寒冷气候下用于窗的低发射率涂层的制作方法

本申请要求2016年2月24日提交的临时申请号62/299,036的优先权，通过引用将其全文并入本文。发明背景发明领域本发明涉及具有高太阳能得热系数(shgc)和低总传热系数(u因数)的低发射率涂层。该涂层对于中空玻璃单元(igu)特别有用。技术考虑因素常规建筑窗玻璃为高度热发射的。太阳能容易通过这样的玻璃。为了减少太阳能的通过，将低发射率涂层施加到玻璃上。低发射率涂层充当，该热屏障降低辐射的红外(ir)能量(特别是热红外能量)的发射。发射率越低，涂层阻挡热ir能量的发射越好。太阳能得热系数(shgc)是窗阻挡太阳热好坏的量度。shgc越低，阻挡了越多的太阳热，即在建筑物内部太阳热积累越低。总传热系数(u因数)是通过窗的热损失的量度。u因数越低，通过窗的传热越低，即窗的隔热水平越高。用于建筑窗的常规低发射率涂层被设计用来提供低shgc和低u因数。低shgc阻挡通过窗进入结构内的太阳能(特别是太阳红外能量)。这些常规低发射率涂层帮助减少夏季的空调成本并且很好地适合温和及炎热气候。然而，这些常规低发射率涂层不太适合寒冷气候，例如有长的冬季和短的夏季的气候或有长时间非常寒冷天气的气候。在寒冷气候下，在短的夏季月份内对减少空调成本的关注远小于在年度剩余时间内对建筑物供暖的关注。对于寒冷气候，期望提供低发射率涂层，其提供比常规低发射涂层高的shgc，同时保持低u因数。高shgc使更多太阳热进入建筑物内以加热建筑物内部，而低u因数帮助保持建筑物内部的热量。任选地，还期望这样的低发射率涂层具有高可见光透射率。高可见光透射率使更多的光进入建筑物并降低对灯和人工照明的需要。任选地，还期望这样的低发射率涂层具有所期望的美观性，从而满足住宅和商业市场的需求。这些市场常期望能够与各种不同的建筑物颜色一起使用但仍然看起来美观的中性颜色。任选地，还期望如果这样的涂层阻挡至少一些引导朝向该涂层的太阳紫外(uv)辐射。太阳uv辐射可损坏家具并可引起褪色。任选地，还期望这样的涂层阻挡至少一些长波长太阳ir能量。发明概述低发射率涂层包含多个相调节层；第一金属功能层；和第二金属功能层，该第二金属功能层位于该第一金属功能层上方并与其间隔开，其中该低发射率涂层提供至少0.4的参考igu夏季/白天的shgc和不大于0.4英国热量单位/小时-平方英尺-华氏度(btu/hr-ft2-℉)(2.27瓦特/平方米-开氏度(w/m2k))的参考igu冬季/夜晚的u因数。第一金属功能层的几何厚度除以第二金属功能层的几何厚度的比率在0.6至2范围内，例如在0.6至1范围内。igu包含具有该低反射率涂层的基材。附图简要说明将参考以下附图描述本发明，其中相同的附图标记始终表示相同的部分。图1是具有本发明的低发射率涂层的单片透明体形式的涂覆制品的侧视图(未按比例)；图2是并入装双层玻璃的中空玻璃单元(igu)中的图1涂层的侧视图(未按比例)；图3是并入装三层玻璃的中空玻璃单元(igu)中的图1涂层的侧视图(未按比例)。优选实施方案说明空间或方向术语，例如“左”、“右”、“内”、“外”、“上”、“下”等是指本发明如附图所示。然而，本发明可采取各种供选择的取向，并因此这样的术语不被视为限制。说明书和权利要求书中使用的所有数字应理解为在所有情况下均由术语“约”修饰。“约”意指所述值的±10％的范围。本文公开的所有范围包括开始和结束范围值和其中包含的任何及所有子范围。本文公开的范围表示在规定范围内的平均值。关于涂覆层或膜，术语“在...上方”意指离所讨论的涂覆层或膜所位于的基材(或基底层)更远。例如，位于第一层“上方”的第二层意味着第二层位于比第一层离基材(或基底层)更远。第二层可与第一层直接接触。或者，一个或多个其他层可位于第一层和第二层之间。术语“膜”意指具有化学上不同的或均匀的材料组合物或混合物的区域。“层”包含一个或多个“膜”。“涂层”包含一个或多个“层”。术语“聚合物”或“聚合物的”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元共聚物，例如由两种或更多种类型的单体或聚合物形成的聚合物。术语“紫外辐射”意指波长在100nm至小于380nm范围内的电磁辐射。术语“可见辐射”或“可见光”意指波长在380nm至780nm范围内的电磁辐射。术语“红外辐射”意指波长在大于780nm至100,000nm范围内的电磁辐射。术语“太阳红外辐射”意指波长在1000nm至3000nm范围内的电磁辐射。术语“热红外辐射”意指波长在大于3000nm至100000nm范围内的电磁辐射。本文提及的所有文献均以其全文“通过引用并入”。术语“光学厚度”意指材料的几何厚度乘以在550nm的参考波长下材料的折射率。例如，具有5nm的几何厚度和在550nm的参考波长下折射率为2的材料会具有10nm的光学厚度。术语“回火的”或“热处理的”意指所讨论的制品或涂层已经或能够被加热到足以实现热回火、热弯曲或热强化的温度。这一定义包括，例如，在烘箱或炉中在至少580℃、例如至少600℃、例如至少620℃的温度下将制品加热一段时间以实现热回火、热弯曲或热强化。例如，将制品加热1至15分钟、例如1至5分钟范围内的一段时间。术语“可回火的”意指将所讨论的制品或涂层设计成经回火以供最终使用。术语“未回火的”和“未热处理的”意指没有回火或热处理的，或未设计成经回火或热处理以供最终使用。术语“金属”和“金属氧化物”分别包括硅和二氧化硅，以及传统上认可的金属和金属氧化物，即使硅常规上可能不被认为是金属。“至少”意指“大于或等于”。“不大于”意指“小于或等于”。除非另有规定，否则任何提及的量均为“重量百分比”。除非有相反指示，否则厚度值是几何厚度值。“掺杂剂”是可按至多10重量％、例如至多5重量％、例如至多重量％、例如至多2重量％的量存在的材料。例如，至多1重量％。例如，至多0.5重量％。例如，至多0.1重量％。术语“包括”与“包含”同义。术语“可固化的”意指能够聚合或交联的材料。“固化的”意指材料是至少部分聚合或交联的，优选完全聚合或交联的。lsg(光热比，lighttosolargain)比是可见光的透射率除以shgc。“参考igu”被定义为这样的igu：具有间隔开3mm的两片透明(clear)玻璃，其由0.5英寸(1.2mm)填充有空气的间隙分隔开，且第三表面上有涂层。“参考igu值”意指参考igu中涂层的报告值。“参考层叠单元”被定义为具有两片2.1mm的透明玻璃，其通过0.76mm的聚乙烯醇缩丁醛中间层连接且在第二表面上有涂层。参考层叠单元值意指当涂层在第二表面上并入参考层叠单元时的报告值。术语“太阳控制涂层”是指包含一个或多个影响涂覆制品的太阳性质(例如从涂层反射、由涂层吸收或透过涂层的太阳辐射量)的层或膜的涂层。除非有相反指示，否则光学和太阳控制性能值(例如，可见光透射率和/或雾度)是使用perkinelmer1050分光光度计测定的值。除非有相反指示，否则参考igu值是按照可从劳伦斯伯克利国家实验室得到的optics(v6.0)软件和window(v7.3.4.0)软件测定、测量窗玻璃中心(cog)、根据nfrc2010(包括nfrc100-2010)标准默认设置计算的值。除非有相反指示，否则u因数是冬季/夜晚的u因数。除非有相反指示，否则u因数以btu/hr-ft2-℉为单位报告。除非有相反指示，否则shgc值是夏季/白天的值。除非有相反指示，否则薄层电阻值是使用四点探针(例如，nagyinstrumentssd-600测量装置或alessi四点探针)测定的值。表面粗糙度值是使用instrumentdimension3100原子力显微镜测定的值。颜色值(例如l*、a*、b*、c*和色调°)按照国际照明委员会规定的1976cielab颜色体系。说明书和权利要求书中的l*、a*和b*值表示颜色中心点值。将本发明的太阳控制涂层并入正常制造变体中的参考igu或参考层叠单元应具有相对于中心点值小于4个cmc单位的δecmc色差(即δecmc<4)，优选小于2个cmc单位(即δecmc<2)。本发明的讨论可将某些特征描述为在某些限制内“特别地”或“优选地”(例如，在某些限制内“优选地”、“更优选地”或“甚至更优选地”)。应理解本发明不限于这些特定或优选的限制，而是包括本公开的整个范围。本发明以任何组合包含本发明的以下方面、由本发明的以下方面组成或基本上由本发明的以下方面组成。在单独的附图中说明了本发明的各个方面。然而，应理解这仅是为了便于说明和讨论。在本发明的实践中，一个附图中所示的本发明的一个或多个方面可与一个或多个其他附图中所示的本发明的一个或多个方面组合。