本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液及其使用方法。
背景技术：
激光技术具有速度快、精度高和效率高等优点，近几年逐渐用于手机镜片的加工领域，激光加工后的手机镜片需要进行减薄处理。通常使用的减薄方法有两种，一种是物理方法，即使用抛光粉进行研磨抛光，这种方法减薄时间长，精度不好控制，产品良率低；另一种方法为化学蚀刻法，这种方法减薄时间短，设备投入小，产品良率高，且减薄液的成分简单，成本低，逐渐成为了减薄的主流技术方法。现有技术中的蚀刻液，在蚀刻过程中，会把激光加工过程中手机镜片表面产生的凹点和划伤等缺陷放大，直通率低，后期全部需要再次经过研磨处理手机镜片，才能克服其表面缺陷。
现有技术中，在手机摄像头镜片的cd纹，常用的工艺是丝印和转印这两种工艺，首先，丝印和转印工艺，在制程中由于是采用油墨会产生微小溢油，在设备上放大之后，线条不整齐，产品的纹理不够清晰，精密度不够。其次，丝印和转印工艺得到的纹路是凸起的，产品使用寿命不长，存在纹理脱落的隐患。
技术实现要素：
为了解决上述问题，本发明提供一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液及其使用方法，该方法用于处理摄像头镜片产品表面，使摄像头镜片纹路产生金属反光，让纹路更清晰、线条更完美，质感更好，产品更高档，具有技术方案如下：
本发明的目的在于提供一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液，其技术点在于：所述的用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液按重量份数计，其制备原料包括：2～4份的氢氟酸溶液，6～8份的硫酸溶液、5～6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和79～84份的水。
在本发明有的实施例中，所述的氢氟酸溶液中含有的氢氟酸分子的重量分数为10～40wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的氯化物的含量为0～0.001wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的硫酸盐的含量为0～0.002wt％
在本发明有的实施例中，所述的硫酸溶液中含有的硫酸分子的重量分数为75～98.3wt％
在本发明有的实施例中，所述的盐酸溶液中hcl分子的含量为10～38wt％。
在本发明有的实施例中，所述的醋酸溶液中醋酸分子的含量为36～38wt％。
本发明的另外一个目的在于提供一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液的使用方法，其技术点在于：包括以下步骤：
s1.将2～4份的氢氟酸溶液，6～8份的硫酸溶液、5～6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和79～84份的水加入配料槽中混合均匀得到混合液，搅拌均匀后稀释得到摄像头镜片cd纹蚀刻液；
s2.将所述的步骤s2中制备得到的摄像头镜片cd纹蚀刻液以2.5～6μm/min的速率蚀刻所述的摄像头镜片cd纹。
在本发明有的实施例中，所述的步骤s1中混合液的搅拌温度为50～60℃，搅拌时间为10～20min。
在本发明有的实施例中，所述的步骤s1中稀释后的摄像头镜片cd纹蚀刻液的浓度为10～50wt％。
与现有技术相比，本发明的有益效果：
本发明的一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液里含的氢氟酸，是让产品纹路进行蚀刻，达到工艺设计的深度；本方面的蚀刻液里含的硫酸，是抑制玻璃原材的气泡点和修复在前制程产生的微小划伤，避免被放大，导致不良产生；本发明的蚀刻液里含的盐酸，是让蚀刻玻璃时产生的玻璃粉，能让纹路中的玻璃粉及时脱落，不会造成粗糙不平；本发明的蚀刻液里含的醋酸，是让产品的表观更加光亮，使cd纹金属反光更清晰。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，以使本领域的技术人员能够更好的理解本发明的优点和特征，从而对本发明的保护范围做出更为清楚的界定。本发明所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液按重量份数计，其制备原料包括：2份的氢氟酸溶液，6份的硫酸溶液、5份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和84份的水。
其中，氢氟酸溶液中含有的氢氟酸分子的重量分数为10wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的氯化物的含量为0.001wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的硫酸盐的含量为0.002wt％
其中，硫酸溶液中含有的硫酸分子的重量分数为75wt％
其中，盐酸溶液中hcl分子的含量为10wt％。
其中，醋酸溶液中醋酸分子的含量为36wt％。
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液的使用方法,包括以下步骤：
s1将2份的氢氟酸溶液，6份的硫酸溶液、5份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和84份的水加入配料槽中混合均匀得到混合液，搅拌均匀后稀释得到摄像头镜片cd纹蚀刻液；
