本申请属于太阳能,具体涉及一种旋转靶靶材tm(磁铁表面到靶材表面距离)自动调整机构及镀膜设备。
背景技术:
1、在太阳能电池片制备时需要在电池片的表面进行靶材镀膜。tm值为靶材磁铁到靶材表面的距离,此距离影响到靶材表面磁性的大小,进而影响到镀膜均匀性。在一个靶材的寿命周期内,靶材厚度会随着镀膜的进行逐渐降低;随着靶材厚度降低,tm值也会发生变动,想要维持镀膜均匀性,就需要对tm值进行实时调整,以使其始终处于同一值或极小的一个厚度范围内。
2、目前,常用的靶材有平面靶材何圆柱旋转靶材。对于平面靶材,一般采用高精度电机自动调整的方式实现了对tm的实时调整。而对于圆柱旋转靶材,在想要调整tm值时,一般需要对真空镀膜设备进行破真空,将圆柱旋转靶材卸下,再将磁铁抽出进行手动调整;这种破真空手动调整的方式需要耗费大量的时间及人力,阻断镀膜过程、且无法做到实时调整,从而会在一定程度上影响到镀膜品质,是亟待解决的疑难问题。
技术实现思路
1、本申请旨在至少在一定程度上解决上述相关技术中的技术问题之一。
2、为此,本申请的目的在于提供一种旋转靶靶材tm(磁铁表面到靶材表面距离)自动调整机构及镀膜设备,能够对磁铁的位置进行实时自动调整,从而实现对磁铁表面到旋转靶材表面距离的实时自动调整,解决了现有技术中需破真空、阻断镀膜过程的缺陷问题。
3、为了解决上述技术问题,本申请是这样实现的:
4、本申请实施例提供了一种旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述调整机构包括:第一固定板、磁铁定位板、若干磁铁以及若干磁铁上下调整组件;
5、所述第一固定板和所述磁铁定位板呈上下叠置设置;
6、所述磁铁上下调整组件依次排列,并设置在所述第一固定板和所述磁铁定位板之间;所述磁铁依次排列设于所述磁铁定位板的下方;所述磁铁上下调整组件和所述磁铁一一对应;
7、所述磁铁上下调整组件的上端与所述第一固定板连接,下端穿过所述磁铁定位板后与对应的所述磁铁连接,通过所述磁铁上下调整组件带动对应的所述磁铁上下移动。
8、另外,根据本申请的旋转靶靶材tm(磁铁表面到靶材表面距离)自动调整机构,还可以具有如下附加的技术特征:
9、在其中的一些实施方式中,所述磁铁上下调整组件包括电机及控制箱、蜗杆、蜗轮和轴承座;
10、所述电机及控制箱和所述轴承座并排设置,且均与位于其上方的所述第一固定板固定连接;
11、所述蜗杆的电机端与所述电机及控制箱连接,所述蜗杆的齿轮段与所述蜗轮啮合连接;
12、所述蜗轮的上端与所述轴承座可旋转连接,下端穿过所述磁铁定位板与对应的所述磁铁螺纹连接。
13、在其中的一些实施方式中,所述蜗轮包括蜗轮圆盘、上蜗轮螺杆和下蜗轮螺杆;
14、所述上蜗轮螺杆设于所述蜗轮圆盘的上方,所述下蜗轮螺杆设于所述蜗轮圆盘的下方,且所述上蜗轮螺杆、所述蜗轮圆盘和所述下蜗轮螺杆依次固定连接;
15、所述上蜗轮螺杆的上端与所述轴承座可旋转连接;所述下蜗轮螺杆的下端与所述磁铁螺纹连接;
16、所述蜗轮圆盘的外周设有与所述蜗杆啮合连接的啮齿。
17、在其中的一些实施方式中,所述磁铁为下表面具有弧度的方形板结构;
18、所述磁铁的上表面设有蜗轮螺杆孔,所述蜗轮螺杆孔与所述磁铁上下调整组件的下端螺纹连接;所述磁铁的上表面,所述蜗轮螺杆孔的两侧,分别设有至少一个磁铁定位销孔;固设于所述磁铁定位板下表面对应位置的定位销插设在对应的所述磁铁定位销孔内。
19、在其中的一些实施方式中,所述磁铁定位销孔的深度以及所述蜗轮螺杆孔的深度均为所述磁铁上下移动最大距离的1.5倍以上。
20、在其中的一些实施方式中,所述第一固定板和所述磁铁定位板均为长条状矩形板,且两者大小一致。
21、在其中的一些实施方式中,所述轴承座与所述第一固定板的固定连接具体为:所述轴承座内嵌在所述第一固定板内,并通过卡簧固定。
22、在其中的一些实施方式中,所述电机及控制箱包括壳体、电源、直流电机和电路板;
23、所述电源、所述直流电机和所述电路板均固设在所述壳体内部;
24、所述电源分别与所述直流电机和所述电路板电性连接;
25、所述直流电机的电机轴与所述蜗杆同轴设置,且两者固接。
26、在其中的一些实施方式中,所述电路板与外部镀膜设备通信连接。
27、本申请实施例还提供了一种旋转靶材镀膜设备,其包括如前所述的旋转靶靶材tm自动调整机构。
28、与现有技术相比,本实用新型的至少具有以下有益效果:
29、本申请实施例中,所提供的旋转靶靶材tm(磁铁表面到靶材表面距离)自动调整机构能够通过第一固定板、磁铁定位板以及磁铁上下调整组件的独特设置,实现对磁铁上下位置的实时自动调整,从而实现对磁铁表面到旋转靶材表面距离的实时自动调整;在这个过程中无需破真空,也无需阻断镀膜过程,极大提高镀膜效率和镀膜质量;在实测中,能够显著节省旋转靶材tm调整的时间,调整时间由原来的10小时调整为<1分钟。
30、本申请的旋转靶材镀膜设备包括所述的旋转靶靶材tm(磁铁表面到靶材表面距离)自动调整机构,因而至少具有所述的旋转靶靶材tm(磁铁表面到靶材表面距离)自动调整机构的所有特征及优势,在此不再赘述。本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
1.一种旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述调整机构包括:第一固定板、磁铁定位板、若干磁铁以及若干磁铁上下调整组件;
2.根据权利要求1所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述磁铁上下调整组件包括电机及控制箱、蜗杆、蜗轮和轴承座;
3.根据权利要求2所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述蜗轮包括蜗轮圆盘、上蜗轮螺杆和下蜗轮螺杆;
4.根据权利要求1所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述磁铁为下表面具有弧度的方形板结构;
5.根据权利要求4所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述磁铁定位销孔的深度以及所述蜗轮螺杆孔的深度均为所述磁铁上下移动最大距离的1.5倍以上。
6.根据权利要求1所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述第一固定板和所述磁铁定位板均为长条状矩形板,且两者大小一致。
7.根据权利要求2所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述轴承座与所述第一固定板的固定连接具体为:所述轴承座内嵌在所述第一固定板内,并通过卡簧固定。
8.根据权利要求2所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述电机及控制箱包括壳体、电源、直流电机和电路板;
9.根据权利要求8所述的旋转靶靶材tm自动调整机构,其特征在于,所述电路板与外部镀膜设备通信连接。
10.一种旋转靶材镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1至9中任一项所述的旋转靶靶材tm自动调整机构。