将参考建筑透明体讨论本发明。“建筑透明体”意指位于建筑物上的任何透明体，例如窗、igu或天窗。然而，应理解本发明不限于用于建筑透明体，而可实践于在任何所需领域中的透明体，例如层叠或非层叠住宅或商业窗或用于陆地、天空、太空、水上或水下车辆的透明体。因此，应理解仅呈现具体公开的实例来解释本发明的一般构思，并且本发明不限于这些具体实例。另外，虽然典型的“透明体”可具有足够的可见光透射率，使得可通过透明体清楚地观察材料，但在本发明的实践中，“透明体”不需要对可见光透明，而可为半透明的。在图1中说明并入本发明特征的单片透明体形式的涂覆制品10。涂覆制品10包括具有第一主表面14和相对的第二主表面16的基材12。本发明的低发射率涂层30位于基材12的至少一个主表面的至少一部分上方。在图1所示的实例中，低发射率涂层30位于基材12的第二主表面16的至少一部分上方。低发射率涂层30包含第一相调节层40。第一金属功能层46位于第一相调节层40上方。第一底漆层(primerlayer)48位于第一金属功能层46上方。第二相调节层50位于第一金属功能层46上方(例如在第一底漆层48上方)。第二金属功能层58位于第二相调节层50上方。第二底漆层60位于第二金属功能层58上方。第三相调节层62位于第二金属功能层58上方(例如在第二底漆层60上方)。保护层92位于第三相调节层62上方。基材12可对可见辐射是透明的。“透明的”意指具有大于0％直至100％的可见辐射透射率。或者，该片可为半透明的。“半透明的”意指传播可见辐射使得与观察器相对一侧上的物体不是清晰可见的。合适材料的实例包括但不限于塑料基材(例如丙烯酸聚合物，例如聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸烷基酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含聚硅氧烷的聚合物；或用于制备这些的任何单体的共聚物，或它们的任何混合物)；陶瓷基材；玻璃基材；或以上任何的混合物或组合。例如，基材可包含常规的钠钙硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或含铅玻璃。玻璃可为透明玻璃。“透明玻璃”意指未着色或无色玻璃。或者，玻璃可为着色的或以其他方式有色的玻璃。玻璃可为热处理玻璃或未热处理玻璃。玻璃可具有任何类型(例如常规浮法玻璃)并且可为具有任何光学性质(例如任何可见辐射透射率值、紫外辐射透射率值、红外辐射透射率值或总太阳能透射率值)的任何组成。“浮法玻璃”意指通过常规浮法工艺形成的玻璃，其中将熔融玻璃沉积在熔融金属浴上并受控地冷却以形成浮法玻璃带。基材12例如可为透明浮法玻璃或可为着色或有色玻璃。基材12可具有任何期望的尺寸(例如长度、宽度、形状或厚度)。可用于本发明实践的玻璃的非限制性实例包括透明玻璃、gl-35tm、玻璃、玻璃、玻璃和玻璃，全部可从宾夕法尼亚州匹兹堡的ppgindustriesinc.商购得到。相调节层40、50、62包含非金属材料。例如，相调节层40、50、62可包含介电材料或半导体材料。例如，相调节层40、50、62可包含氧化物、氮化物、氮氧化物、硼化物、碳化物、碳氧化物、硼碳化物、硼氮化物、碳氮化物、或它们的混合物、组合、共混物或合金。用于相调节层40、50、62的合适材料的实例包括以下的氧化物、氮化物或氮氧化物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、铝、硼，和它们的混合物、组合、共混物或合金。这些材料可具有少量的其他材料。实例包括氧化铋中的锰、氧化铟中的锡等。另外，可使用金属合金或金属混合物的氧化物。实例包括含锌和锡的氧化物(例如锡酸锌)、铟-锡合金的氧化物、硅氮化物、硅铝氮化物、或铝氮化物。此外，可使用掺杂的金属氧化物、低氧化物、氮化物、低氮化物、或氮氧化物。实例包括锑或铟掺杂的锡氧化物或者镍或硼掺杂的硅氧化物。材料的特别实例包括锌氧化物、锡氧化物、硅氮化物、硅铝氮化物、硅镍氮化物、硅铬氮化物、锑掺杂的氧化锡、锡掺杂的氧化锌、铝掺杂的氧化锌、铟掺杂的氧化锌、氧化钛，或它们的混合物、组合、共混物或合金。相调节层40、50、62可包含单一材料。或者相调节层40、50、62可包含多种材料和/或多种膜。相调节层40、50、62可包含化学上不同的材料或相的分层序列膜，或可包含一种或多种化学上不同的材料或相的一种或多种复合材料。不同的相调节层40、50、62可包含相同的或不同的材料。相调节层40、50、62可具有相同的或不同的厚度。相调节层40、50、62允许调节由低发射率涂层30的层的各个界面边界部分地反射的或部分地透射的电磁辐射的相长和相消光学干涉。改变相调节层40、50、62的厚度和/或组成可改变低发射率涂层30的总反射率、透射率和/或吸收率，这可改变低发射率涂层30的太阳控制性能、热红外隔热性能、颜色和/或美观。另外，相调节层40、50、62为低发射率涂层30的其他层(例如金属功能层)提供化学和/或机械保护。相调节层40、50、62可充当抗反射层来抗金属功能层反射以减小整体可见光反射率和/或提高低发射率涂层30的可见光透射率。折射率大约为2的材料特别适用于金属功能层的抗反射。在所示的示例性涂层30中，第一相调节层40位于基材12的第二主表面16的至少一部分上方。第一相调节层40可为单层或可包含一个或多个上述抗反射材料膜或介电材料膜。第一相调节层40可对可见光透明。第一相调节层40可以或可以不在电磁波谱的一个或多个区域(例如可见光)内表现出最小吸收。第一相调节层40可包含金属氧化物、金属氧化物的混合物或金属合金氧化物。例如，第一相调节层40可包含掺杂的或未掺杂的锌和锡的氧化物。第一相调节层40可具有在75nm至112nm范围内的光学厚度。例如，在84nm至103nm范围内的光学厚度。例如，在89nm至99nm范围内的光学厚度。例如，在93nm至95nm范围内的光学厚度。第一相调节层40可具有在36nm至56nm范围内的几何厚度。例如，在42nm至52nm范围内的几何厚度。例如，在42nm至49nm范围内的几何厚度。例如，在44nm至48nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第一相调节层40可具有在75nm至112nm范围内的光学厚度。例如，在84nm至103nm范围内的光学厚度。例如，在89nm至99nm范围内的光学厚度。例如，在93nm至95nm范围内的光学厚度。在示例性的回火涂层30中，第一相调节层40可具有在37nm至56nm范围内的几何厚度。例如，在42nm至52nm范围内的几何厚度。例如，在44nm至49nm范围内的几何厚度。例如，在46nm至48nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第一相调节层40可具有在72nm至108nm范围内的光学厚度。例如，在81nm至99nm范围内的光学厚度。例如，在85nm至94nm范围内的光学厚度。例如，在89nm至91nm范围内的光学厚度。在示例性的未回火涂层30中，第一相调节层40可具有在36nm至54nm范围内的几何厚度。例如，在40nm至50nm范围内的几何厚度。例如，在42nm至47nm范围内的几何厚度。例如，在44nm至46nm范围内的几何厚度。第一相调节层40可包含具有第一膜42和第二膜44的多膜结构。第二膜44可位于第一膜42上方。第一膜42可为金属合金的氧化物或金属氧化物的混合物。例如，第一膜42可为锌和锡的合金或混合物的氧化物。“锌和锡的合金”意指真正的合金以及混合物。锌和锡的合金的氧化物可为通过锌和锡的阴极磁控溅射真空沉积而获得的氧化物。阴极可包含锌和锡，其比例为5重量％至95重量％的锌和95重量％至5重量％的锡，例如10重量％至90重量％的锌和90重量％至10重量％的锡。然而，还可使用锌和锡的其他比率。第一膜42的示例性金属合金氧化物可写作znxsn1-xo2-x(式1)，其中“x”在大于0至小于1的范围内变化。例如，“x”可大于0并且可为大于0至小于1之间的任何分数或小数。式1的化学计量形式是“zn2sno4”，常称作锡酸锌。可在氧的存在下由具有52重量％的锌和48重量％的锡的阴极溅射沉积锡酸锌层。例如，第一膜42可包含锡酸锌。可由包括另一种材料来改进阴极溅射特性的锌阴极沉积掺杂的氧化锌。例如，锌阴极可包括少量的锡(例如至多10重量％，例如至多5重量％)以改进溅射。在这种情况下，所得氧化锌膜将包括小百分比的氧化锡，例如至多10重量％的氧化锡，例如至多5重量％的氧化锡。