一种等离子化学气相沉积的放样机构的制作方法

本技术涉及等离子化学气相沉积装置，具体涉及一种等离子化学气相沉积的放样机构。

背景技术：

1、金刚石，由于其硬度高等优点，在一些领域有着广泛的应用，为了满足金刚石的使用量需求，一般会选用人造金刚石，主要是采用等离子化学气相沉积法（即mpcvd）来制备金刚石。

2、等离子化学气相沉积法，主要是利用等离子化学气相沉积的方式在样品基底（有时也称沉积基底、样品衬底、生产衬底等）沉积生长形成金刚石薄膜。

3、一般来说，沉积过程主要是在沉积炉中进行，在沉积炉中设置放置样品基底的放样机构，其中放样机构一般由基片台和水冷台构成，基片台置于水冷台上，水冷台用于实现水冷降温；基片台上开设有与样品基底形状适配的用于放置样品基底的定位凹槽；沉积时，将样品基底放置在定位凹槽中；对于这种具有定位凹槽的基片台具体可参照公告号为cn106929828b的专利文件。

4、这种具有定位凹槽的基片台中，一般定位凹槽是直接开设在基片台上的，这就在使用过程中产生一些弊端，首先，在日常使用过程中，定位凹槽内或多或少的会积攒一些杂质，因此在样品基底放入前，需要清理掉这些杂质，而由于定位凹槽是直接开设在基片台上的，所以定位凹槽具有一定的深度，因而不易直接将凹槽内的杂质清理出来；此外，由于样品基底是放置在定位凹槽内的，所以最终完成沉积后，生成的样品（即金刚石薄膜）仍是处于定位凹槽内的，而在定位凹槽的存在会对样品形成围挡，从而不易将定位凹槽内的样品取出。

技术实现思路

1、为了解决背景技术中提到的至少一个技术问题，本实用新型的目的在于提供一种等离子化学气相沉积的放样机构。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

3、一种等离子化学气相沉积的放样机构，包括水冷台和置于水冷台上的基片台，所述基片台上形成有用于放置样品基底的定位凹槽，所述基片台的顶面上设有环形的定位环，所述定位环铰接在基片台上以使所述定位环能够相对于基片台实现上下翻转；当定位环处于翻下状态时，所述定位环的下壁贴靠基片台的上顶面，且定位环与基片台的顶面之间合围形成所述定位凹槽。

4、较之现有技术，采用本方案的优点在于：

5、本方案中，通过设置能够相对于基片台上下翻转的定位环，如此在需要进行沉积时，可以将定位环翻下，此时定位环与基片台的顶面之间便合围形成定位凹槽，将样品基底放入定位凹槽内即可进行后续的沉积工艺。

6、由于本方案中定位环是可以上下翻转的，所以，当沉积完成需要取出样品（比如沉积完成的金刚石薄膜）时，可以将定位环向上翻起，此时定位环便不再对样品形成围挡，此时便可将样品顺着基片台顶面向基片台边缘滑出进行取料。

7、而且，当需要清理定位凹槽内的杂质时，同样可以将定位环向上翻起，如此没有了定位环的围挡，便可利用毛刷等工具将杂质顺着基片台表面扫下，清理起来较为方便，而且不会有过多清理死角。

8、作为优选，所述定位环上设有着力部，在定位环的周向上，定位环的铰接位置与所述着力部的位置相错位。

9、作为优选，定位环的铰接位置与所述着力部的位置处于相对侧。

10、作为优选，所述着力部呈轴状结构，且所述着力部至少部分沿基片台的径向伸出基片台的外边沿以供把持。

11、作为优选，所述着力部和基片台之间设有用于锁定着力部的锁定组件。

12、作为优选，所述锁定组件包括磁铁和能够被磁铁吸附的磁吸件，所述磁铁和磁吸件，其中一个设于基片台上，另一个设于着力部上。

13、作为优选，所述着力部构成所述磁吸件。

14、作为优选，所述基片台的外周壁开设有竖向设置的平切面；所述着力部远离定位环的一端从平切面延伸出。

15、作为优选，所述着力部可拆卸地连接于定位环。

16、作为优选，所述着力部和定位环，其中一者上设有螺头，另一者上螺孔，通过螺头和螺孔的螺纹配合实现着力部和定位环的螺纹连接。

17、本实用新型的其他优点和效果在具体实施方式和附图部分进行具体阐释。

技术特征：

1.一种等离子化学气相沉积的放样机构，包括水冷台和置于水冷台上的基片台，所述基片台上形成有用于放置样品基底的定位凹槽，其特征在于，所述基片台的顶面上设有环形的定位环，所述定位环铰接在基片台上以使所述定位环能够相对于基片台实现上下翻转；当定位环处于翻下状态时，所述定位环的下壁贴靠基片台的上顶面，且定位环与基片台的顶面之间合围形成所述定位凹槽。

2.根据权利要求1所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述定位环上设有着力部，在定位环的周向上，定位环的铰接位置与所述着力部的位置相错位。

3.根据权利要求2所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，定位环的铰接位置与所述着力部的位置处于相对侧。

4.根据权利要求2所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述着力部呈轴状结构，且所述着力部至少部分沿基片台的径向伸出基片台的外边沿以供把持。

5.根据权利要求4所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述着力部和基片台之间设有用于锁定着力部的锁定组件。

6.根据权利要求5所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述锁定组件包括磁铁和能够被磁铁吸附的磁吸件，所述磁铁和磁吸件，其中一个设于基片台上，另一个设于着力部上。

7.根据权利要求6所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述着力部构成所述磁吸件。

8.根据权利要求5所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述基片台的外周壁开设有竖向设置的平切面；所述着力部远离定位环的一端从平切面延伸出。

9.根据权利要求4所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述着力部可拆卸地连接于定位环。

10.根据权利要求9所述的一种等离子化学气相沉积的放样机构，其特征在于，所述着力部和定位环，其中一者上设有螺头，另一者上螺孔，通过螺头和螺孔的螺纹配合实现着力部和定位环的螺纹连接。

技术总结
本技术涉及等离子化学气相沉积装置技术领域，具体涉及一种等离子化学气相沉积的放样机构，包括水冷台和置于水冷台上的基片台，所述基片台上形成有用于放置样品基底的定位凹槽，所述基片台的顶面上设有环形的定位环，所述定位环铰接在基片台上以使所述定位环能够相对于基片台实现上下翻转；当定位环处于翻下状态时，所述定位环的下壁贴靠基片台的上顶面，且定位环与基片台的顶面之间合围形成所述定位凹槽；本技术方便在沉积完成后对样品的取出，而且也能够方便对定位凹槽内的杂质进行清理。

技术研发人员：余斌,余海粟,朱轶方,陆骁莹
受保护的技术使用者：杭州超然金刚石有限公司
技术研发日：20230627
技术公布日：2024/1/15