具有基于氮化钛和ITO的IR反射层的可热处理涂覆制品的制作方法

文档序号:19153226发布日期:2019-11-16 00:19阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种涂覆制品,包括由玻璃基底支撑的涂层,所述涂层包括:

包含ito的第一红外(ir)反射层,所述包含ito的第一红外(ir)反射层在所述玻璃基底上;

包含氮化硅的第一电介质层,所述包含氮化硅的第一电介质层在所述玻璃基底上在至少所述包含ito的第一ir反射层上方;

包含钛的氮化物的第二层ir反射层,所述包含钛的氮化物的第二层ir反射层在所述玻璃基底上在至少所述包含氮化硅的第一电介质层上方,使得所述包含氮化硅的第一电介质层定位在至少所述包含ito的第一ir反射层与所述包含钛的氮化物的第二ir反射层之间;

包含氮化硅的第二电介质层,所述包含氮化硅的第二电介质层在所述玻璃基底上在至少所述包含钛的氮化物的第二ir反射层上方;

其中所述涂层不含基于银的ir反射层;

其中所述涂层具有不大于0.30的法向发射率(en)值;并且

其中单片地测量的所述涂覆制品具有:约15%至80%的可见光透射率,不大于10%的膜侧可见光反射率,不大于约30%的玻璃侧可见光反射率,-10.0至+1.6的玻璃侧反射a*值,以及至少1.10的光-太阳能增益比(lsg)。

2.根据权利要求1所述的涂覆制品,其中所述涂层仅含有两个ir反射层。

3.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述包含氮化硅的第一电介质层定位在所述第一ir反射层与所述第二ir反射层之间并且直接接触所述第一ir反射层和所述第二ir反射层。

4.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述包含钛的氮化物的第二ir反射层包含tinx,其中x为0.8至1.2。

5.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述包含钛的氮化物的第二ir反射层包含tinx,其中x为0.9至1.1。

6.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述第二ir反射层含有0%至8%的氧(原子%)。

7.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述第二ir反射层含有0%至5%的氧(原子%)。

8.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂层还包括包含氮化硅的另一个电介质层,所述包含氮化硅的另一个电介质层定位在所述玻璃基底与所述第一ir反射层之间并且接触所述玻璃基底和所述第一ir反射层。

9.根据权利要求8所述的涂覆制品,其中所述包含氮化硅的另一个电介质层还包含氧。

10.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述第二ir反射层基本上由所述钛的氮化物组成。

11.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂层还包括包含锆的氧化物的外覆层。

12.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂覆制品具有约20%至70%的可见光透射率和至少1.15的光-太阳能增益比(lsg)。

13.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂覆制品具有至少1.22的光-太阳能增益比(lsg)。

14.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂覆制品具有不大于8%的膜侧可见光反射率。

15.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂覆制品具有不大于5%的膜侧可见光反射率。

16.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述玻璃基底是透明玻璃基底。

17.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂覆制品具有-8至+1.0的玻璃侧反射a*值和-9至+9的膜侧反射a*值。

18.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述包含氮化硅的电介质层中的一个或多个还包含氧并且掺杂有铝。

19.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述涂覆制品是单片窗。

20.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中单片地测量的所述涂覆制品具有不大于0.52的shgc值。

21.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中单片地测量的所述涂覆制品具有不大于0.45的shgc值。

22.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述包含ito的第一ir反射层为厚,并且所述包含钛的氮化物的第二ir反射层为厚。

23.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品,其中所述包含ito的第一ir反射层为厚,和/或所述包含钛的氮化物的第二ir反射层为厚。

24.一种涂覆制品,包括由玻璃基底支撑的涂层,所述涂层包括:

包含ito的第一红外(ir)反射层,所述包含ito的第一红外(ir)反射层在所述玻璃基底上;

包含氮化硅的第一电介质层,所述包含氮化硅的第一电介质层在所述玻璃基底上在至少所述包含ito的第一ir反射层上方;

包含钛的氮化物的第二层ir反射层,所述包含钛的氮化物的第二层ir反射层在所述玻璃基底上在至少所述包含氮化硅的第一电介质层上方,使得所述包含氮化硅的第一电介质层定位在至少所述包含ito的第一ir反射层与所述包含钛的氮化物的第二ir反射层之间;