其他材料的实例包括铝、铟、和它们的组合。优选地，其他材料包含锡。在氧的存在下由包含90重量％锌和10重量％锡的阴极沉积的锡掺杂的氧化锌材料在本文中被称作zno90/10。第二膜44可包含金属氧化物、掺杂的金属氧化物、或金属氧化物的混合物。例如，第二膜44可包含氧化锌或掺杂的氧化锌。例如，第二膜44可包含锡掺杂的氧化锌。例如，第二膜44可包含zno90/10。第二膜44可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。第一膜42可具有在24nm至46nm范围内的几何厚度。例如，在30nm至42nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第二膜44可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第一膜42可具有在26nm至46nm范围内的几何厚度。例如，在32nm至42nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第二膜44可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第一膜42可具有在24nm至44nm范围内的几何厚度。例如，在30nm至40nm范围内的几何厚度。金属功能层46、58在电磁波谱的红外辐射区域的至少一部分中(例如在电磁波谱的太阳红外辐射区域或热红外辐射区域中)提供电磁辐射的反射。涂层30可具有两个金属功能层。或者，涂层30可具有多于两个的金属功能层。可用于金属功能层46、58的材料的实例包括贵金属或近似贵金属。这样的金属的实例包括银、金、铂、钯、锇、铱、铑、钌、铜、汞、铼、铝、和它们的组合。例如，一个或多个金属功能层46、58可包含金属银。第一金属功能层46可包含任何以上金属。例如，第一金属功能层46可包含银。第一金属功能层46可为连续的层。例如，第一金属功能层46可具有在5nm至8.5nm范围内的几何厚度。例如，在6.5nm至7.5nm范围内的几何厚度。例如，在6.6nm至7.3nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第一金属功能层46可具有在5nm至8nm范围内的几何厚度。例如，在6nm至7.5nm范围内的几何厚度。例如，在6.5nm至7nm范围内的几何厚度。例如，在6.6nm至6.8nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第一金属功能层46可具有在5.5nm至8.5nm范围内的几何厚度。例如，在6.5nm至8nm范围内的几何厚度。例如，在6.8nm至7.5nm范围内的几何厚度。例如，在7nm至7.3nm范围内的几何厚度。底漆层48、60可位于与相关的在下面的金属功能层46、58直接接触。在涂覆工艺或后续加工(例如热回火)过程中底漆层48、60保护相关的金属功能层46、58。以金属形式沉积底漆材料。在后续加工(例如沉积上面的相调节层或热回火)过程中，一些或所有金属底漆材料氧化。当在相调节层中使用氧化物或氮化物材料时，底漆层48、60可分别包含亲氧(oxophillic)材料或亲氮(nitrophillic)材料。底漆层48、60不需要是全部相同的材料。底漆层48、60不需要具有相同的厚度。可用于底漆层48、60的材料的示例包括钛、铌、钨、镍、铬、铁、钽、锆、铝、硅、铟、锡、锌、钼、铪、铋、钒、锰、和它们的组合。优选地，底漆层48、60包含钛。第一底漆层48位于第一金属功能层46上方。第一底漆层48可为单膜或多膜层。第一底漆层48可包含任何上述材料。例如，第一底漆层48可包含钛。第一底漆层48可具有在1.5nm至3.6nm范围内的几何厚度。例如，在1.8nm至3.2nm范围内的几何厚度。例如，在1.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层中，第一底漆层48可具有在2.5nm至3.6nm范围内的几何厚度。例如，在2.7nm至3.3nm范围内的几何厚度。例如，在2.8nm至3.2nm范围内的几何厚度。例如，在2.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层中，第一底漆层48可具有在1.5nm至2.5nm范围内的几何厚度。例如，在1.7nm至2.3nm范围内的几何厚度。例如，在1.8nm至2.2nm范围内的几何厚度。例如，在1.9nm至2.1nm范围内的几何厚度。第二相调节层50可包含用于相调节层的任何上述材料。第二相调节层50可具有在136nm至204nm范围内的光学厚度。例如，在155nm至178nm范围内的光学厚度。例如，在162nm至172nm范围内的光学厚度。第二相调节层50可具有在65nm至102nm范围内的几何厚度。例如，在77nm至89nm范围内的几何厚度。例如，在81nm至86nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层中，第二相调节层50可具有在136nm至204nm范围内的光学厚度。例如，在153nm至187nm范围内的光学厚度。例如，在161nm至178nm范围内的光学厚度。例如，在168nm至172nm范围内的光学厚度。在示例性的回火涂层中，第二相调节层50可具有在65nm至102nm范围内的几何厚度。例如，在76nm至94nm范围内的几何厚度。例如，在80nm至89nm范围内的几何厚度。例如，在84nm至86nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层中，第二相调节层50可具有在147nm至181nm范围内的光学厚度。例如，在155nm至172nm范围内的光学厚度。例如，在162nm至166nm范围内的光学厚度。在示例性的未回火涂层中，第二相调节层50可具有在68nm至98nm范围内的几何厚度。例如，在73nm至90nm范围内的几何厚度。例如，在77nm至86nm范围内的几何厚度。例如，在81nm至83nm范围内的几何厚度。第二相调节层50可为单层或多层结构。例如，第二相调节层50可包括第一膜52、第二膜54、第三膜56和任选的第四膜57。第一膜52和/或第三膜56和/或任选的第四膜57可包含金属氧化物膜或掺杂的金属氧化物膜。例如，氧化锌膜或锡掺杂的氧化锌膜，例如zno90/10。第二膜54可包含金属合金氧化物膜。例如，第二膜54可包含锡酸锌膜。如果存在任选的第四膜57，可采用两个或更多个沉积步骤沉积第二膜54，其中在第二膜54的两个沉积步骤之间沉积第四膜57。第一膜52和/或第三膜56和/或任选的第四膜57可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。第二膜54可具有在62nm至84nm范围内的几何厚度。例如，在72nm至85nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第一膜52和/或第三膜56和/或任选的第四膜57可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第二膜54可具有在65nm至84nm范围内的几何厚度。例如，在75nm至85nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第一膜52和/或第三膜56和/或任选的第四膜57可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第二膜54可具有在62nm至81nm范围内的几何厚度。例如，在72nm至77nm范围内的几何厚度。第二金属功能层58位于第二相调节层50上方(例如在第三膜56上方)。第二金属功能层58可为连续的层。第二金属功能层58可包含用于金属功能层的任何上述材料。例如，第二金属功能层58可包含银。第二金属功能层58可具有在7nm至11nm范围内的几何厚度。例如，在8nm至10nm范围内的几何厚度。例如，在8.3nm至9.5nm范围内的几何厚度。例如，在8.7nm至9.2nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第二金属功能层58可具有在7nm至11nm范围内的几何厚度。例如，在8nm至10nm范围内的几何厚度。例如，在8.5nm至9.5nm范围内的几何厚度。