一种具有反光闪亮点的玻璃的制作方法

本实用新型涉及一种玻璃，特别是一种具有反光闪亮点的玻璃。

背景技术：

目前，一些生产厂家为了使玻璃在光的照射下，能形成反光闪亮点，以实现保护隐私及起到装饰的效果，往往在玻璃的一面上涂布具有反光效果闪光粉，因为闪光粉是通过喷涂而涂设于玻璃上的，因而闪光粉很容易被尖锐物刮擦而脱落，这样会在玻璃上形成刮痕，影响了装饰玻璃的美观性；另外，闪光粉被刮掉的位置还会失去了反光闪亮的装饰效果，使现有这样的玻璃产品存在使用寿命短的缺点；此外，当这类玻璃产品作为滑鼠板等配合电子产品进行使用时，由于闪光粉大多为金属粉，金属粉会导电，致使电子产品在使用时容易受到静电的干扰，影响使用效果。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种具有反光闪亮点的玻璃，该具有反光闪亮点的玻璃具有结构简单、正面防刮效果好、绝缘效果好及使用寿命长等优点。本实用新型还涉及一种具有反光闪亮点的玻璃的生产工艺，采用该生产工艺生产出的玻璃的蒙砂蚀刻面经光线照射时会产生反光闪亮点，无光照射时依然是透明玻璃，使该生产工艺生产的玻璃具有很好的保护隐私作用和装饰效果。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种具有反光闪亮点的玻璃，包括正面和背面，其特点在于所述正面是通过蚀刻处理而形成具有凹凸结构的粗糙面；所述正面的表面粗糙度定义如下：ra在1.5～2.5μm的范围内，rsm在150～250μm的范围内，rz在7～15μm的范围内。

进一步地，所述玻璃的穿透率在85％～92％的范围内。

再进一步地，所述玻璃的正面的60度角的光泽度在10～50sgu的范围内。

又再进一步地，所述玻璃的背面上布设有一层底油层。

本具有反光闪亮点的玻璃的有益效果：通过在正面进行蚀刻处理而使正面上布满凹凸结构，当光线往正面照射时，正面上面的凹凸结构具有集光的作用，使照射光经反复折射后在正面的凹位处形成闪亮点，采用蚀刻处理形成正面上的凹凸结构，使本具有反光闪亮点的玻璃的正面具有良好的防刮性能，而且不需要用到金属材质的闪光粉，使本具有反光闪亮点的玻璃具有结构简单、正面防刮效果好、绝缘效果好及使用寿命长等优点。

本实用新型还涉及一种具有反光闪亮点的玻璃的生产工艺，其特点在于该生产工艺的步骤如下：

步骤一：配制蒙砂蚀刻液；先将重量份氟化氢铵1～1.5份、氟化铵0.5～0.8份和水1～1.5份搅拌均匀，再加入氟化钠0.2～0.4份或氟化钙0.3～0.5份后熟化24h；

步骤二：蚀刻前准备；用3％～5％的氢氟酸溶液或7～15％的盐酸对玻璃的待蒙砂蚀刻面进行抹洗，并对玻璃的非蒙砂蚀刻面进行耐酸保护，最后将玻璃以待蒙砂蚀刻面朝上的方式放进药水槽箱中；

步骤三：浸泡；将重量份1～1.5份的无机酸加入到步骤一制备好的蒙砂蚀刻液中搅拌并倒入药水槽箱中，静止浸泡3～25min；

步骤四：浸泡时间到达后将玻璃取出，用清水清洗干净，得到玻璃产品，该玻璃的蒙砂蚀刻面的表面粗糙度定义如下：ra在1.5～2.5μm的范围内，rsm在150～250μm的范围内，rz在7～15μm的范围。

进一步地，所述步骤二中的对玻璃的非蒙砂蚀刻面进行耐酸保护是：在非蒙砂蚀刻面上铺设一层耐酸膜或涂覆上耐酸油墨作为保护层。

本具有反光闪亮点的玻璃的生产工艺的有益效果：本生产工艺通过合理重量份比的氟化氢铵、氟化铵、水、无机酸与氟化钠或氟化钙配制形成的蒙砂蚀刻液对玻璃进行浸泡3～25min后，得到了ra在1.5～2.5μm的范围内、rsm在150～250μm的范围内、rz在7～15μm的范围的蒙砂蚀刻面，这样的玻璃的蒙砂蚀刻面经光线照射时会产生反光闪亮点，无光照射时依然是透明玻璃，使该生产工艺生产的玻璃具有很好的保护隐私作用和装饰效果。