包含氮化硅的第二电介质层,所述包含氮化硅的第二电介质层在所述玻璃基底上在至少所述包含钛的氮化物的第二ir反射层上方;

其中所述涂层不含基于银的ir反射层;

其中所述涂层具有不大于0.30的法向发射率(en)值;并且

其中单片地测量的所述涂覆制品具有约15%至80%的可见光透射率和至少1.15的光-太阳能增益比(lsg)。

25.一种涂覆制品,包括由玻璃基底支撑的涂层,所述涂层包括:

包含ito的第一红外(ir)反射层,所述包含ito的第一红外(ir)反射层在所述玻璃基底上;

第一电介质层,所述第一电介质层在所述玻璃基底上在所述包含ito的第一ir反射层上方并且直接接触所述包含ito的第一ir反射层;

包含金属氮化物的第二层ir反射层,所述包含金属氮化物的第二层ir反射层在所述玻璃基底上在所述第一电介质层上方并且直接接触所述第一电介质层,使得所述第一电介质层定位在所述包含ito的第一ir反射层与所述包含金属氮化物的第二ir反射层之间并且直接接触所述包含ito的第一ir反射层和所述包含金属氮化物的第二ir反射层;

第二电介质层,所述第二电介质层在所述玻璃基底上在所述包含金属氮化物的第二ir反射层上方并且直接接触所述包含金属氮化物的第二ir反射层;

其中所述涂层不含基于银的ir反射层;并且

其中所述涂覆制品具有约15%至80%的可见光透射率。

26.根据权利要求25所述的涂覆制品,其中所述涂层具有不大于0.30的法向发射率(en)值。

27.根据权利要求25至26中任一项所述的涂覆制品,其中所述金属氮化物是钛的氮化物。

28.根据权利要求25至27中任一项所述的涂覆制品,其中所述第一电介质层和/或所述第二电介质层包含氮化硅。

29.根据权利要求25至28中任一项所述的涂覆制品,其中所述涂覆制品具有:不大于10%的膜侧可见光反射率,不大于约30%的玻璃侧可见光反射率,-10.0至+1.6的玻璃侧反射a*值,以及至少1.10的光-太阳能增益比(lsg)。

30.一种制造包括由玻璃基底支撑的涂层的涂覆制品的方法,所述方法包括:

在所述玻璃基底上溅射沉积包含ito的第一红外(ir)反射层;

在所述玻璃基底上在至少所述包含ito的第一ir反射层上方溅射沉积包含氮化硅的第一电介质层;

在所述玻璃基底上在至少所述包含氮化硅的第一电介质层上方溅射沉积包含钛的氮化物的第二层ir反射层,使得所述包含氮化硅的第一电介质层定位在至少所述包含ito的第一ir反射层与所述包含钛的氮化物的第二ir反射层之间;

在所述玻璃基底上在至少所述第一ir反射层和所述第二ir反射层上方溅射沉积包含氮化硅的第二电介质层,使得所述涂层不含基于银的ir反射层,所述涂层具有不大于0.30的法向发射率(en)值,并且单片地测量的所述涂覆制品具有:(i)约15%至80%的可见光透射率,(ii)不大于10%的膜侧可见光反射率,(iii)不大于约30%的玻璃侧可见光反射率,(iv)-10.0至+1.6的玻璃侧反射a*值,和(v)至少1.10的光-太阳能增益比(lsg)。


技术总结
本发明公开了涂覆制品,其包括任选地夹置在至少电介质层之间的两个或更多个功能性红外(IR)反射层。电介质层可具有或包含氮化硅等。IR反射层中的至少一个具有或包含氮化钛(例如,TiN),并且IR反射层中的至少另一个具有或包含氧化铟锡(ITO)。

技术研发人员:布伦特·博伊斯;卢易伟;丁国文;塞萨尔·克拉韦罗;丹尼尔·施魏格特;明·辉·黎
受保护的技术使用者:佳殿玻璃有限公司
技术研发日:2018.02.21
技术公布日:2019.11.15
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