例如，在9nm至9.2nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第二金属功能层58可具有在7nm至11nm范围内的几何厚度。例如，在8nm至10nm范围内的几何厚度。例如，在8.3nm至9.5nm范围内的几何厚度。例如，在8.7nm至8.9nm范围内的几何厚度。第二底漆层60可具有关于第一底漆层48的任何上述材料和/或厚度。例如，第二底漆层60可包含钛。第二底漆层60可具有在1.5nm至3.6nm范围内的几何厚度。例如，在1.8nm至3.2nm范围内的几何厚度。例如，在1.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层中，第二底漆层60可具有在2.5nm至3.6nm范围内的几何厚度。例如，在2.7nm至3.3nm范围内的几何厚度。例如，在2.8nm至3.2nm范围内的几何厚度。例如，在2.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层中，第二底漆层60可具有在1.5nm至2.5nm范围内的几何厚度。例如，在1.7nm至2.3nm范围内的几何厚度。例如，在1.8nm至2.2nm范围内的几何厚度。例如，在1.9nm至2.1nm范围内的几何厚度。第三相调节层62可包括关于第一和第二相调节层40、50的任何如上讨论的材料和/或层。例如，第三相调节层62可为多膜结构。第三相调节层62可具有在46nm至73nm范围内的光学厚度。例如，在55nm至68nm范围内的光学厚度。例如，在57nm至67nm范围内的光学厚度。第三相调节层62可具有在23nm至40nm范围内的几何厚度。例如，在27nm至35nm范围内的几何厚度。例如，在28nm至34nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第三相调节层62可具有在46nm至70nm范围内的光学厚度。例如，在52nm至64nm范围内的光学厚度。例如，在55nm至61nm范围内的光学厚度。例如，在57nm至59nm范围内的光学厚度。在示例性的回火涂层30中，第三相调节层62可具有在23nm至35nm范围内的几何厚度。例如，在26nm至32nm范围内的几何厚度。例如，在27nm至31nm范围内的几何厚度。例如，在28nm至30nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第三相调节层62可具有在59nm至73nm范围内的光学厚度。例如，在62nm至68nm范围内的光学厚度。例如，在65nm至67nm范围内的光学厚度。在示例性的未回火涂层30中，第三相调节层62可具有在26nm至40nm范围内的几何厚度。例如，在29nm至36nm范围内的几何厚度。例如，在31nm至35nm范围内的几何厚度。例如，在32nm至34nm范围内的几何厚度。例如，第三相调节层62可包括第一膜64和第二膜66。第一膜64可包含金属氧化物材料。例如，氧化锌或掺杂的氧化锌材料。例如，锡掺杂的氧化锌。例如，zno90/10。第二膜66可包含金属合金氧化物材料。例如，锡酸锌。第一膜64可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。第二膜66可具有在9nm至32nm范围内的几何厚度。例如，在14nm至28nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第一膜64可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，第二膜66可具有在9nm至28nm范围内的几何厚度。例如，在14nm至24nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第一膜64可具有在1nm至20nm范围内的几何厚度。例如，在5nm至15nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，第二膜66可具有在13nm至32nm范围内的几何厚度。例如，在18nm至28nm范围内的几何厚度。保护层92可为低发射率涂层30的最终层。保护层92可包含一种或多种非金属材料，例如关于相调节层的上述材料。或者，保护层92可包含金属材料。保护层92可对在下面的涂覆层提供化学和/或机械保护。例如，保护层92可为金属氧化物或金属氮化物层。例如，保护层92可包含二氧化钛。保护层92可具有在1nm至10nm范围内的几何厚度。例如，在4nm至5.5nm范围内的几何厚度。例如，在4.3nm至5.25nm范围内的几何厚度。例如，在4.4nm至5.05nm范围内的几何厚度。在示例性的回火涂层30中，保护层92可具有在4.5nm至5.5nm范围内的几何厚度。例如，在1nm至10nm范围内的几何厚度。例如，在2nm至8nm范围内的几何厚度。例如，在4.75nm至5.25nm范围内的几何厚度。例如，在4.95nm至5.05nm范围内的几何厚度。在示例性的未回火涂层30中，保护层92可具有在4nm至5nm范围内的几何厚度。例如，在4.3nm至4.7nm范围内的几何厚度。例如，在4.4nm至4.6nm范围内的几何厚度。第二金属功能层58比第一金属功能层46厚。第一金属功能层46的几何厚度除以第二金属功能层58的几何厚度的比率大于0.5。例如，大于或等于0.6。例如，在大于0.5至2的范围内，例如0.6至1.5。例如，在0.6至1的范围内。对于回火涂层30而言，第一金属功能层46的几何厚度除以第二金属功能层58的几何厚度的比率在0.6至1、例如0.6至0.9的范围内。例如，在0.7至0.8的范围内。例如，在0.72至0.76的范围内。对于未回火涂层30而言，第一金属功能层46的几何厚度除以第二金属功能层58的几何厚度的比率在0.6至1、例如0.67至1的范围内。例如，在0.75至0.85的范围内。例如，在0.8至0.84的范围内。可通过任何常规方法沉积低发射率涂层30。这样的方法的实例包括常规化学气相沉积(cvd)和几何气相沉积(pvd)方法。cvd工艺的实例包括喷雾热解。pvd工艺的实例包括电子束蒸发和真空溅射(例如磁控溅射气相沉积(msvd))。也可使用其他涂覆方法，例如但不限于溶胶-凝胶沉积。在一个非限制性实施方案中，可通过msvd沉积涂层30。低发射率涂层30具有在0.035至0.065范围内的发射率。例如，在0.04至0.06范围内。低发射率涂层30提供在0.4至0.65范围内的参考igushgc。例如，在0.45至0.62范围内。例如，在0.5至0.6范围内。例如，在0.55至0.59范围内。示例性的回火涂层30提供在0.55至0.585范围内的参考igushgc。例如，在0.57至0.58范围内。示例性的未回火涂层30提供在0.56至0.57范围内的参考igushgc。例如，在0.562至0.566范围内。低发射率涂层30提供在0.2至0.4btu/hr-ft2-℉(1.14至2.27w/m2-k)范围内的参考igu冬季/夜晚的u因数。例如，在0.22至0.35btu/hr-ft2-℉(1.25至1.99w/m2-k)范围内。例如，在0.23至0.31btu/hr-ft2-℉(1.31至1.76w/m2-k)范围内。例如，在0.24至0.30btu/hr-ft2-℉(1.36至1.70w/m2-k)范围内。示例性的回火涂层30提供在0.28至0.32btu/hr-ft2-℉(1.6至1.8w/m2-k)范围内的参考igu冬季/夜晚的u因数。例如，在0.29至0.30btu/hr-ft2-℉(1.66至1.68w/m2-k)范围内。示例性的未回火涂层30可提供在0.299至0.320btu/hr-ft2-℉(1.7至1.82w/m2-k)范围内的参考igu冬季/夜晚的u因数。例如，在0.301至0.308btu/hr-ft2-℉(1.71至1.75w/m2-k)范围内。低发射率涂层30提供在5％至20％范围内的参考igu外部可见反射率。例如，在7％至18％范围内。例如，在10％至15％范围内。例如，在11％至13％范围内。例如，在12％至13％范围内。低发射率涂层30提供在60％至95％范围内的参考igu可见光透射率。例如，在65％至85％范围内。例如，在70％至80％范围内。例如，在72％至76％范围内。例如，在74％至76％范围内。低发射率涂层30提供在80至95范围内的参考igu透射的l*。例如，在81至92范围内。例如，在85至91范围内。