一种流化床反应器气流分布板装置制造方法
【专利摘要】一种流化床反应器气流分布板装置，包括气流分布板，气流分布板为厚度均匀的椭圆回转体，增强分布板强度，增加分布板开孔率；在气流分布板上均匀开孔并安装管状喷嘴，管状喷嘴竖直布置在气流分布板下方，管状喷嘴底部开小孔，管状喷嘴内安装导流板。本实用新型通过改变分布板形状、喷嘴结构和喷嘴布置，来减小对设备内壁的冲击和磨损，提高分布板强度，延长混合气反应停留时间，提高反应转化率。能延长设备使用寿命10%以上，提高转化率3%以上；减小对反应器设备内壁的冲击和磨损、延长设备使用寿命的分布板及喷嘴布置。
【专利说明】一种流化床反应器气流分布板装置
【技术领域】
[0001]本实用新型是一种流化床反应器气流分布板装置，属于多晶硅生产工艺【技术领域】。
【背景技术】
[0002]多晶硅行业作为新兴能源的行业，已经得到广泛的应用，随着产量的不断提升，生产过程中产生了大量四氯化硅副产物，需要通过冷氢化技术进行回收利用，以降低成本，减少环境污染，随着技术的不断成熟，对应的冷氢化反应器也相应国产化，并进行了不断改进，但流化床反应器内部的混合气仍然存在分布不均，气体流速过快，反应器壁磨损严重的问题，从而不能提高转化率，降低三氯氢硅产量。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种流化床反应器气流分布板装置，克服现有的混合气在反应器内不能分布均匀，气体出现偏流，分布板及反应器壁磨损严重的缺陷。
[0004]本实用新型的目的通过以下技术方案来具体实现:
[0005]一种流化床反应器气流分布板装置，包括气流分布板，气流分布板为厚度均匀的椭圆回转体，增强分布板强度，增加分布板开孔率；在气流分布板上均匀开孔并安装管状喷嘴，管状喷嘴竖直布置在气流分布板下方，管状喷嘴底部开小孔，增加混合气阻力，管状喷嘴内安装导流板，所述管状喷嘴，其中外围一圈管状喷嘴内安装垂直导流板，减小混合气体和硅粉对反应器内壁的冲刷和磨损，其余喷嘴内安装螺旋导流板，使混合气形成紊流，增加混合气停留时间，延长反应时间，提高转化率。
[0006]本实用新型通过改变分布板形状、喷嘴结构和喷嘴布置，来减小对设备内壁的冲击和磨损，提高分布板强度，延长混合气反应停留时间，提高反应转化率。能延长设备使用寿命10%以上，提高转化率3%以上；减小对反应器设备内壁的冲击和磨损、延长设备使用寿命的分布板及喷嘴布置。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
[0008]图1为本实用新型实施例所述一种流化床反应器气流分布板装置的结构图。
[0009]图中:1 一分布板 2—垂直导流管状喷嘴 3 —螺旋导流管状喷嘴。
【具体实施方式】
[0010]如图1所示，本实用新型实施例所述流化床反应器气流分布板装置，在椭圆回转体气流分布板I上面，加工若干孔，孔在水平面内均匀分布，垂直导流管状喷嘴2和螺旋导流管状喷嘴3竖直安装在气流分布板I下方，所有管状喷嘴底部开小孔，增加混合气阻力，其中最外一圈垂直导流管状喷嘴2,为垂直导流喷嘴,减小混合气体和娃粉对反应器内壁的冲刷和磨损，其余安装螺旋导流管状喷嘴3，喷嘴使混合气形成紊流，增加混合气停留时间，延长反应时间，提高反应转化率。
【权利要求】
1.一种流化床反应器气流分布板装置，包括气流分布板，其特征在于，气流分布板为厚度均匀的椭圆回转体，在气流分布板上均匀开孔并安装管状喷嘴，管状喷嘴竖直布置在气流分布板下方，管状喷嘴底部开小孔，管状喷嘴内安装导流板。
2.如权利要求1所述的一种流化床反应器气流分布板装置，其特征在于，所述管状喷嘴，其中外围一圈管状喷嘴内安装垂直导流板，其余喷嘴内安装螺旋导流板。
【文档编号】C01B33/03GK203653260SQ201320859941
【公开日】2014年6月18日 申请日期:2013年12月25日 优先权日:2013年12月25日
【发明者】张小军, 宋高杰, 张旭, 陈文岳, 杨振 申请人:新特能源股份有限公司