一种负离子精陶色釉的制作方法与流程

文档序号:14979947发布日期:2018-07-20 19:55阅读:403来源:国知局

本发明涉及精陶色釉专用配方技术领域,尤其涉及一种负离子精陶色釉的制作方法。



背景技术:

随着生活水平的提高,人们对装饰材料的要求也朝向多功能方向和环保方向发展。负离子是空气中的氧分子结合了自由电子形成的,带有负电荷,具有多余的电子,有“空气维生素”、“空气维他命”的美誉。其主要的作用表现在:1、是对神经系统的影响。可使大脑皮层功能及脑力活动加强,精神振奋,工作效率提高,能使睡眠质量得到改善。2、是对心血管系统的影响。据学者观察,负离子有明显扩张血管作用,可解除动脉血管痉挛,达到降低血压的功效,负离子对于改善心血管功能和改善心肌营养也有很大好处,有利于高血压和心脑血管疾患病人的病情恢复。3、是对血液系统的影响。研究证实,负离子有使血液凝聚流速变慢,延长凝血时间的作用,能使血液中含氧量增加,有利于血氧输送,吸收和利用。

因此,开发一种可以释放对人体健康有益的空气负离子陶瓷釉料有着广阔的应用前景。



技术实现要素:

本发明要解决的技术问题是提供一种负离子精陶色釉的制作方法。该方法制得的精陶色釉将富有负离子矿物质原料按照相对应配比组合使用,不但满足相应的行业技术标准,同时还能在使用环境中使负离子浓度增加,促进人体新陈代谢,增进健康。

为解决上述技术问题,本发明采取的技术方案是:一种负离子精陶色釉的制作方法,所述方法包括以下步骤:

(1)根据基础釉料配比与加工方法,备好基础釉;

(2)将陶瓷颜料与水按质量比10:1比例混合,常温状态充分搅拌1~2h,过200目筛,然后加入到基础釉中搅拌4~5h,按照基础釉:陶瓷颜料质量比9:1制成色釉,所述陶瓷颜料为包裹系列;

(3)将负离子矿物原料直接加入色釉中,搅拌2~3h,制成均匀负离子精陶色釉;

(4)将经过高温烧制后的一次素坯用夹紧装置在清水中浸没停滞3~5s,过水均匀,无未过水干燥点,然后浸入负离子精陶色釉;

(5)将浸负离子精陶色釉后的色坯干燥48~52h后,再进行二次釉烧;

(6)将二次釉烧成型的产品自然冷却后装箱,即得负离子精陶色釉产品。

本发明所述步骤(1)中基础釉料配比为:熔块95~97%,苏州土3~5%。

本发明所述步骤(1)中基础釉料的熔块化学成分组成及质量百分含量为:sio2:45~50%、al2o3:6~7%、cao:4.5~5.0%、k2o:5~6%、na2o:2~3%、zno:7~8%。

本发明所述步骤(1)中基础釉料加工方法,按料:球:水=1:2.5:0.5的比例加入球磨机中,球磨30~35h,颗粒细度0.03~0.05g/万孔筛余。

本发明所述步骤(3)中负离子矿物原料由含有稀土元素和天然原生放射性核素的矿物组成。

本发明所述步骤(3)中色釉与负离子矿物原料质量比为4:1;所述步骤(4)中素坯一次素烧温度1100~1150℃。

本发明所述步骤(4)中负离子精陶色釉调制比重为1.70~1.75kg/cm3,浸釉时间3-3.5s,釉层厚度1.0~1.2mm。

本发明所述步骤(5)中浸负离子精陶色釉后的色坯干燥温度40~50℃。

本发明所述步骤(5)中干燥后的负离子精陶色釉色坯二次釉烧烧制温度1050~1080℃,烧制时间为8~9h。

本发明所述方法生产的负离子精陶色釉产品负离子个数≥3100个/cm2

本发明产品检测标准参考gb/t10815-2002《日用精陶器》,釉面硬度检测数值510~535kg/cm2。本发明负离子矿物原料选用上海大鸿制釉有限公司生产的负离子产品,型号dh8001。

本发明负离子精陶釉面活性瓷系列是经过反复试验与陶瓷釉面相结合,将负离子元素融入原有精陶釉料中,经高温烧制完美附着于精陶坯体上,经过国家权威部门检测,蜡烛台负离子釉面负离子个数高达3100个/cm2以上,能有效的增加人体免疫力及抗菌能力。负离子数量采用hd-3200型负离子检测仪检测。

本发明负离子色釉专用配方,将富有负离子矿物质原料按照相对应配比组合使用,在使用环境中使负离子浓度增加,促进人体新陈代谢,增进健康,同时充分考虑负离子矿石的生产特性,根据配比调整合适的加工参数,提高生产效率,改善生产质量。

采用上述技术方案所产生的有益效果在于:1、本发明通过充分考虑色釉的生产特性,根据配比调整出不同颜色,提高观赏性。2、本发明采用负离子色釉专用配方,将富有负离子矿物质原料按照相对应配比组合使用,在使用环境中使负离子浓度增加,促进人体新陈代谢,增进健康。3、本发明制作方法,充分考虑负离子矿石的生产特性,根据配比调整合适的加工参数,提高生产效率,改善生产质量。4、本发明方法生产的负离子精陶色釉产品负离子个数≥3100个/cm2

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步详细的说明。

实施例1

一种负离子精陶色釉的制作方法包括以下步骤:

(1)基础釉料配比为:熔块95%,苏州土5%;按料:球:水=1:2.5:0.5的比例加入球磨机中,球磨30h,颗粒细度0.03~0.05g/万孔筛余;

(2)将陶瓷颜料与水按质量比10:1比例混合,常温下充分搅拌2h,过200目筛,然后加入到基础釉中搅拌4h,按照基础釉:陶瓷颜料(包裹系列)质量比9:1制成色釉;

(3)将稀土元素和天然原生放射性核素的矿物组成为4:1的负离子矿物原料直接加入色釉中,搅拌3h,制成均匀负离子精陶色釉;

(4)将经过高温烧制后的一次素坯(一次素烧温度1130℃)在清水中浸没停滞3s,过水均匀,无未过水干燥点,然后浸入负离子精陶色釉,负离子精陶色釉调制比重为1.75kg/cm3,浸釉时间3s,釉层厚度1.0mm;

(5)将浸负离子精陶色釉后的色坯在40℃干燥52h后,再进行二次釉烧,二次釉烧烧制温度1050℃,烧制时间为8h;

(6)将二次釉烧成型的产品自然冷却后装箱,即得负离子精陶色釉。经检测,负离子釉面中负离子个数达3180个/cm2,釉面硬度检测数值520kg/cm2

实施例2

一种负离子精陶色釉的制作方法包括以下步骤:

(1)基础釉料配比为:熔块97%,苏州土3%;按料:球:水=1:2.5:0.5的比例加入球磨机中,球磨35h,颗粒细度0.03~0.05g/万孔筛余;

(2)将陶瓷颜料与水按质量比10:1比例混合,常温下充分搅拌1h,过200目筛,然后加入到基础釉中搅拌5h,按照基础釉:陶瓷颜料(包裹系列)质量比9:1制成色釉;

(3)将稀土元素和天然原生放射性核素的矿物组成为4:1的负离子矿物原料直接加入色釉中,搅拌2h,制成均匀负离子精陶色釉;

(4)将经过高温烧制后的一次素坯(一次素烧温度1120℃)在清水中浸没停滞5s,过水均匀,无未过水干燥点,然后浸入负离子精陶色釉,负离子精陶色釉调制比重为1.70kg/cm3,浸釉时间3.5s,釉层厚度1.2mm;

(5)将浸负离子精陶色釉后的色坯在50℃干燥48h后,再进行二次釉烧,二次釉烧烧制温度1080℃,烧制时间为9h;

(6)将二次釉烧成型的产品自然冷却后装箱,即得负离子精陶色釉。经检测,负离子釉面中负离子个数达3120个/cm2,釉面硬度检测数值530kg/cm2

实施例3

一种负离子精陶色釉的制作方法包括以下步骤:

(1)基础釉料配比为:熔块96%,苏州土4%;按料:球:水=1:2.5:0.5的比例加入球磨机中,球磨32h,颗粒细度0.03~0.04g/万孔筛余;

(2)将陶瓷颜料与水按质量比10:1比例混合,常温下充分搅拌1.5h,过200目筛,然后加入到基础釉中搅拌4.5h,按照基础釉:陶瓷颜料(包裹系列)质量比9:1制成色釉;

(3)将稀土元素和天然原生放射性核素的矿物组成为4:1的负离子矿物原料直接加入色釉中,搅拌2.5h,制成均匀负离子精陶色釉;

(4)将经过高温烧制后的一次素坯(一次素烧温度1100℃)在清水中浸没停滞4s,过水均匀,无未过水干燥点,然后浸入负离子精陶色釉,负离子精陶色釉调制比重为1.72kg/cm3,浸釉时间3.2s,釉层厚度1.1mm;

(5)将浸负离子精陶色釉后的色坯在43℃干燥50h后,再进行二次釉烧,二次釉烧烧制温度1065℃,烧制时间为8.5h;

(6)将二次釉烧成型的产品自然冷却后装箱,即得负离子精陶色釉经检测,负离子釉面中负离子个数达3200个/cm2,釉面硬度检测数值535kg/cm2

实施例4

一种负离子精陶色釉的制作方法包括以下步骤:

(1)基础釉料配比为:熔块95.5%,苏州土4.5%;按料:球:水=1:2.5:0.5的比例加入球磨机中,球磨33h,颗粒细度0.04~0.05g/万孔筛余;

(2)将陶瓷颜料与水按质量比10:1比例混合,常温下充分搅拌2h,过200目筛,然后加入到基础釉中搅拌4h,按照基础釉:陶瓷颜料(包裹系列)质量比9:1制成色釉;

(3)将稀土元素和天然原生放射性核素的矿物组成为4:1的负离子矿物原料直接加入色釉中,搅拌3h,制成均匀负离子精陶色釉;

(4)将经过高温烧制后的一次素坯(一次素烧温度1150℃)在清水中浸没停滞5s,过水均匀,无未过水干燥点,然后浸入负离子精陶色釉,负离子精陶色釉调制比重为1.74kg/cm3,浸釉时间3.4s,釉层厚度1.2mm;

(5)将浸负离子精陶色釉后的色坯在47℃干燥51h后,再进行二次釉烧,二次釉烧烧制温度1075℃,烧制时间为9h;

(6)将二次釉烧成型的产品自然冷却后装箱,即得负离子精陶色釉经检测,负离子釉面中负离子个数达3150个/cm2,釉面硬度检测数值515kg/cm2

以上实施例仅用以说明而非限制本发明的技术方案,尽管参照上述实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解:依然可以对本发明进行修改或者等同替换,而不脱离本发明的精神和范围的任何修改或局部替换,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

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