例如，在88至90范围内。例如，在89％至90％范围内。低发射率涂层30提供在1至-4范围内的参考igu透射的a*。例如，在0至-3范围内。例如，在-0.05至-2.75范围内。例如，在-1至-2.5范围内。低发射率涂层30提供在3至-1范围内的参考igu透射的b*。例如，在0至2.5范围内。例如，在0.5至2范围内。例如，在0.7至1.5范围内。低发射率涂层30提供在30至50范围内的参考igu外部反射的l*。例如，在35至45范围内。例如，在40至45范围内。例如，在41至43范围内。低发射率涂层30提供在3至-3.5范围内的参考igu外部反射的a*。例如，在0至-3范围内。例如，在-1至-2.75范围内。例如，在-1.5至-2.7范围内。低发射率涂层30提供在3至-3范围内的参考igu外部反射的b*。例如，在2至-2范围内。例如，在1至-1范围内。例如，在0.5至-0.5范围内。图2显示并入装双层玻璃的中空玻璃单元(igu)100内的图1的涂层30。igu100包括第一片112，该第一片112具有面向建筑物外部的第一主表面114(第一表面)(即朝向外的主表面)和面向建筑物内部的第二主表面116(第二表面)(即朝向内的主表面)。中空玻璃单元100包括第二片118，该第二片118具有朝向外的主表面120(第三表面)和朝向内的主表面122(第四表面)。第二片118与第一片112间隔开。这种片表面的编号与开窗术领域中的常规实践一致。第一片和第二片112、118可具有用于基材12的任何上述材料。第二片118可与第一片112相同或者第二片118可与第一片112不同。第一片和第二片112、118每个可为例如透明浮法玻璃或者可为着色的或有色玻璃，或者一片112、118可为透明玻璃而另一片112、118为有色玻璃。可采用任何合适方式将第一片和第二片112、118连接在一起，例如通过胶黏结合到常规间隔框架124。在两片12,118之间形成间隙或腔室126。可用选定的气氛(例如气体，如空气或非反应性气体，如氩气或氪气)填充腔室126。低发射率涂层30可位于任何表面114、116、120或122上。在所说明的实例中，低发射率涂层30位于第三表面120上。图3显示并入装三层玻璃的中空玻璃单元(igu)200内的图1的涂层30。igu200包括第一片212，该第一片212具有面向建筑物外部的第一主表面214(第一表面)(即朝向外的主表面)和面向建筑物内部的第二主表面216(第二表面)(即朝向内的表面)。中空玻璃单元200包括第二片218，该第二片218具有朝向外的主表面220(第三表面)和朝向内的主表面222(第四表面)。中空玻璃单元200包括第三片224，该第三片224具有朝向外的主表面226(第五表面)和朝向内的主表面228(第六表面)。第一片212、第二片218和第三片224彼此间隔开。这种片层表面的编号与开窗术领域中的常规实践一致。可采用任何合适方式将第一片、第二片和第三片212、218和224连接在一起，例如通过胶黏结合到常规间隔框架232。在第一片212和第二片218之间限定第一间隙或腔室234，并且在第二片218和第三片224之间形成第二间隙或腔室236。可用选定的气氛(例如气体，如空气或非反应性气体，如氩气或氪气)填充腔室234和236。低发射率涂层30可位于任何表面214、216、220、222、226或228上。在所说明的实例中，低发射率涂层30位于第五表面226上。第一片、第二片和/或第三片212、218、234可具有用于基材12的任何上述材料。片可为相同的或者一个或多个片可与另外的一个或多个片不同。片每个可为例如透明浮法玻璃或者可为着色的或有色玻璃，或者一个或多个片可为透明玻璃而另外的一个或多个片可为有色玻璃。第二涂层238可位于玻璃片的一个或多个其他表面上。例如，第二涂层238可位于第二表面216上、第三表面220上或第四表面222上。优选地，第二涂层238位于第二表面216上或第三表面220上。更优选地，第二涂层238位于第三表面220上。第二涂层238可与第一涂层30相同。或者，第二涂层238可与第一涂层30不同。例如，第一涂层30可具有两个金属功能层而第二涂层238可具有仅一个金属功能层。第二涂层238可具有比第一涂层30高的shgc。第二涂层238可具有比第一涂层30高的u因数。示例性的第二涂层238是可从ppgindustries,inc商购得到的sungate400涂层。实施例图1显示本发明的示例性的回火涂层(样品1)和示例性的未回火涂层(样品2)。每个涂层都形成于3mm的透明浮法玻璃上片。报道的厚度为以nm计的几何厚度。由含有10重量％锡和90重量％锌(即zno90/10)的阴极沉积样品中的锡掺杂的氧化锌膜。“pal”意指相调节层。每个第一pal都是在锡酸盐膜上方的锡掺杂的氧化锌膜。锡掺杂的氧化锌膜具有在5至15nm范围内的几何厚度。每个第二pal都是锡掺杂的氧化锌/锡酸锌/锡掺杂的氧化锌的层，且每个锡掺杂的氧化锌膜具有在5至15nm范围内的几何厚度。第三pal是在锡掺杂的氧化锌膜上方的锡酸锌膜，且锡掺杂的氧化锌膜具有在5至15nm范围内的几何厚度。保护层“pl”是二氧化钛。底漆层是二氧化钛(作为金属沉积并通过进一步的加工步骤至少部分氧化。反射层(ir#1和ir#2)是金属银。在生产涂覆机上制造样品1和样品2。表1样品pal#1ir#1底漆#1pal#2ir#2底漆#2pal#2pl1476.73859.132952457.22828.82334.5表2显示使用perkinelmermodel1050按照仪器指南对样品1测量的光学数据。表3显示使用perkinelmermodel1050按照仪器指南对样品2测量的光学数据。“uv”是在300至380nm范围内的紫外辐射百分比。“vis”是可见辐射(光源d65，2°观察器(observer))。“ir”是在780nm至2500nm范围内的红外辐射百分比。“太阳”是在300nm至2500nm范围内太阳辐射百分比(按照iso9050标准测量)。颜色参数l*、a*、b*、c*和色调°是对于光源d65，10°观察器而言的值。表2uvvisir太阳l*a*b*c*色调°透射率22.7083.4029.4556.8193.17-0.320.660.73115.57前反射率29.435.2954.0426.9427.49-4.232.414.87150.32后反射率19.305.3437.1119.8327.732.67-5.486.09295.96表3uvvisir太阳l*a*b*c*色调°透射率19.2882.2824.8953.6392.68-1.241.101.66138.45前反射率27.644.7457.7328.2225.95-2.871.683.33149.66后反射率16.535.1539.7120.727.213.17-5.316.18300.87表4和表5显示对于具有两片3mm透明浮法玻璃且在这两片之间具有0.5英寸间隙和在第三表面上有涂层的参考igu的参考igu数据。术语“空气”意指igu为参考igu，即间隙由空气填充。t(v)意指可见辐射透射率百分比。re(v)意指可见辐射的外反射率百分比。ri(v)意指可见辐射的内反射率百分比。t(s)意指太阳辐射透射率百分比。re(s)意指太阳辐射的外反射率百分比。ri(s)意指太阳辐射的内反射率百分比。uv(t)意指紫外辐射透射率百分比。uf(w)意指冬季/夜晚的u因数(btu/hr-ft2-℉)。uf(s)意指夏季/白天的u因数(btu/hr-ft2-℉)。sc意指遮蔽系数。shgc意指夏季/白天的太阳能得热系数。lsg意指光与太阳增益比。l*(t)、a*(t)和b*(t)意指透射的l*、a*、b*。l*(re)、a*(re)和b*(re)意指外部反射的l*、a*、b*。表4样品atmt(v)re(v)ri(v)t(s)re(s)ri(s)uv(t)uf(w)uf(s)1空气75.312.911.446.427.525.220.40.2960.2772空气74.212.411.043.728.426.117.50.3020.286表5样品atmscshgclsgl*(t)a*(t)b*(t)l*(re)a*(re)b*(re)1空气0.6650.5791.3089.51-1.310.7842.59-2.610.352空气0.6480.5641.3289.02-2.181.2041.92-1.94-0.03表6和表7显示对于具有两片3mm透明浮法玻璃且在这两片之间具有0.5英寸间隙和在第三表面上有涂层的参考igu的参考igu数据。