一种抛光一体设备的定位夹持机构的制作方法
【技术领域】
[0001]本新型属于机械领域，尤其涉及一种研磨及抛光设备。
【背景技术】
[0002]抛光机，常常用作机械式的研磨、抛光及打蜡工作。其工作原理是:电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。对于一般机器而言，抛光的设备结构较为复杂，其主要在定位上，对于要求不高的小工件而言，夹持时的稳定性以及灵活性较为重要，但现有的设备不能满足该要求。
【实用新型内容】
[0003]本新型要解决的技术问题是提供一种便捷进行夹持及适应调节位置的定位机构。
[0004]通过以下技术方案实现上述目的:
[0005]—种抛光一体设备的定位夹持机构，包括精磨机构和抛光机构，其还包括移动夹具，所述的精磨机构包括追盘器、精磨盘和垂直升降单元，所述追盘器固定于垂直升降单元上，且追盘器位于精磨盘的上方；所述的移动夹具位于抛光机构的上方，移动夹具背面分别设有移动导航块和移动平移限位条；所述的移动夹具包括分别固定于支架上的下压调节单元、夹持单元、定位针以及手动调节单元，所述支架前表面设有三条垂直的导槽，所述的定位针位于支架一侧以及抛光机构的上方，所述的手动调节单元穿过位于支架中央的导槽且与支架相互垂直，夹持单元固定于支架的底部，所述的夹持单元由两相互分离且分列于两侧的夹块组成，所述的下压调节单元位于夹持单元与手动调节单元之间，下压调节单元与列于两侧的两导槽配合移动。
[0006]作为对上述一种抛光一体设备的定位夹持机构的进一步描述，其还包括平移机构，所述的平移机构包括第一水平移动杆、水平移动导轨和第二水平移动杆，所述的移动导航块与移动夹具相固定且包覆于第一水平移动杆上，所述的移动平移限位条位于第一水平移动杆的上方，所述的精磨机构背面分别设有精磨导航块和精磨平移限位条，所述的精磨导航块与精磨机构相固定且包覆于第二水平移动杆上，所述的精磨平移限位条位于第二水平移动杆的上方；所述的水平移动导轨分别位于第一水平移动杆和第二水平移动杆的上下两侧；所述的精磨机构和移动夹具的背面设有与所述水平移动导轨配合的固定槽。
[0007]作为对上述一种抛光一体设备的定位夹持机构的进一步描述，精磨平移限位条的两端部向精磨机构一侧凸起，而与精磨机构的两侧边抵靠；移动平移限位条的两端部向平移机构一侧凸起，而与平移机构的两侧边抵靠。
[0008]本新型的有益效果是:平移机构设有两水平移动杆，用以引导精磨机构和抛光机构按既定轨道进行水平移动。在两水平移动杆上方分别设置的精磨平移限位条、移动平移限位条，配合限位条内的精磨导航块、移动导航块，可令精磨机构和移动夹具在限位条两端部之间移动，从而在研磨及抛光移动过程中避免位置移动出错。移动夹具通过设置定位针来对抛光时进行距离测量，以判断抛光深度，夹持单元设置为分离的两块，可以更为便捷进行更换以及伸缩夹持，适应灵活的抛光需求；同时，本新型还设置一手动调节单元，主要用以人手进行微调，以达到加工时的校正目的。
【附图说明】
[0009]图1为本新型的整体结构图；
[0010]图2为本新型的移动夹具的结构图。
【具体实施方式】
[0011]以下结合附图1-2对本新型进行进一步说明:
[0012]一种抛光一体设备的定位夹持机构，包括精磨机构I和抛光机构2，其还包括移动夹具3，所述的精磨机构I包括追盘器11、精磨盘12和垂直升降单元13，所述追盘器11固定于垂直升降单元13上，且追盘器11位于精磨盘12的上方；所述的移动夹具3位于抛光机构2的上方，移动夹具3背面分别设有移动导航块和移动平移限位条；所述的移动夹具3包括分别固定于支架上的下压调节单元33、夹持单元34、定位针35以及手动调节单元36，所述支架5前表面设有三条垂直的导槽，所述的定位针35位于支架5 —侧以及抛光机构2的上方，所述的手动调节单元36穿过位于支架5中央的导槽51且与支架5相互垂直，夹持单元34固定于支架5的底部，所述的夹持单元34由两相互分离且分列于两侧的夹块组成，所述的下压调节单元33位于夹持单元34与手动调节单元36之间，下压调节单元33与列于两侧的两导槽52配合移动。
