本发明涉及金云母粉技术领域，尤其涉及一种金云母粉的制备方法。
背景技术：
金云母是白云母类矿物中的一种，属单斜晶体层状硅酸盐矿物，它是含铁、镁和钾的一种铝硅酸盐，金云母成分中的铁如果不算多的话，它就可以作为电绝缘材料，其广泛的应用于建材行业、消防行业、灭火剂、电焊条、塑料、电绝缘、造纸、沥青纸、橡胶、珠光颜料等化工工业。纯天然绿色的金云母粉，无需添加任何色素即可直接用于粉饼、bb霜、散粉、粉底液、面膜等，收到业界的高度赞誉。现有的生产工艺生产的金云母粉纯度不高，杂志清除不够干净，生产效率不高，所以现提出了一种金云母粉的制备方法。
技术实现要素：
基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种金云母粉的制备方法。
本发明提出的一种金云母粉的制备方法，包括以下步骤：
s1：选材，通过人工对金云母矿石进行筛选，并对筛选的金云母矿石进行冲洗和烘干处理；
s2：湿法剥片，将拣选的优质金云母矿石原料采用湿法剥片，通过水洗、除杂、浸泡、碾压制成片状初料a；
s3：研磨，将片状初料a进行低温干燥脱水，并使用轮碾机碾压，再通过研磨机进行研磨，制出金云母颗粒b；
s4：水洗筛分，将金云母颗粒b投入到分离筛中，并注入适量纯水，去除漂浮的杂质，然后筛分的金云母颗粒b投入到容器中，注入纯水，通过搅拌装置搅拌混合得到悬浊液c；
s5：离心沉淀，将悬浊液c投入到离心分离设备中，在离心设备作用下，分离去除上层溶液，将下层沉淀注入适量纯水混合搅拌，得到悬浊液d；
s6：磁选，将悬浊液d投入到高梯度磁选机中进行磁选，去除悬浊液d中的金属物质，得到悬浊液e；
s7：脱水处理，将悬浊液e投入到抽滤设备中进行抽滤脱水，得到块状金云母f；
s8：烘干，将块状金云母f投入到烘干设备中进行烘干处理；
s9：再次研磨，将经过烘干处理的块状金云母f放入三辊研磨机中，进行研磨处理，得到金云母粉体。
优选地，所述s7中，抽滤过程中向抽滤设备中注入适量的纯水，进行水洗，重复三到五次。
优选地，所述s9中，先对三辊研磨机中的研磨辊进行清理，去除研磨辊表面的铁锈。
优选地，所述s6中，对悬浊液d进行三次磁选，重复三次将悬浊液d投入到高梯度磁选机中，并对筛除的还有金属的杂质进行集中收集。
优选地，所述s4，向金云母颗粒b中注入适量的酸性溶剂，去除金云母颗粒b中的碳酸钙成分，并进行4到5次纯水冲洗。
优选地，所述s5中，对分离去除的上层溶液进行静置沉淀，回收下层沉淀。
本发明中的有益效果为：
1.通过进行水洗筛分，方便去除密度较小的杂质，结合酸性溶剂，可以去除碳酸钙等酸溶性杂质，有利于提高金云母粉的纯度，提高产品质量。
2.通过进行的抽滤处理，提高过滤效率，提高工作效率，方便去除残留的酸性组份，方便去除游离的杂质离子，结合对上层溶液进行静置沉淀，方便回收，提高产量，节约生产成本。
附图说明
图1为本发明提出的一种金云母粉的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1，一种金云母粉的制备方法，包括以下步骤：
s1：选材，通过人工对金云母矿石进行筛选，并对筛选的金云母矿石进行冲洗和烘干处理；
s2：湿法剥片，将拣选的优质金云母矿石原料采用湿法剥片，通过水洗、除杂、浸泡、碾压制成片状初料a；
s3：研磨，将片状初料a进行低温干燥脱水，并使用轮碾机碾压，再通过研磨机进行研磨，制出金云母颗粒b；
s4：水洗筛分，将金云母颗粒b投入到分离筛中，并注入适量纯水，去除漂浮的杂质，然后筛分的金云母颗粒b投入到容器中，注入纯水，通过搅拌装置搅拌混合得到悬浊液c；
s5：离心沉淀，将悬浊液c投入到离心分离设备中，在离心设备作用下，分离去除上层溶液，将下层沉淀注入适量纯水混合搅拌，得到悬浊液d；
s6：磁选，将悬浊液d投入到高梯度磁选机中进行磁选，去除悬浊液d中的金属物质，得到悬浊液e；
s7：脱水处理，将悬浊液e投入到抽滤设备中进行抽滤脱水，得到块状金云母f；
s8：烘干，将块状金云母f投入到烘干设备中进行烘干处理；
s9：再次研磨，将经过烘干处理的块状金云母f放入三辊研磨机中，进行研磨处理，得到金云母粉体。
本发明中，s7中，抽滤过程中向抽滤设备中注入适量的纯水，进行水洗，重复三到五次，s9中，先对三辊研磨机中的研磨辊进行清理，去除研磨辊表面的铁锈，s6中，对悬浊液d进行三次磁选，重复三次将悬浊液d投入到高梯度磁选机中，并对筛除的还有金属的杂质进行集中收集，s4，向金云母颗粒b中注入适量的酸性溶剂，去除金云母颗粒b中的碳酸钙成分，并进行4到5次纯水冲洗，s5中，对分离去除的上层溶液进行静置沉淀，回收下层沉淀。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。