术语“ar90”意指igu在间隙中具有百分之九十的氩和百分之十的空气。表6样品atmt(v)re(v)ri(v)t(s)re(s)ri(s)uv(t)uf(w)uf(s)1ar9075.312.911.446.427.525.220.40.2490.2232ar9074.212.411.043.728.426.117.50.2560.233表7样品atmscshgclsgl*(t)a*(t)b*(t)l*(re)a*(re)b*(re)1ar900.6690.5821.2989.51-1.310.7842.59-2.610.352ar900.6520.5681.3189.02-2.181.2041.92-1.94-0.03可参考以下编号的条款进一步描述本发明：条款1：低发射率涂层30，包含：多个相调节层40、50、62；第一金属功能层46；和第二金属功能层58，位于该第一金属功能层46上方并与其间隔开，其中该低发射率涂层30提供至少0.4的参考igu夏季/白天的shgc和不大于0.4btu/hr-ft2-℉的参考igu冬季/夜晚的u因数。条款2：条款1的低发射率涂层30，包含第一相调节层40；第一金属功能层46，位于该第一相调节层40上方；第一底漆层48，位于该第一金属功能层46上方；第二相调节层50，位于该第一底漆层48上方；第二金属功能层58，位于该第二相调节层50上方；第二底漆层60，位于该第二金属功能层58上方；第三相调节层62，位于该第二底漆层60上方；和保护层92，位于该第三相调节层62上方。条款3：条款1或2的低发射率涂层30，其中相调节层40、50、62包含非金属层。条款4：条款1至3任一项的低发射率涂层30，其中相调节层40、50、62包含介电材料或半导体材料。条款5：条款1至4任一项的低发射率涂层30，其中相调节层40、50、62包含氧化物、氮化物、氮氧化物、或它们的混合物。条款6：条款1至5任一项的低发射率涂层30，其中相调节层40、50、62包含以下的氧化物、氮化物或氮氧化物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡，和它们的混合物。条款7：条款1至6任一项的低发射率涂层30，其中相调节层40、50、62包含一种或多种金属、金属合金或金属混合物的氧化物，优选含有锌和锡的氧化物。条款8：条款1至7任一项的低发射率涂层30，其中相调节层40、50、62包含多个膜。条款9：条款1至8任一项的低发射率涂层30，其中第一相调节层40包含锌和锡的氧化物。条款10：条款1至9任一项的低发射率涂层30，其中第一相调节层40具有在72nm至112nm范围内的光学厚度，优选在84nm至103nm范围内的光学厚度，更优选在89nm至95nm范围内的光学厚度。条款11：条款1至10任一项的低发射率涂层30，其中第一相调节层40具有在36nm至56nm范围内的几何厚度，优选在42nm至49nm范围内的几何厚度，更优选在44nm至48nm范围内的几何厚度。条款12：条款1至11任一项的低发射率涂层30，其中第一相调节层40包含第一膜42和第二膜44。条款13：条款12的低发射率涂层30，其中第一膜42包含金属合金氧化物或金属氧化物的混合物。条款14：条款12或13的低发射率涂层30，其中第二膜44包含金属氧化物膜、掺杂的金属氧化物膜、或氧化物混合物膜。条款15：条款12至14任一项的低发射率涂层30，其中第一膜42包含锌和锡，优选锌/锡合金氧化物，更优选锡酸锌。条款16：条款12至15任一项的低发射率涂层30，其中第二膜44包含金属氧化物，优选掺杂的氧化锌，更优选锡掺杂的氧化锌。例如，zno90/10。条款17：条款12至16任一项的低发射率涂层30，其中第二膜44具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款18：条款12至17任一项的低发射率涂层30，其中第一膜42具有在24nm至46nm范围内的几何厚度，优选在30nm至42nm范围内的几何厚度。条款19：条款1至18任一项的低发射率涂层30，其中金属功能层46、58包含选自银、金、铂、钯、锇、铱、铑、钌、铜、汞、铼、铝、和它们的组合的材料，优选是银。条款20：条款1至19任一项的低发射率涂层30，其中第一金属功能层46具有在5nm至8.5nm范围内的几何厚度，优选在6.5nm至7.5nm范围内的几何厚度，更优选在6.6nm至7.3nm范围内的几何厚度。条款21：条款2至20任一项的低发射率涂层30，其中底漆层48、60包括选自钛、铌、钨、镍、铬、铁、钽、锆、铝、硅、铟、锡、锌、钼、铪、铋、钒、锰、和它们的组合的材料，优选是钛。条款22：条款2至21任一项的低发射率涂层30，其中第一底漆层48具有在1.5nm至3.6nm范围内的几何厚度，优选在1.8nm至3.2nm范围内的几何厚度，更优选在1.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。条款23：条款1至22任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50具有在136nm至204nm范围内的光学厚度，优选在155nm至178nm范围内、更优选在162nm至172nm范围内的光学厚度。条款24：条款1至23任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50具有在65nm至102nm范围内的几何厚度，优选在77nm至89nm范围内的几何厚度，更优选在81nm至86nm范围内的几何厚度。条款25：条款1至24任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50包含第一膜52、第二膜54、第三膜56和任选的第四膜57。条款26：条款25的低发射率涂层30，其中第一膜52和/或第三膜56和/或任选的第四膜57包含金属氧化物，优选掺杂的金属氧化物，更优选锡掺杂的氧化锌。例如，zno90/10。条款27：条款25或26的低发射率涂层30，其中第二膜54包含金属合金氧化物，优选锡酸盐。条款28：条款25至27任一项的低发射率涂层30，其中第一膜52和/或第三膜56和/或任选的第四膜57具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款29：条款25至28任一项的低发射率涂层30，其中第二膜54具有在62nm至84nm范围内的几何厚度，优选在72nm至85nm范围内的几何厚度。条款30：条款1至29任一项的低发射率涂层30，其中第二金属功能层58包含银。条款31：条款1至30任一项的低发射率涂层30，其中第二金属功能层58具有在7nm至11nm范围内的几何厚度，优选在8.3nm至9.5nm范围内的几何厚度，更优选在8.7nm至9.2nm范围内的几何厚度。条款32：条款2至31任一项的低发射率涂层30，其中第二底漆层60包含钛。条款33：条款2至32任一项的低发射率涂层30，其中第二底漆层60具有在1.5nm至3.6nm范围内的几何厚度，优选在1.8nm至3.2nm范围内的几何厚度，更优选在1.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。条款34：条款1至33任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62具有在46nm至73nm范围内的光学厚度，优选在55nm至68nm范围内的光学厚度，更优选在57nm至67nm范围内的光学厚度。条款35：条款1至34任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62具有在23nm至40nm范围内的几何厚度，优选在27nm至35nm范围内的几何厚度，更优选在28nm至34nm范围内的几何厚度。条款36：条款1至35任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62包含第一膜64和第二膜66。条款37：条款36的低发射率涂层30，其中第一膜64包含金属氧化物，优选掺杂的金属氧化物，更优选锡掺杂的氧化锌。例如，zno90/10。条款38：条款36或37的低发射率涂层30，其中第二膜66包含金属合金氧化物材料，优选锡酸锌。