一种玫瑰金薄片的制作方法

文档序号:11040102阅读:425来源:国知局
一种玫瑰金薄片的制造方法与工艺

本实用新型涉及面板领域,具体涉及一种玫瑰金薄片,其广泛应用于手机、遥控器、电器、仪表、玩具等产品领域。



背景技术:

现有技术中有在面板或背盖的正面设置玫瑰金油墨层或镀膜层的装饰方案,但这样的方案提供的面板或背盖正面不耐摩擦、易褪色和掉色,严重影响面板或背盖的质量;且膜层中可能涉及使用贵金属等价格昂贵的镀膜材料。而玫瑰金薄片因其具有令人心动的美艳外观,因而如何开发一种成本低、能稳定地大规模生产且耐磨擦、不褪色和不掉色的玫瑰金薄片是本领域需要解决的问题。



技术实现要素:

因此,本专利提供一种玫瑰金薄片,包括透明基片,位于基片背面且依次镀设的第一吸收材料层、第一介质材料层、第二介质材料层、第三介质材料层、第二吸收材料层和第四介质材料层,且第一吸收材料层和第二吸收材料层的镀膜材料相同且均为选自铬、锗和硅中的一种,第一介质材料层和第三介质材料层的镀膜材料相同且均为选自五氧化三钛和五氧化二铌中的一种,第二介质材料层和第四介质材料层的镀膜材料均为二氧化硅。

本专利中,所述透明基片例如玻璃基片包括与用户直接接触的正面(A面)和不与用户接触的背面(B面),本专利中的镀膜层均设置在基片背面,因而其在显示美观色彩的同时镀膜层不会出现刮伤、褪色和掉色等现象。

在一种具体的实施方式中,第一吸收材料层和第二吸收材料层均为锗层,第一介质材料层和第三介质材料层均为Ti3O5层。

在一种具体的实施方式中,所述第一吸收材料层和第二吸收材料层的厚度分别为5~25nm和30~47nm。

在一种具体的实施方式中,所述第一介质材料层和第三介质材料层的厚度均为20~60nm之间,所述第二介质材料层和第四介质材料层的厚度均为20~50nm之间。

在一种具体的实施方式中,所述第一锗层和第二锗层的厚度分别为5~25nm和30~47nm。

在一种具体的实施方式中,所述第一Ti3O5层和第二Ti3O5层的厚度均为20~60nm之间。

在一种具体的实施方式中,所述第一SiO2层和第二SiO2层的厚度均为20~50nm之间。

在一种具体的实施方式中,所述基片厚度为0.15~0.8mm。

在一种具体的实施方式中,所述基片为菲林或玻璃基片。

在一种具体的实施方式中,所述玫瑰金薄片还包括位于第四介质材料层6另一侧的油墨层。本实用新型中,在第四介质材料层的另一侧丝印油墨形成油墨层,实验发现不管丝印任何颜色的油墨都不会改变薄片正面显示玫瑰金色的效果,从而满足了市场的需求。

在一种具体的实施方式中,所述玫瑰金薄片为电子产品的显示面板时,所述油墨层位于其边框区;所述玫瑰金薄片为电子产品的背盖时,所述油墨层位于其背面的整面。

在一种具体的实施方式中,所述油墨层为黑色油墨层。

本实用新型中,所述薄片的基片为玻璃片或用于贴合在白片玻璃上的菲林片。本领域技术人员能理解的,所述镀膜材料均可以通过商购获取。本实用新型中,所述油墨层采用一般的丝印方法得到,其厚度一般为微米级。

本实用新型在透明玻璃(或菲林)基片的背面镀设特定的膜层,正面显示玫瑰金而得到一种玫瑰金薄片,填补了市场空白,满足了市场需求。

在一种具体的实施方式中,将已经清洗干净、无污染并检验合格的透明玻璃(或菲林)产品,放进真空镀膜机内,通过真空蒸镀镀膜机(如日本光驰机、新科隆机、中国台湾龙翩机、中国大陆南光机、腾胜机、振华机等)抽真空到5.0×10-3Pa左右或以上,基片表面加热到100℃左右(或不加热)进行离子清洁,通过调配相关的镀膜参数,将介质材料与吸收材料进行特定的有效搭配来实现本专利的目标。

本实用新型的目的是得到一种玫瑰金薄片,所述薄片的基片为玻璃或菲林,也即各镀膜层可以设置在菲林片上,且最终将该菲林片与白片玻璃贴合而得到玫瑰金玻璃片,也可以是各镀膜层直接镀设在玻璃片上而得到玫瑰金玻璃片。本领域技术人员容易理解的,所述基片的正面对于玻璃来说是指最终用于直接与用户接触的一面,其正面不设置任何膜层,背面为其镀膜面。基片的正面对于菲林片来说是指其最终将贴合至白片玻璃上的一面,其白片玻璃的正面不设置任何膜层,白片玻璃的背面为贴合面,菲林片的背面为其镀膜面。

有益效果:本实用新型提供的玫瑰金薄片用于手机、遥控器、电脑等电器、仪表、玩具等产品的前后盖面板中,具有外观美艳夺目,颜色持久耐用且不褪色的效果,本专利相应的工艺和产品均稳定可靠,满足了用户的高需求。

附图说明

图1为本实用新型所述薄片的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示,本实用新型提供一种玫瑰金薄片,包括透明基片10,位于基片背面且依次镀设的第一吸收材料层1、第一介质材料层2、第二介质材料层3、第三介质材料层4、第二吸收材料层5和第四介质材料层6,且第一吸收材料层和第二吸收材料层的镀膜材料均为锗,第一介质材料层和第三介质材料层的镀膜材料均为五氧化三钛,第二介质材料层和第四介质材料层的镀膜材料均为二氧化硅。所述薄片的制备方法如下。

采用日本光驰真空镀膜机进行镀制为例:将透明玻璃(或菲林)洗净,使其表面确保无污染,用治具将干净无污染的透明玻璃(或菲林)产品装在镀膜机的伞具上,放进真空镀膜机内进行抽气,抽真空到5×10-3Pa左右或以上,基片表面升温到100℃左右进行离子清洁,通过调配相关的镀膜参数,如采用晶控膜厚进行蒸发镀膜。沉积顺序为:透明玻璃(或菲林)/Ge:5~25nm/Ti3O5:20~60nm/SiO2:20~50nm/Ti3O5:20~60nm/Ge:30~47nm/SiO2:20~50nm。

同样的,采用本实用新型所述每层中任选的其它材料同样可以制备得到玫瑰金薄片,但每层所用材料改变时,可能需要相应调整各膜层的厚度值,以制备得到理想光泽的玫瑰金薄片。

此外,本领域技术人员能理解的,本实用新型中的每个步骤均是对基片进行整面镀膜。另外,当所述薄片用于后盖时,一般会在镀膜层上整面丝印油墨以遮盖内部电路,而当所述薄片用于前显示面板时,一般会在镀膜层上局部丝印油墨(如丝印油墨形成显示面板的边框区)。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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