过水泵固定连接有灌装水体的循环管,所述循环管上固定安装有散热片,所述水冷板上开设有通风口,所述通风口中固定安装有风扇,所述箱式真空镀膜室上开设有与外界连通并与通风口对应设置的通风管。
9、优选地,所述循环管为多个u形管组成,所述散热片设置于水泵两侧位置。
10、与现有技术相比,本实用新型具备以下优点:
11、1、本实用新型通过水泵可驱使循环管中的水体进行流动,通过水体的运动可加快吸热效率,有助于提高冷却机构的冷却效果。
12、2、本实用新型通过散热片对循环管中的水体进行吸热冷却,并通过风扇加快散热片上的热量散失,有助于保障水冷板的冷却效果。
1.一种连续式箱式真空镀膜设备,包括箱式真空镀膜室(1),其特征在于,所述箱式真空镀膜室(1)中设置有多排平面磁控溅射靶(2),所述多排平面磁控溅射靶(2)前后两侧均设置有水冷板(3),所述箱式真空镀膜室(1)中设置有用于对基膜缠绕传动的传动辊(4);
2.根据权利要求1所述的一种连续式箱式真空镀膜设备,其特征在于,所述平面磁控溅射靶(2)之间形成镀膜通道,所述传动辊(4)设置于水冷板(3)外端位置。
3.根据权利要求1所述的一种连续式箱式真空镀膜设备,其特征在于,所述固定杆(5)滑动套设于固定孔(6)中,所述螺纹孔(7)与固定孔(6)相连通。
4.根据权利要求1所述的一种连续式箱式真空镀膜设备,其特征在于,所述冷却机构包括开设于水冷板(3)中的安装腔(8),所述安装腔(8)中固定安装有水泵(9),所述安装腔(8)中通过水泵(9)固定连接有灌装水体的循环管(10),所述循环管(10)上固定安装有散热片(11),所述水冷板(3)上开设有通风口(12),所述通风口(12)中固定安装有风扇(13),所述箱式真空镀膜室(1)上开设有与外界连通并与通风口(12)对应设置的通风管(14)。
5.根据权利要求4所述的一种连续式箱式真空镀膜设备,其特征在于,所述循环管(10)为多个u形管组成,所述散热片(11)设置于水泵(9)两侧位置。