条款39：条款36至38任一项的低发射率涂层30，其中第一膜64具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款40：条款36至39任一项的低发射率涂层30，其中第二膜66具有在9nm至32nm范围内的几何厚度，优选在14nm至28nm范围内的几何厚度。条款41：条款2至40任一项的低发射率涂层30，其中保护层92选自金属、金属氧化物和金属氮化物，优选为二氧化钛。条款42：条款2至41任一项的低发射率涂层30，其中保护层92具有在4nm至5.5nm范围内的几何厚度，优选在4.3nm至5.25nm范围内的几何厚度，更优选在4.4nm至5.05nm范围内的几何厚度。条款43：条款1至42任一项的低发射率涂层30，其中涂层30具有在0.035至0.065范围内、优选在0.04至0.06范围内的发射率。条款44：条款1至43任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在0.4至0.65范围内、优选在0.5至0.6范围内、更优选在0.55至0.59范围内的参考igushgc。条款45：条款1至44任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在0.2至0.4btu/hr-ft2-℉(1.14至2.27w/m2-k)范围内、优选在0.23至0.31btu/hr-ft2-℉(1.31至1.76w/m2-k)范围内、更优选在0.24至0.30btu/hr-ft2-℉(1.36至1.70w/m2-k)范围内的参考igu冬季/夜晚的u因数。条款46：条款1至45任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在5％至20％范围内、优选在10％至15％范围内、更优选在11％至13％范围内的参考igu外部可见反射率。条款47：条款1至46任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在60％至95％范围内、优选在70％至80％范围内、更优选在72％至76％范围内的参考igu可见光透射率。条款48：条款1至47任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在80至95范围内、优选在85至91范围内、更优选在88至90范围内的参考igu透射的l*。条款49：条款1至48任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在1至-4范围内、优选在-0.05至-2.75范围内、更优选在-1至-2.5范围内的参考igu透射的a*。条款50：条款1至49任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在3至-1范围内、优选在0.5至2范围内、更优选在0.7至1.5范围内的参考igu透射的b*。条款51：条款1至50任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在30至50范围内、优选在40至45范围内、更优选在41至43范围内的参考igu外部反射的l*。条款52：条款1至51任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在3至-3.5范围内、优选在-1至-2.75范围内、更优选在-1.5至-2.7范围内的参考igu外部反射的a*。条款53：条款1至52任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在3至-3范围内、优选在1至-1范围内、优选在0.5至-0.5范围内的参考igu外部反射的b*。条款54：条款1至53任一项的低发射率涂层30，其中涂层30是回火涂层。条款55：条款54的低发射率涂层30，其中第一相调节层40具有在75nm至112nm范围内的光学厚度，优选在84nm至103nm范围内的光学厚度，更优选在93nm至95nm范围内的光学厚度。条款56：条款54或55的低发射率涂层30，其中第一相调节层40具有在37nm至56nm范围内的几何厚度，优选在44nm至49nm范围内的几何厚度，更优选在46nm至48nm范围内的几何厚度。条款57：条款54至56任一项的低发射率涂层30，其中第一相调节层40包含第一膜42和第二膜44，并且第二膜44具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款58：条款57的低发射率涂层30，其中第一膜42具有在26nm至46nm范围内的几何厚度，优选在32nm至42nm范围内的几何厚度。条款59：条款54至58任一项的低发射率涂层30，其中第一金属功能层46具有在5nm至8nm范围内的几何厚度，优选在6.5nm至7nm范围内的几何厚度，更优选在6.6nm至6.8nm范围内的几何厚度。条款60：条款54至59任一项的低发射率涂层30，其中第一底漆层48具有在2.5nm至3.6nm范围内的几何厚度，优选在2.8nm至3.2nm范围内的几何厚度，更优选在2.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。条款61：条款54至60任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50具有在136nm至204nm范围内的光学厚度，优选在161nm至178nm范围内、更优选在168nm至172nm范围内的光学厚度。条款62：条款54至61任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50具有在68nm至102nm范围内的几何厚度，优选在80nm至89nm范围内的几何厚度，更优选在84nm至86nm范围内的几何厚度。条款63：条款54至62任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50包含第一膜52、第二膜54、第三膜56和任选的第四膜57，并且其中第一膜54和/或第三膜56和/或任选的第四膜57具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款64：条款63的低发射率涂层30，其中第二膜54具有在65nm至84nm范围内的几何厚度，优选在75nm至85nm范围内的几何厚度。条款65：条款54至64任一项的低发射率涂层30，其中第二金属功能层58具有在7nm至11nm范围内的几何厚度，优选在8.5nm至9.5nm范围内的几何厚度，更优选在9nm至9.2nm范围内的几何厚度。条款66：条款54至65任一项的低发射率涂层30，其中第二底漆层60具有在2.5nm至3.6nm范围内的几何厚度，优选在2.8nm至3.2nm范围内的几何厚度，更优选在2.9nm至3.1nm范围内的几何厚度。条款67：条款66的低发射率涂层30，其中第三相调节层62具有在46nm至70nm范围内的光学厚度，优选在55nm至61nm范围内的光学厚度，更优选在57nm至59nm范围内的光学厚度。条款68：条款54至67任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62具有在23nm至35nm范围内的几何厚度，优选在27nm至31nm范围内的几何厚度，更优选在28nm至30nm范围内的几何厚度。条款69：条款54至68任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62包含第一膜64和第二膜66。条款70：条款69的低发射率涂层30，其中第一膜64具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款71：条款69或70的低发射率涂层30，其中第二膜66具有在9nm至28nm范围内的几何厚度，优选在14nm至24nm范围内的几何厚度。条款72：条款54至71任一项的低发射率涂层30，其中保护层92具有在4.5nm至5.5nm范围内的几何厚度，优选在4.75nm至5.25nm范围内的几何厚度，更优选在4.95nm至5.05nm范围内的几何厚度。条款73：条款54至72任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在0.55至0.585范围内、优选在0.57至0.58范围内的参考igushgc。