s2将所述的步骤s2中制备得到的摄像头镜片cd纹蚀刻液以2.5μm/min的速率蚀刻所述的摄像头镜片cd纹。
其中，步骤s1中混合液的搅拌温度为50℃，搅拌时间为20min。
其中，步骤s1中稀释后的摄像头镜片cd纹蚀刻液的浓度为10wt％。
实施例2
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液按重量份数计，其制备原料包括：2.5份的氢氟酸溶液，6份的硫酸溶液、5份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和83.5份的水。
其中，氢氟酸溶液中含有的氢氟酸分子的重量分数为20wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的氯化物的含量为0.0005wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的硫酸盐的含量为0.001wt％
其中，硫酸溶液中含有的硫酸分子的重量分数为80wt％
其中，盐酸溶液中hcl分子的含量为15wt％。
其中，醋酸溶液中醋酸分子的含量为37wt％。
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液的使用方法,包括以下步骤：
s1.将2.5份的氢氟酸溶液，6份的硫酸溶液、5份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和83.5份的水加入配料槽中混合均匀得到混合液，搅拌均匀后稀释得到摄像头镜片cd纹蚀刻液；
s2.将所述的步骤s2中制备得到的摄像头镜片cd纹蚀刻液以3μm/min的速率蚀刻所述的摄像头镜片cd纹。
其中，步骤s1中混合液的搅拌温度为55℃，搅拌时间为15min。
其中，步骤s1中稀释后的摄像头镜片cd纹蚀刻液的浓度为20wt％。
实施例3
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液按重量份数计，其制备原料包括：3份的氢氟酸溶液，8份的硫酸溶液、6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和80份的水。
其中，氢氟酸溶液中含有的氢氟酸分子的重量分数为30wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的氯化物的含量为0.001wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的硫酸盐的含量为0.002wt％
其中，硫酸溶液中含有的硫酸分子的重量分数为90wt％
其中，盐酸溶液中hcl分子的含量为20wt％。
其中，醋酸溶液中醋酸分子的含量为38wt％。
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液的使用方法,包括以下步骤：
s1.将3份的氢氟酸溶液，8份的硫酸溶液、6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和80份的水加入配料槽中混合均匀得到混合液，搅拌均匀后稀释得到摄像头镜片cd纹蚀刻液；
s2.将所述的步骤s2中制备得到的摄像头镜片cd纹蚀刻液以4.5μm/min的速率蚀刻所述的摄像头镜片cd纹。
其中，步骤s1中混合液的搅拌温度为60℃，搅拌时间为10min。
其中，步骤s1中稀释后的摄像头镜片cd纹蚀刻液的浓度为40wt％。
实施例4
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液按重量份数计，其制备原料包括：4份的氢氟酸溶液，8份的硫酸溶液、6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和79份的水。
其中，氢氟酸溶液中含有的氢氟酸分子的重量分数为40wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的氯化物的含量为0.001wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的硫酸盐的含量为0.002wt％
其中，硫酸溶液中含有的硫酸分子的重量分数为98.3wt％
其中，盐酸溶液中hcl分子的含量为38wt％。
其中，醋酸溶液中醋酸分子的含量为38wt％。
一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液的使用方法,包括以下步骤：
s1.将4份的氢氟酸溶液，8份的硫酸溶液、6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和79份的水加入配料槽中混合均匀得到混合液，搅拌均匀后稀释得到摄像头镜片cd纹蚀刻液；
s2.将所述的步骤s2中制备得到的摄像头镜片cd纹蚀刻液以6μm/min的速率蚀刻所述的摄像头镜片cd纹。
其中，步骤s1中混合液的搅拌温度为60℃，搅拌时间为10min。
其中，步骤s1中稀释后的摄像头镜片cd纹蚀刻液的浓度为50wt％。
实验例
选取实施例1～5制备得到的摄像头镜片cd纹，进行深度测试和外观测试，测试结果如表1：
表1
在表1中的数据中可以得出结论，实施例4刻蚀液配方中，效果最佳，纹路线条几乎都是完美的，而且配制简单，成本低，可以广泛推广。
最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。