一种过滤蓝光防辐射的耐磨手机盖板及其制造方法
【技术领域】
[0001 ]本发明涉及一种过滤蓝光防辐射的耐磨手机盖板及其制造方法。
【背景技术】
[0002]随着现代生活手机的普遍使用，而且人们的生活越来越离不开手机，有很多人经常性的使用手机带来的结果是眼睛出现酸涩、疼痛、流泪等不舒服症状，更严重的出现视力下降，这些不舒服的症状是因为眼睛长时间对手机屏幕，由手机屏幕所散发出来的有害光线所致，手机屏幕发出的光是眼睛的大敌，普遍手机屏幕供应商为了体现手机屏幕的色彩对比度及饱和度，会提高手机屏幕背后的灯光亮度，这样会使屏幕表面像装了一片玻璃一样显得有质感，提高了清晰度，同样它也会像玻璃一样反射光线，但光线照向屏幕时会增加光线反射，尤其是晚上的时候消费者在使用手机时，LED灯光照向手机屏幕会增加光线反射，这样很容易被这些光线伤害到眼睛，并产生视觉疲劳的症状，慢慢的会引起视力下降和头痛的健康问题，手机屏幕产生的“不舒服的光”持续照射我们的眼睛还会引起视觉系统失调，手机屏幕发出的光让我们眼睛不舒服是因为这些光线里面含有大量不规则频率的高能短波蓝光，这些短波蓝光具有能量能穿透我们的眼球晶体直达视网膜，短波蓝光持续照射视网膜会产生大量自由基离子，这些自由基离子会使得视网膜的色素上皮细胞衰亡，上皮细胞的衰会使感光细胞缺少养分而引起视力损伤;这些短波蓝光也是引起黄斑部病变的主要起因，我们每天长时间面对手机屏幕产生的蓝光刺激，殊不知蓝光波长短能量高，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。蓝光约占可见光的50?60%，而蓝光也是引起黄斑部病变的主要原因之一，严重可能导致失明。蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮的萎缩，再引起光敏感细胞的衰亡，这是因为我们所处的是信息时代，人们的工作与学习都离不开手机，面对手机屏幕的时间越来越长，用眼的频率也越来越高。眼睛开始酸涩、疼痛、流泪，它凄切的告诉我们:我们的眼睛已经受到了伤害，需要在使用手机时得到保护。现有技术中出现了，用于过滤部分有害光线的手机屏幕盖板，然而其效果较差，不能满足用户的需求。
[0003]此外手机屏幕在使用过程中还会不断产生对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，随着人民健康意识的提高，如何有效的减低或防止辐射伤害越来越受到重视了。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种过滤蓝光防辐射的耐磨手机盖板及其制造方法，该方法制造出来的手机盖板具有防止有害蓝光和电子辐射等对人体的伤害，而且具有高耐磨性。
[0005]为实现上述目的，本发明采用以下技术方案:
一种过滤蓝光防辐射的耐磨手机盖板，包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层，所述第一膜层为五氧化三钛层，第一膜层的厚度为1-1OOnm;所述第二膜层为二氧化硅层，第二膜层的厚度为50-100nm;第三膜层为金属层，第三膜层的厚度为5-20nm;所述第四膜层为ITO层，第四膜层的厚度为10-1OOnm;所述第五膜层为高硬度层，该第五膜层的厚度为10-50mm。
[0006]所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
[0007]所述金属层的膜材为金合金、银合金、铀合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
[0008]所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
[0009]所述基板为树脂或玻璃成型。
[0010]本发明公开了所述手机盖板的基板为树脂成型时，所述手机盖板的制造方法，具体包括以下步骤:
1)对基板的外表面进行清洗；
2)对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-1 OOnm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7A/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1A/S，第三膜层最终形成后的厚度为5_20nm，其中第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为1A/S，第四膜层最终形成后的厚度为lO-lOOnm，其中第四膜层的膜材为ITO膜材，形成ITO层；
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7A/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第五膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。
[0011]所述步骤I)中，对基板外表面清洗的具体方法如下:将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。
[0012]本发明还公开了所述手机盖板的基板为玻璃成型时，所述手机盖板的制造方法，具体包括以下步骤:
1)对基板的外表面进行清洗；
2)对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层最终形成后的厚度为lO-lOOnm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7A/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1A/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铀合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为1A/S，第四膜层最终形成后的厚度为lO-lOOnm，其中第四膜层的膜材为ITO膜材，形成ITO层；
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时