条款74：条款54至73任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在0.28至0.32btu/hr-ft2-℉(1.6至1.8w/m2-k)范围内、优选在0.29至0.30btu/hr-ft2-℉(1.66至1.68w/m2-k)范围内的参考igu冬季/夜晚的u因数。条款75：条款1至53任一项的低发射率涂层30，其中涂层30是未回火涂层。条款76：条款75的低发射率涂层30，其中第一相调节层40具有在72nm至108nm范围内的光学厚度，优选在85nm至94nm范围内的光学厚度，更优选在89nm至91nm范围内的光学厚度。条款77：条款75或76的低发射率涂层30，其中第一相调节层40具有在36nm至54nm范围内的几何厚度，优选在42nm至47nm范围内的几何厚度，更优选在44nm至46nm范围内的几何厚度。条款78：条款75至77任一项的低发射率涂层30，其中第一相调节层40包含第一膜42和第二膜44，并且第一膜42具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款79：条款78的低发射率涂层30，其中第二膜44具有在24nm至44nm范围内的几何厚度，优选在30nm至40nm范围内的几何厚度。条款80：条款75至79任一项的低发射率涂层30，其中第一金属功能层46具有在5.5nm至8.5nm范围内的几何厚度，优选在6.8nm至7.5nm范围内的几何厚度，更优选在7nm至7.3nm范围内的几何厚度。条款81：条款75至80任一项的低发射率涂层30，其中第一底漆层48具有在1.5nm至2.5nm范围内的几何厚度，优选在1.8nm至2.2nm范围内的几何厚度，更优选在1.9nm至2.1nm范围内的几何厚度。条款82：条款75至81任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50具有在147nm至181nm范围内的光学厚度，优选在155nm至172nm范围内、更优选在162nm至186nm范围内的光学厚度。条款83：条款75至82任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50具有在65nm至98nm范围内的几何厚度，优选在77nm至86nm范围内的几何厚度，更优选在81nm至83nm范围内的几何厚度。条款84：条款75至83任一项的低发射率涂层30，其中第二相调节层50包含第一膜52、第二膜54、第三膜56和任选的第四膜57，并且其中第一膜52和/或第三膜56和/或任选的第四膜57具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款85：条款84的低发射率涂层30，其中第二膜54具有在62nm至81nm范围内的几何厚度，优选在72nm至77nm范围内的几何厚度。条款86：条款75至85任一项的低发射率涂层30，其中第二金属功能层58具有在7nm至11nm范围内的几何厚度，优选在8.3nm至9.5nm范围内的几何厚度，更优选在8.7nm至8.9nm范围内的几何厚度。条款87：条款75至86任一项的低发射率涂层30，其中第二底漆层60具有在1.5nm至2.5nm范围内的几何厚度，优选在1.8nm至2.2nm范围内的几何厚度，更优选在1.9nm至2.1nm范围内的几何厚度。条款88：条款75至87任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62具有在59nm至73nm范围内的光学厚度，优选在62nm至68nm范围内的光学厚度，更优选在65nm至67nm范围内的光学厚度。条款89：条款75至88任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62具有在26nm至40nm范围内的几何厚度，优选在31nm至35nm范围内的几何厚度，更优选在32nm至34nm范围内的几何厚度。条款90：条款75至89任一项的低发射率涂层30，其中第三相调节层62包含第一膜64和第二膜66。条款91：条款90的低发射率涂层30，其中第一膜64具有在1nm至20nm范围内的几何厚度，优选在5nm至15nm范围内的几何厚度。条款92：条款90或91的低发射率涂层30，其中第二膜66具有在13nm至32nm范围内的几何厚度，优选在18nm至28nm范围内的几何厚度。条款93：条款75至92任一项的低发射率涂层30，其中保护层92具有在4nm至5nm范围内的几何厚度，优选在4.3nm至4.7nm范围内的几何厚度，更优选在4.4nm至4.6nm范围内的几何厚度。条款94：条款75至93任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在0.56至0.57范围内、优选在0.562至0.566范围内的参考igushgc。条款95：条款75至94任一项的低发射率涂层30，其中涂层30提供在0.299至0.320btu/hr-ft2-℉(1.7至1.82w/m2-k)范围内、优选在0.301至0.308btu/hr-ft2-℉(1.71至1.75w/m2-k)范围内的参考igu冬季/夜晚的u因数。条款96：条款1至95任一项的低发射率涂层30，其中该低发射率涂层30包括仅两个金属功能层46、58。条款97：条款1至96任一项的低发射率涂层30，其中第一金属功能层46比第二金属功能层58薄。条款98：条款1至97任一项的低发射率涂层30，其中第一金属功能层46具有在6nm至8nm范围内、优选在6.5nm至7.5nm范围内的几何厚度。条款99：条款1至98任一项的低发射率涂层30，其中第二金属功能层58具有在8nm至10nm范围内、优选在8.5nm至9.5nm范围内的几何厚度。条款100：条款1至99任一项的低发射率涂层30，其中第一金属功能层46的几何厚度除以第二金属功能层58的几何厚度的比率在0.6至1范围内。条款101：条款1至100任一项的低发射率涂层30，其中该低发射率涂层30包含：第一相调节层40，包含锌和锡的氧化物并具有84nm至103nm范围内的光学厚度；第一金属功能层46，位于该第一相调节层40上方并包含银，具有6nm至8nm范围内的几何厚度；第一底漆层48，位于该第一金属功能层46上方；第二相调节层50，位于该第一底漆层48上方并包含锌和锡的氧化物，具有155nm至178nm范围内的光学厚度；第二金属功能层58，位于该第二相调节层50上方并包含银，具有8nm至10nm范围内的几何厚度；第二底漆层60，位于该第二金属功能层58上方；第三相调节层62，位于该第二底漆层60上方并包含锌和锡的氧化物，具有55nm至68nm范围内的光学厚度；和保护层92，位于该第三相调节层62上方并具有10.5至13范围内的光学厚度。条款102：中空玻璃单元100、200，包含条款1至101任一项的低发射率涂层30。条款103：条款102的中空玻璃单元100、200，其中该中空玻璃单元100、200是在第三表面上具有低发射率涂层30的装双层玻璃的中空玻璃单元100。条款104：条款102的中空玻璃单元100、200，其中该中空玻璃单元100、200是在第五表面上具有低发射率涂层30的装三层玻璃的中空玻璃单元200。条款105：条款102的中空玻璃单元100、200，其中该中空玻璃单元100、200是在第五表面上具有低发射率涂层30并且第二涂层238位于第二表面216、第三表面220、或第四表面222上方，优选位于第二表面216或第三表面220上方，更优选位于第二表面上方的装三层玻璃的中空玻璃单元200。条款106：条款105的中空玻璃单元200，其中第二涂层238与第一涂层30相同。条款107：条款105或106的中空玻璃单元200，其中第二涂层238与第一涂层30不同。条款108：条款105至107任一项的中空玻璃单元200，其中第一涂层30具有两个金属功能层46、58，并且第二涂层238具有仅一个金属功能层。条款109：条款105至108任一项的中空玻璃单元200，其中第二涂层238具有比第一涂层30高的shgc。条款110：条款105至109任一项的中空玻璃单元200，其中第二涂层238具有比第一涂层30高的u因数。条款111：条款1至101任一项的低发射率涂层30在igu100、200中的用途。本领域技术人员将容易理解，在不脱离前述描述中公开的概念的情况下，可对本发明进行修改。因此，本文详细描述的特定实施方案仅是说明性的，并不限制本发明的范围，本发明的范围由所附权利要求书以及它的任何和所有等同物的全部范围给出。当前第1页12