一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备的制作方法
【专利摘要】一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备，包括储液槽、澄清槽、配水槽、化盐槽和过滤装置；所述储液槽的进液口连接原料桶，储液槽的出液口通过管道、液压泵连接至澄清槽的进液口；所述澄清槽的出液口通过管道连接到配水槽的进液口；所述配水槽的出液口通过管道、液压泵连接到化盐槽的进液口；所述化盐槽的出液口通过管道、液压泵连接到过滤装置的进液口。本实用新型可以利用卤化物在盐水中产生大量絮状物并通过电荷作用吸附蓄积分散在盐水中的硅胶体颗粒，解决了硅胶体难以过滤的难题，使得硅杂质去除量稳定，大幅度减少盐水中硅含量。且结构简单，易于实现。
【专利说明】一种利用卤化物除盐水中娃杂质设备
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及化工设备，具体涉及一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备。
【背景技术】
[0002]在离子膜制备氢氧化钠过程中，采用盐及卤水作为主要原料，在生产过程中盐以固体形态加入水化为饱和盐水后供离子膜电解槽使用，化盐的水主要采用卤水及回收的雨水等。原盐中含有硫酸根和硅等杂质，同时卤水因采用地下盐矿采集、雨水经冲刷混凝土后进入碱性盐水中硅杂质含量很大。如果这些杂质大量的进入生产系统中，会引起离子膜运行电耗上升、性能下降甚至永久性损坏。目前在离子膜制碱行业内，盐水经电解槽电解后会有淡盐水产生，淡盐水再通过化盐达到饱和浓度后再供电解槽使用，整个盐水系统成为一个密闭的循环系统，由于硅杂质在整个盐水精制过程中无法去除，逐渐富集累积，随着离子膜装置运行时间的增长，对离子膜生产带来很大的危害。
实用新型内容
[0003]为克服上有技术的缺陷，本实用新型的目的旨在提出一种添加剂用量少、除杂率高的利用卤化物除盐水中硅杂质设备。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用如下之技术方案:
[0005]一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备，包括储液槽、澄清槽、配水槽、化盐槽和过滤装置；其特征在于:所述储液槽的进液口连接原料桶，储液槽的出液口通过管道、液压泵连接至澄清槽的进液口 ；所述澄清槽的出液口通过管道连接到配水槽的进液口 ；所述配水槽的出液口通过管道、液压泵连接到化盐槽的进液口 ；所述化盐槽的出液口通过管道、液压泵连接到过滤装置的进液口。
[0006]上述方案的解释及进一步方案如下:
[0007]1.上述方案中，所述澄清槽内设置有搅拌装置；所述搅拌装置包括搅拌叶和驱动电机。
[0008]2.上述方案中，所述过滤装置包括有一预处理槽、一过滤器、一压滤机，所述预处理槽、过滤器、压滤机之间都通过管道相连。
[0009]3.上述方案中，所述压滤机有出液口和出料口。
[0010]由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
[0011]本实用新型可以利用卤化物在盐水中产生大量絮状物并通过电荷作用吸附蓄积分散在盐水中的硅胶体颗粒，解决了硅胶体难以过滤的难题，使得硅杂质去除量稳定，大幅度减少盐水中硅含量。且结构简单，易于实现。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型的最佳实施例的结构示意图。
[0013]以上附图中:1、储液槽；2、澄清槽；3、配水槽；4、化盐槽；5、过滤装置；6、管道；7、液压泵；8、搅拌叶；9、驱动电机；10、预处理槽；11、过滤器；12、压滤机；13、出液口 ；14、出料口。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
[0015]实施例:参见图1所示:
[0016]一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备，包括储液槽1、澄清槽2、配水槽3、化盐槽4和过滤装置5 ;所述储液槽I的进液口连接原料桶，储液槽I的出液口通过管道6、液压泵7连接至澄清槽2的进液口 ；所述澄清槽2的出液口通过管道6连接到配水槽3的进液口 ；所述配水槽3的出液口通过管道6、液压泵7连接到化盐槽4的进液口 ；所述化盐槽4的出液口通过管道6、液压泵7连接到过滤装置5的进液口 ；所述澄清槽2内设置有搅拌装置；所述搅拌装置包括搅拌叶8和驱动电机9 ;所述过滤装置5包括有一预处理槽10、一过滤器11、一压滤机12，所述预处理槽10、过滤器11、压滤机12之间都通过管道6相连；所述压滤机12有出液口 13和出料口 14。
[0017]工作时，盐水和雨水从原料桶通过管道6流入储液槽I内，而后通过液压泵7流入澄清槽2内。同时，向澄清槽2内添加适量卤化物，开启驱动电机9进行搅拌，使其充分沉淀。搅拌一段时间后，停止搅拌，在静置作用下重力沉降，硅与卤化物充分作用，产生硅杂质沉淀，大量的沉淀被沉降排除。余下的液体流经配水槽3、化盐槽4后至过滤装置5，进行精过滤。最后，整个除娃杂质在设备中完成，从压滤机12的出液口 13流出的为除娃杂质后的盐水，从压滤机12的出料口 14流出的为含硅污泥。
[0018]本实用新型结构简单，操作方便。能够有效去除硅杂质，提高除杂能力。从而可以制备高纯度的精制盐水供离子膜使用，避免了盐水中硅杂质对离子膜运行产生的影响，延长了离子膜使用寿命，大大节约了生产成本。
[0019]上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型所做的等效变化或修饰，都应该涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备，包括储液槽(I)、澄清槽(2)、配水槽(3)、化盐槽(4)和过滤装置(5);其特征在于:所述储液槽(I)的进液口连接原料桶，储液槽(I)的出液口通过管道出)、液压泵(7)连接至澄清槽(2)的进液口 ；所述澄清槽(2)的出液口通过管道(6)连接到配水槽(3)的进液口 ；所述配水槽(3)的出液口通过管道￠)、液压泵(7)连接到化盐槽(4)的进液口 ；所述化盐槽(4)的出液口通过管道￠)、液压泵(7)连接到过滤装置(5)的进液口。
2.根据权利要求1所述的一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备，其特征在于:所述澄清槽(2)内设置有搅拌装置；所述搅拌装置包括搅拌叶(8)和驱动电机(9)。
3.根据权利要求1所述的一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备，其特征在于:所述过滤装置(5)包括有一预处理槽(10)、一过滤器(11)、一压滤机(12)，所述预处理槽(10)、过滤器(11)、压滤机(12)之间都通过管道(6)相连。
4.根据权利要求3所述的一种利用卤化物除盐水中硅杂质设备，其特征在于:所述压滤机(12)有出液口 (13)和出料口(14)。
【文档编号】C01D3/16GK204079503SQ201420556825
【公开日】2015年1月7日 申请日期:2014年9月26日 优先权日:2014年9月26日
【发明者】夏旭东, 蔡荣成, 薛邦红, 周爱华, 邓冰 申请人:江苏理文化工有限公司, 江西理文化工有限公司