附图说明

图1为实施例1的主视图。

图2为实施例1的俯视图。

图3为实施例1的正面的局部平面放大图。

图4为实施例1的正面的局部三维放大图。

附图标记说明：1-玻璃；11-正面；12-底油层。

具体实施方式

实施例1

如图1、图2所示，本实施例是一种具有反光闪亮点的玻璃，包括正面11和背面，所述正面11是通过蚀刻处理而形成具有凹凸结构的粗糙面。本实施例通过在正面11进行蚀刻处理而使正面11上布满凹凸结构，当光线往正面11照射时，正面11上面的凹凸结构具有集光的作用，使照射光经反复折射后在正面11的凹位处形成闪亮点，采用蚀刻处理形成正面11上的凹凸结构，使本玻璃产品的正面11具有良好的防刮性能，而且不需要用到金属材质的闪光粉，使本实施例的玻璃具有结构简单、正面防刮效果好、绝缘效果好及使用寿命长等优点。

为了使本实施例的玻璃1具有金属质感，使正面11的反光效果更好，如图1所示，所述玻璃1的背面上布设有一层底油层12，该背面是正面11相对的另一面。

本实施例的正面11的结构如图2、图3、图4所示，本实施例中使用日本三丰mitutoyosj-310粗糙度仪对如图2中的a取样段、b取样段、c取样段、d取样段、e取样段进行测量，测量时用波长为0.8毫米的高斯滤波。a取样段、b取样段、c取样段、d取样段、e取样段的粗糙度的具体测量值及光学参数的测量值在下表中给出：

a取样段的粗糙度测量值、b取样段的粗糙度测量值、c取样段的粗糙度测量值、d取样段的粗糙度测量值、e取样段的粗糙度测量值表征了本实施例的正面11的结构参数。

当正面11的ra的平均值在1.5～2.5μm的范围内，rsm的平均值在150～250μm的范围内，rz的平均值在7～15μm的范围内时，玻璃1的穿透率在85％～92％的范围内，正面11的60度角的光泽度在10～50sgu的范围内。采用光源对本实施例的正面11进行照射时，检测者可观察到正面上具有明显的反光闪亮点，且反光闪亮点的密度相对于现有喷闪光粉的玻璃更为密集，反光闪亮点的亮度也更高而且具有很好的防刮性能，使用寿命长。

在这里需要说明的是：玻璃板的蚀刻表面通常的特征在于其表面纹理或粗糙度，并且特别地在于在标准iso4287-1997中定义的ra、rz和rsm值(单位为微米)。纹理/粗糙度是表面不规则物/图案存在的结果。这些不规则物由称为“峰”的凸起和称为“谷”的凹陷组成。在垂直于蚀刻表面的部分上，这些峰和谷分布在也称为“等分线”的“中心线”(代数平均)的任一侧。在轮廓中并且对于沿固定长度(称为“评价长度”)的测量：

-ra(幅值)对应于纹理的平均差值，即，指这些峰与谷之间的差值的绝对值的算术平均值。ra测量了该平均值与该“线”之间的距离并且给出了蚀刻表面上的图案的高度的指示；

-rz(幅值)对应于“十点平均粗糙度”，并且是5个最高峰之间的平均峰和5个最低谷之间的平均谷的总和。

-rsm(间距值)是通过“等分线”的该轮廓的两个连续通道之间的平均距离；并且这给出了在这些“峰”之间的平均距离以及因此图案的宽度的平均值。

本实施例中的光学特征定义如下：

-穿透率，是表示光线透过介质的的能力，是透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率。

-光泽度是在一组几何规定条件下对材料表面反射光的能力进行评价的物理量。

实施例2

本实施例是一种具有反光闪亮点的玻璃的生产工艺，该生产工艺的步骤如下：

步骤一：配制蒙砂蚀刻液；先将重量份氟化氢铵1.3份、氟化铵0.7份和水1.3份搅拌均匀，再加入氟化钠0.3份后熟化24h；

步骤二：蚀刻前准备；用4％的氢氟酸溶液对玻璃的待蒙砂蚀刻面进行抹洗，并对玻璃的非蒙砂蚀刻面进行耐酸保护，最后将玻璃以待蒙砂蚀刻面朝上的方式放进药水槽箱中；

步骤三：浸泡；将重量份1.3份的无机酸加入到步骤一制备好的蒙砂蚀刻液中搅拌并倒入药水槽箱中，静止浸泡14min；

步骤四：浸泡时间到达后将玻璃取出，用清水清洗干净，得到实施例1没进行底油层涂覆时玻璃产品，这样的玻璃的蒙砂蚀刻面(也就是实施例1中所述的玻璃的正面)经光线照射时会产生反光闪亮点，无光照射时依然是透明玻璃，使该生产工艺生产的玻璃具有很好的保护隐私作用和装饰效果。

进一步地，所述步骤二中的对玻璃的非蒙砂蚀刻面进行耐酸保护是：在非蒙砂蚀刻面上涂覆上耐酸油墨作为保护层。