[0013]作为对上述一种抛光一体设备的定位夹持机构的进一步描述，其还包括平移机构4，所述的平移机构4包括第一水平移动杆41、水平移动导轨42和第二水平移动杆43，所述的移动导航块与移动夹具相固定且包覆于第一水平移动杆41上，所述的移动平移限位条位于第一水平移动杆41的上方(图中未标出)，所述的精磨机构I背面分别设有精磨导航块和精磨平移限位条，所述的精磨导航块与精磨机构I相固定且包覆于第二水平移动杆43上，所述的精磨平移限位条位于第二水平移动杆43的上方(图中未标出);所述的水平移动导轨42分别位于第一水平移动杆41和第二水平移动杆43的上下两侧；所述的精磨机构I和移动夹具3的背面设有与所述水平移动导轨42配合的固定槽44。
[0014]作为对上述一种抛光一体设备的定位夹持机构的进一步描述，精磨平移限位条的两端部向精磨机构I 一侧凸起，而与精磨机构I的两侧边抵靠；移动平移限位条的两端部向平移机构一侧凸起，而与平移机构的两侧边抵靠。
[0015]以上所述并非对本新型的技术范围作任何限制，凡依据本新型技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰，均仍属于本新型的技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种抛光一体设备的定位夹持机构，包括精磨机构和抛光机构，其特征在于:还包括移动夹具，所述的精磨机构包括追盘器、精磨盘和垂直升降单元，所述追盘器固定于垂直升降单元上，且追盘器位于精磨盘的上方；所述的移动夹具位于抛光机构的上方，移动夹具背面分别设有移动导航块和移动平移限位条；所述的移动夹具包括分别固定于支架上的下压调节单元、夹持单元、定位针以及手动调节单元，所述支架前表面设有三条垂直的导槽，所述的定位针位于支架一侧以及抛光机构的上方，所述的手动调节单元穿过位于支架中央的导槽且与支架相互垂直，夹持单元固定于支架的底部，所述的夹持单元由两相互分离且分列于两侧的夹块组成，所述的下压调节单元位于夹持单元与手动调节单元之间，下压调节单元与列于两侧的两导槽配合移动。2.根据权利要求1所述的一种抛光一体设备的定位夹持机构，其特征在于:还包括平移机构，所述的平移机构包括第一水平移动杆、水平移动导轨和第二水平移动杆，所述的移动导航块与移动夹具相固定且包覆于第一水平移动杆上，所述的移动平移限位条位于第一水平移动杆的上方，所述的精磨机构背面分别设有精磨导航块和精磨平移限位条，所述的精磨导航块与精磨机构相固定且包覆于第二水平移动杆上，所述的精磨平移限位条位于第二水平移动杆的上方；所述的水平移动导轨分别位于第一水平移动杆和第二水平移动杆的上下两侧；所述的精磨机构和移动夹具的背面设有与所述水平移动导轨配合的固定槽。3.根据权利要求2所述的一种抛光一体设备的定位夹持机构，其特征在于:精磨平移限位条的两端部向精磨机构一侧凸起，而与精磨机构的两侧边抵靠；移动平移限位条的两端部向平移机构一侧凸起，而与平移机构的两侧边抵靠。
【专利摘要】本新型公开了一种抛光一体设备的定位夹持机构，包括精磨机构和抛光机构，其还包括移动夹具；所述的移动夹具包括分别固定于支架上的下压调节单元、夹持单元、定位针以及手动调节单元，所述支架前表面设有三条垂直的导槽，所述的定位针位于支架一侧以及抛光机构的上方，所述的手动调节单元穿过位于支架中央的导槽且与支架相互垂直，夹持单元固定于支架的底部，所述的下压调节单元位于夹持单元与手动调节单元之间，下压调节单元与列于两侧的两导槽配合移动。本新型的移动夹具通过设置定位针来对抛光时进行距离测量，以判断抛光深度；同时，还设置一手动调节单元，主要用以人手进行微调，以达到加工时的校正目的。
【IPC分类】B24B41/06
【公开号】CN204913614
【申请号】CN201520662581
【发明人】赵钦平
【申请人】东莞市普华精密机械有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年8月27日